JPS63210044A - 石英系ガラス膜形成法 - Google Patents
石英系ガラス膜形成法Info
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- JPS63210044A JPS63210044A JP4372187A JP4372187A JPS63210044A JP S63210044 A JPS63210044 A JP S63210044A JP 4372187 A JP4372187 A JP 4372187A JP 4372187 A JP4372187 A JP 4372187A JP S63210044 A JPS63210044 A JP S63210044A
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- film
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- 239000011521 glass Substances 0.000 title claims abstract description 80
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 36
- 239000010453 quartz Substances 0.000 title claims abstract description 8
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 title description 3
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims abstract description 12
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 claims abstract description 9
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 6
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims abstract description 6
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims abstract description 4
- 239000002994 raw material Substances 0.000 claims description 10
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 7
- 238000005452 bending Methods 0.000 claims 1
- 239000013307 optical fiber Substances 0.000 abstract description 4
- 229910003910 SiCl4 Inorganic materials 0.000 abstract 1
- 239000000463 material Substances 0.000 abstract 1
- FDNAPBUWERUEDA-UHFFFAOYSA-N silicon tetrachloride Chemical compound Cl[Si](Cl)(Cl)Cl FDNAPBUWERUEDA-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 10
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 8
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 description 4
- 239000005357 flat glass Substances 0.000 description 3
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 1
- 210000003437 trachea Anatomy 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B23/00—Re-forming shaped glass
- C03B23/0026—Re-forming shaped glass by gravity, e.g. sagging
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Surface Treatment Of Glass (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［産業上の利用分野］
本発明は石英系ガラス膜形成法に関するものである。
［従来の技術］
第４図には石英系ガラス膜形成法の従来例によるガス膜
形成状態が示されている。同図に示されているように、
石英ガラス基板１は一定の回転角速度で回転するターン
テーブル２の円周」：に配置されている。火炎用ガスで
あるＨｚ 、０２は、火炎用ガスブランチ３より堆積用
バーナ４に供給されるようになっており、又、ガラス原
料である５ｆ（Ｊ’ｓ 、Ｔｉ（Ｊ’４．０００１７ｍ
