JPS5826045A - 光フアイバの製造方法および装置 - Google Patents
光フアイバの製造方法および装置Info
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- JPS5826045A JPS5826045A JP13300582A JP13300582A JPS5826045A JP S5826045 A JPS5826045 A JP S5826045A JP 13300582 A JP13300582 A JP 13300582A JP 13300582 A JP13300582 A JP 13300582A JP S5826045 A JPS5826045 A JP S5826045A
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- JP
- Japan
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- manufacturing
- preform
- glass
- core glass
- optical fiber
- Prior art date
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B37/00—Manufacture or treatment of flakes, fibres, or filaments from softened glass, minerals, or slags
- C03B37/01—Manufacture of glass fibres or filaments
- C03B37/012—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments
- C03B37/014—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD]
- C03B37/01413—Reactant delivery systems
- C03B37/0142—Reactant deposition burners
- C03B37/01426—Plasma deposition burners or torches
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B37/00—Manufacture or treatment of flakes, fibres, or filaments from softened glass, minerals, or slags
- C03B37/01—Manufacture of glass fibres or filaments
- C03B37/02—Manufacture of glass fibres or filaments by drawing or extruding, e.g. direct drawing of molten glass from nozzles; Cooling fins therefor
- C03B37/025—Manufacture of glass fibres or filaments by drawing or extruding, e.g. direct drawing of molten glass from nozzles; Cooling fins therefor from reheated softened tubes, rods, fibres or filaments, e.g. drawing fibres from preforms
- C03B37/027—Fibres composed of different sorts of glass, e.g. glass optical fibres
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B2205/00—Fibre drawing or extruding details
- C03B2205/30—Means for continuous drawing from a preform
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、気相からコアガラスおよび被覆ガラスをデポ
ジットして始発部材から延びる棒状前形成体を形放し、
かつ、前記始発部材を前形成体の長さが増大するのと同
じ速度でデポジション領域から移動させることによって
、光ファイバの前形成体（ｐｒｅｆｏｒｍ ）を連続的
に製造する方法に関するものである。
ジットして始発部材から延びる棒状前形成体を形放し、
かつ、前記始発部材を前形成体の長さが増大するのと同
じ速度でデポジション領域から移動させることによって
、光ファイバの前形成体（ｐｒｅｆｏｒｍ ）を連続的
に製造する方法に関するものである。
光電気通信の分野では、光ファイバの引抜きのために大