はガラス原料用ガスブランチ５より、火炎制御用ガスで
あるＡｒは火炎制御用ガスブランチ６より供給されるよ
うになっている。このようにして供給されたガスは、酸
水素炎７において加水分解反応及び熱酸化反応により石
英ガラス基板１上にガラス微粒子となり堆積する。又、
石英ガラス基板１上にｊ（（積するガラス微粒子層の厚
さを均一化するため、堆積用バーナ４はターンテーブル
２の゛ト径方向に移動する機構を備えている。尚同図に
おいて８は、加水分解反応及び熱酸化反応により生成さ
れたＣｆ２．１ｌｃＩ１等を排気するυ１気管である。
形成状態が示されている。同図に示されているように、
石英ガラス基板１は一定の回転角速度で回転するターン
テーブル２の円周」：に配置されている。火炎用ガスで
あるＨｚ 、０２は、火炎用ガスブランチ３より堆積用
バーナ４に供給されるようになっており、又、ガラス原
料である５ｆ（Ｊ’ｓ 、Ｔｉ（Ｊ’４．０００１７ｍ
はガラス原料用ガスブランチ５より、火炎制御用ガスで
あるＡｒは火炎制御用ガスブランチ６より供給されるよ
うになっている。このようにして供給されたガスは、酸
水素炎７において加水分解反応及び熱酸化反応により石
英ガラス基板１上にガラス微粒子となり堆積する。又、
石英ガラス基板１上にｊ（（積するガラス微粒子層の厚
さを均一化するため、堆積用バーナ４はターンテーブル
２の゛ト径方向に移動する機構を備えている。尚同図に
おいて８は、加水分解反応及び熱酸化反応により生成さ
れたＣｆ２．１ｌｃＩ１等を排気するυ１気管である。
［発明が解決しようとする問題点］
上記従来技術は次のような問題点がある。
（１）石英ガラス基板のみならず、基板が置かれていな
いターンテーブル上にもガラス微粒子が堆積し、石英ガ
ラス基板上にＭｔ積するガラスの収率が悪い。
いターンテーブル上にもガラス微粒子が堆積し、石英ガ
ラス基板上にＭｔ積するガラスの収率が悪い。
（ａ ガラス微粒子層の厚さの均一化が難しい。
本発明は以上の点に名みなされたものであり、ガラスの
収率を大幅に増加し、均一なガラス膜を形成することを
可能とした石英系ガラス膜形成法を掟供することを目的
とするものである。
収率を大幅に増加し、均一なガラス膜を形成することを
可能とした石英系ガラス膜形成法を掟供することを目的
とするものである。
Ｆ問題点を解決するための手段］
上記目的は、一定の回転角速度で回転し、かつ密閉され
た（石英ガラス管の一力からガラス原料を送り込み、石
英ガラス管をその外側から軸方向に移動自在な酸水素炎
で一定速度の往復加熱を繰返して加熱し、ガラス原料を
熱酸化反応でガラス微粒子としてガラス管の内壁に付着
させ、透明なガラス膜を形成し、次いでこのガラス膜を
形成した石英ガラス管を所定の大きさの湾曲した形状の
ガラス片に切断し、このガラス片を表面平坦なカーボン
板上に配置し、加熱して平坦化することにより、達成さ
れる。
た（石英ガラス管の一力からガラス原料を送り込み、石
英ガラス管をその外側から軸方向に移動自在な酸水素炎
で一定速度の往復加熱を繰返して加熱し、ガラス原料を
熱酸化反応でガラス微粒子としてガラス管の内壁に付着
させ、透明なガラス膜を形成し、次いでこのガラス膜を
形成した石英ガラス管を所定の大きさの湾曲した形状の
ガラス片に切断し、このガラス片を表面平坦なカーボン
板上に配置し、加熱して平坦化することにより、達成さ
れる。
［作 用１
ガラス原料が送り込まれ、一定の回転角速度で回転する
石英ガラス管をその外側から軸方向に移動自在な酸水素
炎で一定速度の往復加熱を繰返して加熱したので、石英
ガラス管は一様に加熱されるようになって、均一な厚さ
のガラス膜がｊｆｔ積されるようになる。そして熱酸化
反応が密閉された石英ガラス管内で発生し、後で平坦化
して平坦なガラス基板とするガラス管の内壁にガラス膜
が形成されるので、従来のように基板以外の部分に形成
されるガラス膜がなくなり、ガラスの収率が大幅に増加
するようになる。
石英ガラス管をその外側から軸方向に移動自在な酸水素
炎で一定速度の往復加熱を繰返して加熱したので、石英
ガラス管は一様に加熱されるようになって、均一な厚さ
のガラス膜がｊｆｔ積されるようになる。そして熱酸化
反応が密閉された石英ガラス管内で発生し、後で平坦化
して平坦なガラス基板とするガラス管の内壁にガラス膜
が形成されるので、従来のように基板以外の部分に形成
されるガラス膜がなくなり、ガラスの収率が大幅に増加
するようになる。
［実 施 例１
以下、図示した実茄例に基づいて本発明を説明する。第
１図から第３図には本発明の一実施例が示されている。
１図から第３図には本発明の一実施例が示されている。
尚従来と同じ部品には同じ符号を付したので説明を省略
する。本実施例では一定の回転角速度で回転し、かつ密
閉された石英ガラス管９の一方からガラス原料を送り込
み、石英ガラス管９をその外側から軸方向に移動自在な
酸水素炎７ａで一定速度の往復加熱を繰返して加熱し、
ガラス原料を熱酸化反応でガラス微粒子としてガラス管
９の内壁に（＝Ｊ看させ、透明なガラス膜１０を形成し
、次いでこのガラス膜１０を形成したガラス管９を所定
の人ぎさの湾曲した形状のガラス片１１に切断し、この
ガラス片１１を平坦な表面を持つカーボン板１２上に装
盾・加熱して平坦化するようにした。このようにするこ
とによりガラスの収率が大幅に増加し、均一なガラス１
０が形成されるようになる。
する。本実施例では一定の回転角速度で回転し、かつ密
閉された石英ガラス管９の一方からガラス原料を送り込