きなサイズの前形成物に対する要求が増大しつつある。
きなサイズの前形成物に対する要求が増大しつつある。
前形成、物を製造する方法は、米国特許第４．ｏ６２．
６６５号明細書に開示されている。この米国特許明細書
に開示されている製造方法では、コアおよび被覆材料の
粒子を、始発材料にデポジットさせている。これにより
多孔性前影ぽ物が得られ、これをその後に加熱によりガ
ラス化している。この処理後に、前形成物をファイバに
引抜くことができる。
６６５号明細書に開示されている。この米国特許明細書
に開示されている製造方法では、コアおよび被覆材料の
粒子を、始発材料にデポジットさせている。これにより
多孔性前影ぽ物が得られ、これをその後に加熱によりガ
ラス化している。この処理後に、前形成物をファイバに
引抜くことができる。
本発明の目的は、なんらの中間処理を必要とすることな
くファイバを引抜くことのできる大サイズの固体前形成
物を製造する方法を提供することにある。
くファイバを引抜くことのできる大サイズの固体前形成
物を製造する方法を提供することにある。
本発明によれば、こめ目的は、前記コアガラスを前記始
発部材上に直接にデポジットして、非等温プラズマ活性
化０． Ｖ、 Ｄ、プロセスによってコアガラスの固体
柱状体を形成し、前記始発部材から延びる固体ガラス被
覆を、非等温プラズマ活性化Ｃ，Ｖ、 Ｄ、プロセスに
よって前記コアガラス柱状体上に直接にデポジットする
ことを特徴とする光ファイバの前形成体の連続製造方法
によって達収される。非等温プラズマ活性化０． Ｖ、
Ｄ、プロセスは、通常、低温プラズマと称されるプラ
ズマをデポジションを活性化するために用いるデポジシ
ョンプロセスを意味するものと理解すべきである。この
ようなプラズマでは、電子のみがＩ動エネルギーな有し
ている。このようなプラズマによって、気体混合物を、
熱的に活性化することのできない反応にもたらすことさ
え可能となる。さらに、非等温プラズマ活性化Ｃ，Ｖ、
Ｄ、プロセスを用いる場合、比較的低い温度で気相か
ら直接にガラス層がデポジットされることがわかってい
る。
発部材上に直接にデポジットして、非等温プラズマ活性
化０． Ｖ、 Ｄ、プロセスによってコアガラスの固体
柱状体を形成し、前記始発部材から延びる固体ガラス被
覆を、非等温プラズマ活性化Ｃ，Ｖ、 Ｄ、プロセスに
よって前記コアガラス柱状体上に直接にデポジットする
ことを特徴とする光ファイバの前形成体の連続製造方法
によって達収される。非等温プラズマ活性化０． Ｖ、
Ｄ、プロセスは、通常、低温プラズマと称されるプラ
ズマをデポジションを活性化するために用いるデポジシ
ョンプロセスを意味するものと理解すべきである。この
ようなプラズマでは、電子のみがＩ動エネルギーな有し
ている。このようなプラズマによって、気体混合物を、
熱的に活性化することのできない反応にもたらすことさ
え可能となる。さらに、非等温プラズマ活性化Ｃ，Ｖ、
Ｄ、プロセスを用いる場合、比較的低い温度で気相か
ら直接にガラス層がデポジットされることがわかってい
る。
ガラスすす（ｇｌａｓｓ ５ｏｏｔ ）がデポジットさ
れる従来技術のプロセス〔フレーム加水分解（ｆｌａｍ
ｅｈｙｄｒｏｌｙｓｉｓ ） 、 Ｖ、ム、Ｄ、〕にお
いて必要とされるような、デポジット材料をガラス化す
る目的の連続加熱を、本発明に従って用いるプロセスに
おいては省略することができる。このことは、従来技術
に比べて時間とエネルギーの節約を意味している。
れる従来技術のプロセス〔フレーム加水分解（ｆｌａｍ
ｅｈｙｄｒｏｌｙｓｉｓ ） 、 Ｖ、ム、Ｄ、〕にお
いて必要とされるような、デポジット材料をガラス化す
る目的の連続加熱を、本発明に従って用いるプロセスに
おいては省略することができる。このことは、従来技術
に比べて時間とエネルギーの節約を意味している。
本発明方法によれば、いわゆるステップド・インデクス
（５ｔｅｐｐｅｄ−１ｎｄｅｘ）タイフッ光ファイバを
引抜くのに適した前形成体と、いわゆるグレーデッド・
インデクス（ｇｒａｄｅｄ−１ｎｄｅｘ ）タイプの光
ファイバを引抜くのに適した前形成体を製造することが
できる。最初の場合には、被覆ガラスの屈折率よりも大
きい屈折率を有する一定の組区のコアガラスをデポジッ
トする。第２の場合には、コアガラスの屈折率か、形成
されたコアガラスの軸の方向に増大するように、コアガ
ラスの組成、を変化させる。
（５ｔｅｐｐｅｄ−１ｎｄｅｘ）タイフッ光ファイバを
引抜くのに適した前形成体と、いわゆるグレーデッド・
インデクス（ｇｒａｄｅｄ−１ｎｄｅｘ ）タイプの光
ファイバを引抜くのに適した前形成体を製造することが
できる。最初の場合には、被覆ガラスの屈折率よりも大
きい屈折率を有する一定の組区のコアガラスをデポジッ
トする。第２の場合には、コアガラスの屈折率か、形成
されたコアガラスの軸の方向に増大するように、コアガ
ラスの組成、を変化させる。
この方法は、一端で連続的に成長し、他端で光ファイバ
に引抜く前形成体が製造されるように簡単に変更するこ
とができる。
に引抜く前形成体が製造されるように簡単に変更するこ
とができる。
本発明方法では、普通の始発材料を用いることができ、
かつ、普通の組成の前形成体を製造することができる。
かつ、普通の組成の前形成体を製造することができる。
始発材料は、屈折率をそれぞれ増加または減少させるた
めに一定または変化する量のａｅａｔ、 、 ＰＯＯｔ
、 、またはＢＣＩ、 、 ＳｉＦ、を加えることので
きる酸素および四塩化ケイ素である。また、これら材料
の組合せ、および通常ドーパント（ｄｏｐａｎｔ ）と
称される他の材料も可能である。
めに一定または変化する量のａｅａｔ、 、 ＰＯＯｔ
、 、またはＢＣＩ、 、 ＳｉＦ、を加えることので
きる酸素および四塩化ケイ素である。また、これら材料
の組合せ、および通常ドーパント（ｄｏｐａｎｔ ）と
称される他の材料も可能である。
Ｖ、 Ａ、 Ｄ、技術の説明Ｃ前述した米国特許第４．
０６２，６６５号明細書参照）では、プラズマトーチ（
ｐｌａｓｍａ ｔｏｒｃｈ ） ヲ用イテカラス粒子ヲ
作ることもでき、これらプラズマは非等温特性のもので
あることが述べられている。このようなトーチでは、強
烈に加熱したアルゴンを反応気体と混合することによっ
てプラズマか発生される。この方法は、また、前形成体
を光ファイバに引抜く前に、前形成体を焼結しなければ
ならないという欠点を有している。
０６２，６６５号明細書参照）では、プラズマトーチ（
ｐｌａｓｍａ ｔｏｒｃｈ ） ヲ用イテカラス粒子ヲ
作ることもでき、これらプラズマは非等温特性のもので
あることが述べられている。このようなトーチでは、強
烈に加熱したアルゴンを反応気体と混合することによっ
てプラズマか発生される。この方法は、また、前形成体
を光ファイバに引抜く前に、前形成体を焼結しなければ
ならないという欠点を有している。
従来のＶムＤ技術のさらに他の欠点は、この方法を用い
る場合に、焼結の際にクラックが生じるので、コアガラ
スの熱膨張率と被覆ガラスの熱膨張率とが等しくなるよ
うにしなければならないことである。前記米国特許第４
，０６２，６６５号明細書によれば、これは、コアガラ
スをＧｅＯ、でドープし、被覆ガラスをＢ、Ｏ，でドー
プすることにより行われている。Ｇｏｏ、およびＢ、０
８の両方でドープされる転移領域を用いるのでなければ
、グレーデッド・インデクス・ファイバの困離性をこの
ようにして解決することはできない。本発明によれば、
この方法は必要とされない。前形成体の製造の際、およ
び光ファイバに引抜く際のいずれにおいても、たとえば
、被覆ガラスが純粋なＳ１０．から成り、コアガラスが
８１０．とＧ６０．との混合物から成るときには、前形
成体にクラックは生じない。
る場合に、焼結の際にクラックが生じるので、コアガラ
スの熱膨張率と被覆ガラスの熱膨張率とが等しくなるよ
うにしなければならないことである。前記米国特許第４
，０６２，６６５号明細書によれば、これは、コアガラ
スをＧｅＯ、でドープし、被覆ガラスをＢ、Ｏ，でドー
プすることにより行われている。Ｇｏｏ、およびＢ、０
８の両方でドープされる転移領域を用いるのでなければ
、グレーデッド・インデクス・ファイバの困離性をこの
ようにして解決することはできない。本発明によれば、
この方法は必要とされない。前形成体の製造の際、およ
び光ファイバに引抜く際のいずれにおいても、たとえば
、被覆ガラスが純粋なＳ１０．から成り、コアガラスが
８１０．とＧ６０．との混合物から成るときには、前形
成体にクラックは生じない。
以下、本発明の多数の実施例を、図面に基づいて詳細に
説明する。
説明する。
第１図は、ステップド・インデクス・タイプの光ファイ
バのための前形成物を製造する装置の一例を示す略図で
ある。
バのための前形成物を製造する装置の一例を示す略図で
ある。
第２図は、グレーデッド・インデクス・タイプの光ファ
イバのための前形成物を製造する装置の一例を示す略図
である。
イバのための前形成物を製造する装置の一例を示す略図
である。
第３図は、連続的に且つ同時に、前形成物を製造しこれ
から光ファイバを引抜く装置の一例を示す略図である。
から光ファイバを引抜く装置の一例を示す略図である。
実施例１（第１図参照）
純粋な石英の棒状始発部材２を、たとえば石英の管状反
応室１内に挿入して、金属による汚濁を防止し、かつ、
デボジシロン・プロセスの進展の視覚制御を可能にし、
かつ、製造される前形成物に対して光学的測定を可能に
する。マイクロ波発生器（図示せず）に接続されたマイ
クロ波キャビティ（ｃａｖｉｔｙ ） ８および４を、
反応室１の周囲に設ける。さらに、管状反応室１は、８
個の気体入口管（これらのうちの２個を５Ａおよび５″
！で示す）を有しており、これら気体入口管の開口は、
反応室】の周囲に互いに１２０°の間隔で設けられてい
る。被覆ガラス６を製造するための始発材料を、これら
気体入口管（５Ａおよび５Ｂ）を経て供給する。管状反
応室】は、さらに、入口管７を具えている。この入口管
の軸は、第１図の実施例では、反応室】の軸と一致して
いる。コア（ｃｏｒｅ）ガラス材料８を形成する始発材
料を、この入口管フを経て反応室】に供給する。反応室
の他端には、気体出口管９と気体反応生成物（Ｏｔ、
／ ０４ ）を放出するｌンプ１０とを具えている。
応室１内に挿入して、金属による汚濁を防止し、かつ、
デボジシロン・プロセスの進展の視覚制御を可能にし、
かつ、製造される前形成物に対して光学的測定を可能に
する。マイクロ波発生器（図示せず）に接続されたマイ
クロ波キャビティ（ｃａｖｉｔｙ ） ８および４を、
反応室１の周囲に設ける。さらに、管状反応室１は、８
個の気体入口管（これらのうちの２個を５Ａおよび５″
！で示す）を有しており、これら気体入口管の開口は、
反応室】の周囲に互いに１２０°の間隔で設けられてい
る。被覆ガラス６を製造するための始発材料を、これら
気体入口管（５Ａおよび５Ｂ）を経て供給する。管状反
応室】は、さらに、入口管７を具えている。この入口管
の軸は、第１図の実施例では、反応室】の軸と一致して
いる。コア（ｃｏｒｅ）ガラス材料８を形成する始発材
料を、この入口管フを経て反応室】に供給する。反応室
の他端には、気体出口管９と気体反応生成物（Ｏｔ、
／ ０４ ）を放出するｌンプ１０とを具えている。
プロセスの初めは、始発部材俸２を、マイクロ波キャビ
ティ８によってプラズマが形成される反応室】内の位置
におく。酸素と四塩化ケイ素とドーパン） （ｄｏｐａ
ｎｔ ）″たとえばＧｅ０１．との混合物を、管内に供
給する。プラズマ３Ａを発生させて、始発部材１！Ｉ２
上にデポジットされるＳｉＯ□とＧｅ１Ｏ。
ティ８によってプラズマが形成される反応室】内の位置
におく。酸素と四塩化ケイ素とドーパン） （ｄｏｐａ
ｎｔ ）″たとえばＧｅ０１．との混合物を、管内に供
給する。プラズマ３Ａを発生させて、始発部材１！Ｉ２
上にデポジットされるＳｉＯ□とＧｅ１Ｏ。
との初期混合物より成るコアガラスを形成する。
始発部材欅２を、始発材料が連続的に供給されるとコア
ガラス材料の柱状体８が形成されるような速度で右側に
移動させる（水平方向矢印を参照）。
ガラス材料の柱状体８が形成されるような速度で右側に
移動させる（水平方向矢印を参照）。
デボジシランプロセスの間に始発部材＠２を回転させる
のが好適である。所定の長さの柱状体が形成されると、
被覆ガラス材料を形成する始発材料を入口管（５Ａ１５
Ｂ）を経て供給する。これら入口管の開口は、マイクロ
波キャビティ８と４との間に設けられており、マイクロ
波キャビティ４内でプラズマを発生させる。被覆ガラス
材料か始発部材ＩＩ２の周囲にデポジットするようにプ
ロセスを進めるのが好適である。このようにして、形成
される前形成体（８，６）と始発部材俸２との間に堅固
な接着が得られる。この接着領埴は、後の段階で、ファ
イバ引抜１稈の際に前形成体をクランプするのに役立つ
。材料がデポジットされる場所にある炉（図示せず）に
よって、濡廖を１０００〜１２００℃好適には１１５０
℃に保つ。
のが好適である。所定の長さの柱状体が形成されると、
被覆ガラス材料を形成する始発材料を入口管（５Ａ１５
Ｂ）を経て供給する。これら入口管の開口は、マイクロ
波キャビティ８と４との間に設けられており、マイクロ
波キャビティ４内でプラズマを発生させる。被覆ガラス
材料か始発部材ＩＩ２の周囲にデポジットするようにプ
ロセスを進めるのが好適である。このようにして、形成
される前形成体（８，６）と始発部材俸２との間に堅固
な接着が得られる。この接着領埴は、後の段階で、ファ
イバ引抜１稈の際に前形成体をクランプするのに役立つ
。材料がデポジットされる場所にある炉（図示せず）に
よって、濡廖を１０００〜１２００℃好適には１１５０
℃に保つ。
全デポジションプνセスの間に、始発部材１１２と前形
成体とを回転させるのが好適である。
成体とを回転させるのが好適である。
実際には、管状反応室】の内径は、８備である。
石英管で構成したこの反応室の壁の厚さは、１酩である
。ＯＢ （２００ｎｅｗ８／ｍｉｎ ）と５ｉＯ１４（
８０１ｃｍ８／Ｂｊ−１）とＧｅ０１４ （８ｎｃ訊’
／ｍｉｎ ）とがら成、ル気体混合物を、気体入口管７
を経て反応室に供給する。マイクロ波キャビティ８にお
ける電界の周波数は、２．４５ ＧＨｚである。
。ＯＢ （２００ｎｅｗ８／ｍｉｎ ）と５ｉＯ１４（
８０１ｃｍ８／Ｂｊ−１）とＧｅ０１４ （８ｎｃ訊’
／ｍｉｎ ）とがら成、ル気体混合物を、気体入口管７
を経て反応室に供給する。マイクロ波キャビティ８にお
ける電界の周波数は、２．４５ ＧＨｚである。
次に、ＯＢ （６００ｎｅｗ’／ｍｉｎ ）とＳ’
ＬＯ１４（１２０ｎｅｗ’／ｍ土ｎ）とから成る気体混
合物を、入口管５Ａおよび５Ｂを経て反応室に供給する
。マイクロ波キャビティ４における電界の周波数は、ま
た２、４５ＧＨｚである。デポジションプロセスを、形
成プラズマ３ムおよび４Ａによって行った。全直径が１
０−の前形成１体が、Ｏ，ｊ ５ ｃｍ／ｍｉｎの速度
で形成された。始発俸のＷ径は、５鱈である。
ＬＯ１４（１２０ｎｅｗ’／ｍ土ｎ）とから成る気体混
合物を、入口管５Ａおよび５Ｂを経て反応室に供給する
。マイクロ波キャビティ４における電界の周波数は、ま
た２、４５ＧＨｚである。デポジションプロセスを、形
成プラズマ３ムおよび４Ａによって行った。全直径が１
０−の前形成１体が、Ｏ，ｊ ５ ｃｍ／ｍｉｎの速度
で形成された。始発俸のＷ径は、５鱈である。
５０μｍのコア直径と、１２５μｍの全直径と、１Ａｍ
の長さとＰ有するステップド・インデックス・ファイバ
を、製造された前形成体（２０Ｃｆａ ）から引抜くこ
とができた。反応室１を垂直に設けることもできること
は明らかである。さらに、２偕より多くのマイクロ波キ
ャビティを用い、かつ、２箇所より多くの箇所で反応室
１に流入する始発材料な有することもできる。このよう
にして、たと犬ば、グレーデッド・インデクス・タイプ
の光ファイバを引抜くための前形成体を製造するために
、異なる組成および異なる屈折率の複数層のコアガラス
を、互いの上にデポジットさせることができる。
の長さとＰ有するステップド・インデックス・ファイバ
を、製造された前形成体（２０Ｃｆａ ）から引抜くこ
とができた。反応室１を垂直に設けることもできること
は明らかである。さらに、２偕より多くのマイクロ波キ
ャビティを用い、かつ、２箇所より多くの箇所で反応室
１に流入する始発材料な有することもできる。このよう
にして、たと犬ば、グレーデッド・インデクス・タイプ
の光ファイバを引抜くための前形成体を製造するために
、異なる組成および異なる屈折率の複数層のコアガラス
を、互いの上にデポジットさせることができる。
実施例２（第２図参照）
第２図は、グレーデッド・インデクス・タイプの光ファ
イバを引抜くための前形成体の連続的製造方法の一実施
例を示す略図である。この方法では、マイクロ波キャビ
ティ２９によって発生される１つのプラズマを用いてい
る。デポジション反応を、円筒状石英ガラス反応室２８
内で行う。この反応室は、多数の入口管２１〜２フおよ
び２１′〜２６′を有している。Ｓｉｎ／、とＧｅ０１
４との混合物な、入口管２１〜２４（および２１１〜２
４１）から供給する。混合物における５ｉｎｔ４のＧｅ
Ｃ／、に°対する比は、入口管２１から２４（および２
１′から２４′）の方にいくに従って増大している。酸
素を、入口管２７を経て供給する。被覆ガラスを形成す
るために、５ｉｃｔ４を入口管２５．２６（および２
Ｂ’ 、 ２６’ ）を経て供給する。供給気体の組成
、を注意深く調和させることによって、デポジットされ
たコアガラス材料がドープされる程度を制御することか
できる。さらに多くの入口管を用い、かつ、気体の流速
を増大させると、より大きなデポジション速度を用いる
ことができる。製造される前形成体の表面の温度を、１
１００〜１２００℃に保つ。このことは、塩素がデポジ
ットガラスに入り込むのを防止する。プラズマ内で消費
される電力によって、温度を調整することができる。
イバを引抜くための前形成体の連続的製造方法の一実施
例を示す略図である。この方法では、マイクロ波キャビ
ティ２９によって発生される１つのプラズマを用いてい
る。デポジション反応を、円筒状石英ガラス反応室２８
内で行う。この反応室は、多数の入口管２１〜２フおよ
び２１′〜２６′を有している。Ｓｉｎ／、とＧｅ０１
４との混合物な、入口管２１〜２４（および２１１〜２
４１）から供給する。混合物における５ｉｎｔ４のＧｅ
Ｃ／、に°対する比は、入口管２１から２４（および２
１′から２４′）の方にいくに従って増大している。酸
素を、入口管２７を経て供給する。被覆ガラスを形成す
るために、５ｉｃｔ４を入口管２５．２６（および２
Ｂ’ 、 ２６’ ）を経て供給する。供給気体の組成
、を注意深く調和させることによって、デポジットされ
たコアガラス材料がドープされる程度を制御することか
できる。さらに多くの入口管を用い、かつ、気体の流速
を増大させると、より大きなデポジション速度を用いる
ことができる。製造される前形成体の表面の温度を、１
１００〜１２００℃に保つ。このことは、塩素がデポジ
ットガラスに入り込むのを防止する。プラズマ内で消費
される電力によって、温度を調整することができる。
その他のすべての点では、実施例】に基づいで説明した
と同様にプロセスを実行する。またこの場合でも、デポ
ジションプロセスの間に、製造される前形成２体８／６
を回転させる。第８図に略図的に示す装置では、同一の
番号は第１図および第２図と口し意味を有している。第
８図では、マイクロ波発生器８】と、支持ホイール８２
および８８と、炉８４とをさらに示している。
と同様にプロセスを実行する。またこの場合でも、デポ
ジションプロセスの間に、製造される前形成２体８／６
を回転させる。第８図に略図的に示す装置では、同一の
番号は第１図および第２図と口し意味を有している。第
８図では、マイクロ波発生器８】と、支持ホイール８２
および８８と、炉８４とをさらに示している。
第８図は、一端では、ステップド・インデクス・タイプ
の光ファイバを引抜くための前形成体を製造し、他端で
は、この前形成体をファイバに引抜くことを示している
。このためには、酸素（入口バイブｚ７を経て）と、５
ｉＯｊ４とａｅｃｔ、との混合物（入口管２１および２
１′を経て）と、５ｉＣ１４（それぞれの入口管２５．
２６および２５’ 、 ２６’を経て）とを、反応室２
８内に供給する。Ｇｅｏ、 ／Ｓｉｎｇガラスのコア８
とＳ１０．の被Ｐ１６とを形成する。略図的に示すマイ
クロ波発生器３１に接続されたマイク党波キャビティ２
９によってプラズマを発生させる。ポンプ１０によって
、反応気体を反応室２８から排出し、反応室２８内に減
圧を保持する。減圧と調整し得る速度で回転することの
できる案内ホイール（これらホイールのうち２個を図に
８２および８８で示す）とを用いると、前形成体を反応
室２８から一定の速度で移動させることができ、かつ、
底部からファイバをｉｌ紗的に°引抜くことができる。
の光ファイバを引抜くための前形成体を製造し、他端で
は、この前形成体をファイバに引抜くことを示している
。このためには、酸素（入口バイブｚ７を経て）と、５
ｉＯｊ４とａｅｃｔ、との混合物（入口管２１および２
１′を経て）と、５ｉＣ１４（それぞれの入口管２５．
２６および２５’ 、 ２６’を経て）とを、反応室２
８内に供給する。Ｇｅｏ、 ／Ｓｉｎｇガラスのコア８
とＳ１０．の被Ｐ１６とを形成する。略図的に示すマイ
クロ波発生器３１に接続されたマイク党波キャビティ２
９によってプラズマを発生させる。ポンプ１０によって
、反応気体を反応室２８から排出し、反応室２８内に減
圧を保持する。減圧と調整し得る速度で回転することの
できる案内ホイール（これらホイールのうち２個を図に
８２および８８で示す）とを用いると、前形成体を反応
室２８から一定の速度で移動させることができ、かつ、
底部からファイバをｉｌ紗的に°引抜くことができる。
このためには、炉８８が、炉の働域にある前形成体を引
抜き１ｌＩ−（約２０００℃）に加熱し、かつ、引抜き
装置Ｃ図示せず）を設ける。この種の配置によって、高
いグレードの光ファイバを高生産率で連続的に生産する
ことができる。
抜き１ｌＩ−（約２０００℃）に加熱し、かつ、引抜き
装置Ｃ図示せず）を設ける。この種の配置によって、高
いグレードの光ファイバを高生産率で連続的に生産する
ことができる。
第１図は、ステップド・インデクス・タイプの光ファイ
バのための前形成物を製造する装置の一例？示す略図、 第！図は、グレーデッド・インデクス・タイプの光ファ
イバのための前形成物を製造する装置の一例を示す略図
、 第８図は、連続的に且つ同時に、前形成物を製造しこれ
から光ファイバを引抜く装置の一例を示す略図である。 １・・・管状反応室 ２・・・棒状始発”部材８
、４．２９・・・マイクロ波キャビティ６・・・被覆ガ
ラス ７・・・入口管Ｓ・・・コアガラス
９・・・出口管１０・・・ポンプ ２８・・・円筒状石英ガラス反応室 ８１・・・マイク田波発生器 ８２、８８・・・支持ホイール ８４・・・炉。
バのための前形成物を製造する装置の一例？示す略図、 第！図は、グレーデッド・インデクス・タイプの光ファ
イバのための前形成物を製造する装置の一例を示す略図
、 第８図は、連続的に且つ同時に、前形成物を製造しこれ
から光ファイバを引抜く装置の一例を示す略図である。 １・・・管状反応室 ２・・・棒状始発”部材８
、４．２９・・・マイクロ波キャビティ６・・・被覆ガ
ラス ７・・・入口管Ｓ・・・コアガラス
９・・・出口管１０・・・ポンプ ２８・・・円筒状石英ガラス反応室 ８１・・・マイク田波発生器 ８２、８８・・・支持ホイール ８４・・・炉。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 Ｌ 気相からコアガラスおよび被覆ガラスをデポジット
して始発部材から延びる棒状前形成体な形成し、かつ、
前記始発部材を前形成体の長さが増大するのと同じ速度
でデポジション領域から移動させることによって、光フ
ァイバの前形成体を連続的に製造する方法において、前
記コアガラスを前記始発部材上に直接にデポジットして
、非等温プラズマ活性化０、 Ｖ、 Ｄ、プロセスによ
ってコアガラスの固体柱状体を形成し、前記始発部材か
ら延びる固体ガラス被覆を、非等温プラズマ活性化０、
Ｌ Ｄ、プロセスによって前記コアガラス柱状体上に
直接にデポジットすることを特徴とする光ファイバの前
形成体の連続製造方法。 λ 特許請求の範囲第１項に記載の製造方法において、
前記被覆ガラスよりも高い屈折率を有する一定組成の前
記コアガラスをデポジットすることな特徴とする製造方
法。 ＆ 特許請求の範囲第１項に記載の製造方法において、
デポジットされる前記コアガラスの組成を、前記コアガ
ラス柱状体の軸方向に屈折率が増大するように変化させ
ることな特許とする製造方法。 表 前形成体から光ファイバを製造する方法において、
特許請求の範囲第１項から第８項のいずれかに記載の方
法によって前形成体を製造することを特徴とする光ファ
イバの製造方法。 艮 前形成体から光ファイバを連続的に製造する装置に
おいて、 ａ９反応室と、この反応室内でこの反応室を取囲むマイ
クロ波キャビティによって非等温プラズマな発生させる
ことができ、 ｂ、前記反応室から制御された速度で前形成体を移動さ
せる手段と、 Ｃ０前記反応室内に減圧を保持する手段と、ｄ、前形成
体を取囲む引抜き用炉と、 ｅ、前形成体をファイバに引抜く引抜装置と、を具える
ことを特徴とする光ファイバの連続製造装置。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| NL8103648 | 1981-08-03 | ||
| NL8103648A NL8103648A (nl) | 1981-08-03 | 1981-08-03 | Werkwijze voor de vervaardiging van voorvormen voor het trekken van optische vezels en voorvormen volgens deze werkwijze verkregen en inrichting voor het continu vervaardigen van optische vezels. |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5826045A true JPS5826045A (ja) | 1983-02-16 |
Family
ID=19837887
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP13300582A Pending JPS5826045A (ja) | 1981-08-03 | 1982-07-31 | 光フアイバの製造方法および装置 |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| EP (1) | EP0072069B1 (ja) |
| JP (1) | JPS5826045A (ja) |
| CA (1) | CA1192096A (ja) |
| DE (1) | DE3264273D1 (ja) |
| NL (1) | NL8103648A (ja) |
Families Citing this family (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| GB2117754B (en) * | 1982-04-07 | 1985-07-24 | Ass Elect Ind | Continuous process for manufacture of optical fibre waveguides |
| DE3217839A1 (de) * | 1982-05-12 | 1983-11-17 | Hans Dr.Rer.Nat. 5370 Kall Beerwald | Plasmaverfahren zur herstellung eines dielektrischen stabes |
| CA1218270A (en) * | 1982-07-26 | 1987-02-24 | Herman M. Presby | Method of fabricating optical fiber preforms |
| DE3568570D1 (en) * | 1984-07-03 | 1989-04-13 | Stiftelsen Inst Mikrovags | Method and apparatus for heating thick-walled glass tubes |
| GB2208656B (en) * | 1985-06-29 | 1990-01-17 | Stc Plc | Pulsed radio frequency plasma apparatus and process |
| GB2192876B (en) * | 1985-10-14 | 1989-10-18 | Nippon Carbon Co Ltd | A method for manufacturing a silicon carbide fiber reinforced glass composite |
| NL1019076C2 (nl) * | 2001-10-01 | 2003-04-02 | Draka Fibre Technology Bv | Werkwijze voor het aanbrengen van een of meer glaslagen op het uitwendig oppervlak van een uit glas samengesteld staafvormig vormdeel, alsmede een daarvoor geschikte inrichting. |
| US6928839B2 (en) * | 2002-08-15 | 2005-08-16 | Ceramoptec Industries, Inc. | Method for production of silica optical fiber preforms |
| CN116936329B (zh) * | 2023-09-15 | 2023-12-15 | 武汉市飞瓴光电科技有限公司 | 一种常压微波等离子体双波导耦合装置 |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5171146A (en) * | 1974-12-18 | 1976-06-19 | Fujikura Ltd | Kogakuseniyobozaino seizohoho |
| JPS5434843A (en) * | 1977-08-23 | 1979-03-14 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | Production of stock for optical fibers |
Family Cites Families (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| NL165134B (nl) * | 1974-04-24 | 1980-10-15 | Nippon Telegraph & Telephone | Werkwijze voor de vervaardiging van een staaf als tussenprodukt voor de vervaardiging van een optische vezel en werkwijze voor de vervaardiging van een optische vezel uit zulk een tussenprodukt. |
| DE2444100C3 (de) * | 1974-09-14 | 1979-04-12 | Philips Patentverwaltung Gmbh, 2000 Hamburg | Verfahren zur Herstellung von innenbeschichteten Glasrohren zum Ziehen von Lichtleitfasern |
| IT1091498B (it) * | 1977-11-25 | 1985-07-06 | Cselt Centro Studi Lab Telecom | Procedimento ed apparecchiatura per la produzione continua di fibre ottiche |
| US4230473A (en) * | 1979-03-16 | 1980-10-28 | Bell Telephone Laboratories, Incorporated | Method of fabricating optical fibers |
| DE3036915A1 (de) * | 1979-10-09 | 1981-04-23 | Nippon Telegraph & Telephone Public Corp., Tokyo | Verfahren zur herstellung von rohlingen fuer lichtleitfasern |
-
1981
- 1981-08-03 NL NL8103648A patent/NL8103648A/nl not_active Application Discontinuation
-
1982
- 1982-07-27 DE DE8282200958T patent/DE3264273D1/de not_active Expired
- 1982-07-27 EP EP82200958A patent/EP0072069B1/en not_active Expired
- 1982-07-29 CA CA000408439A patent/CA1192096A/en not_active Expired
- 1982-07-31 JP JP13300582A patent/JPS5826045A/ja active Pending
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5171146A (en) * | 1974-12-18 | 1976-06-19 | Fujikura Ltd | Kogakuseniyobozaino seizohoho |
| JPS5434843A (en) * | 1977-08-23 | 1979-03-14 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | Production of stock for optical fibers |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| CA1192096A (en) | 1985-08-20 |
| DE3264273D1 (en) | 1985-07-25 |
| EP0072069A1 (en) | 1983-02-16 |
| EP0072069B1 (en) | 1985-06-19 |
| NL8103648A (nl) | 1983-03-01 |
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