み、石英ガラス管９をその外側から軸方向に移動自在な
酸水素炎７ａで一定速度の往復加熱を繰返して加熱し、
ガラス原料を熱酸化反応でガラス微粒子としてガラス管
９の内壁に（＝Ｊ看させ、透明なガラス膜１０を形成し
、次いでこのガラス膜１０を形成したガラス管９を所定
の人ぎさの湾曲した形状のガラス片１１に切断し、この
ガラス片１１を平坦な表面を持つカーボン板１２上に装
盾・加熱して平坦化するようにした。このようにするこ
とによりガラスの収率が大幅に増加し、均一なガラス１
０が形成されるようになる。
即ち第１図に示されているように、従来の光フアイバプ
リフォームの製作法であるＭＣＶＤ法（肉付は法）をガ
ラス膜形成法に適用したちのである。光ファイパブリフ
ォームの製作と異なる点は比較的半径が大きく（す１０
０馴）、かつ肉厚の薄い石英ガラス管を用いる点である
。石英ガラス管９を水平となるようにガラス管固定治具
１３を用いて固定する。このガラス管固定治具１３は、
一定の回転角速度で回転できるようになっている。
リフォームの製作法であるＭＣＶＤ法（肉付は法）をガ
ラス膜形成法に適用したちのである。光ファイパブリフ
ォームの製作と異なる点は比較的半径が大きく（す１０
０馴）、かつ肉厚の薄い石英ガラス管を用いる点である
。石英ガラス管９を水平となるようにガラス管固定治具
１３を用いて固定する。このガラス管固定治具１３は、
一定の回転角速度で回転できるようになっている。
石英ガラス管９の一方側にあるガス導入口１４からガラ
ス原料ガスであるＳ ｉ ＣＪＩ ４ 、Ｔ ｉ Ｇｆ
ｌ Ａ、Ｇ（３（Ｊ）ａ及び０２を送り込む。
ス原料ガスであるＳ ｉ ＣＪＩ ４ 、Ｔ ｉ Ｇｆ
ｌ Ａ、Ｇ（３（Ｊ）ａ及び０２を送り込む。
一方、石英ガラス管９の外側から加熱バーナ１５より発
する酸水素炎７ａで石英ガラス管９を加熱することによ
り、ガラス原料ガスである５ｉＣＪｔ 、ＴｔＣＩ！ａ
、Ωｅｃ１ａ及び０２は熱酸化反応によりガラス微粒
子となり、直らに石英ガラス管９の内壁に付若し、透明
なガラス膜どなる。加熱バーナ１５を一定の速度で水平
方向に移動させることにより、均一な厚さのガラスＩ１
９を石英ガラス管９の内壁に堆積できる。
する酸水素炎７ａで石英ガラス管９を加熱することによ
り、ガラス原料ガスである５ｉＣＪｔ 、ＴｔＣＩ！ａ
、Ωｅｃ１ａ及び０２は熱酸化反応によりガラス微粒
子となり、直らに石英ガラス管９の内壁に付若し、透明
なガラス膜どなる。加熱バーナ１５を一定の速度で水平
方向に移動させることにより、均一な厚さのガラスＩ１
９を石英ガラス管９の内壁に堆積できる。
次いでガラス膜を堆積した石英ガラス９を、石英ガラス
管９の長手方向及び長手方向と重直に切Ｉｌｌ′ｉ（第
２図参照）し、ガラス膜１０が堆積し、かつ湾曲したガ
ラス片１１に分割する。
管９の長手方向及び長手方向と重直に切Ｉｌｌ′ｉ（第
２図参照）し、ガラス膜１０が堆積し、かつ湾曲したガ
ラス片１１に分割する。
分割後、第３図に示されているように、湾曲したガラス
片１１を表面平明なカーボン板１２の上に置き、ヒータ
１６を用いて約１４００℃の温度で加熱し、平坦なガラ
ス基板１７を形成する。
片１１を表面平明なカーボン板１２の上に置き、ヒータ
１６を用いて約１４００℃の温度で加熱し、平坦なガラ
ス基板１７を形成する。
このように本実施例によれば熱酸化反応が密閉された石
英ガラス管９内でおき、直ちにガラス膜となるため、効
率が大幅に増加し、不純物が入り難い。又、加熱バーノ
ー１５を・一定の速度で移動させ、繰り返すことにより
、従来の光ファイパブリフ４−ムと同様に均一な厚さの
ガラス膜１０が堆積できる。
英ガラス管９内でおき、直ちにガラス膜となるため、効
率が大幅に増加し、不純物が入り難い。又、加熱バーノ
ー１５を・一定の速度で移動させ、繰り返すことにより
、従来の光ファイパブリフ４−ムと同様に均一な厚さの
ガラス膜１０が堆積できる。
［発明の効果］
上述のように本発明によればガラスの収率が大幅に増加
し、均一なガラス膜が形成できるようになって、ガラス
の収率を大幅に増加し、均一なガラス膜を形成すること
が可能となる。
し、均一なガラス膜が形成できるようになって、ガラス
の収率を大幅に増加し、均一なガラス膜を形成すること
が可能となる。
第１図は本発明の石英系ガラス膜形成法の一実施例によ
るガラス膜形成状態を示す側面図、第２図は同じく一実
施例による切断したガラス片の状態を示す斜視図、第３
図は同じく一実施例による湾曲したガラス膜を平坦化す
る状態を示す側面図、第４図は従来の石英系ガラス膜形
成法によるガラス膜形成状態を示寸斜祝図である。 ７ａ：酸水素炎、 ９：石英ガラス管、 １０ニガラス膜、 １１ニガラス片、 １２：カーボン板、 １７：平坦なガラス基板。 第 １ 図 ％２ 肥 第３９
るガラス膜形成状態を示す側面図、第２図は同じく一実
施例による切断したガラス片の状態を示す斜視図、第３
図は同じく一実施例による湾曲したガラス膜を平坦化す
る状態を示す側面図、第４図は従来の石英系ガラス膜形
成法によるガラス膜形成状態を示寸斜祝図である。 ７ａ：酸水素炎、 ９：石英ガラス管、 １０ニガラス膜、 １１ニガラス片、 １２：カーボン板、 １７：平坦なガラス基板。 第 １ 図 ％２ 肥 第３９
Claims (1)
- （１）一定の回転角速度で回転し、かつ密閉された石英
ガラス管の一方からガラス原料を送り込み、前記石英ガ
ラス管をその外側から軸方向に移動自在な酸水素炎で一
定速度の往復加熱を繰返して加熱し、前記ガラス原料を
熱酸化反応でガラス微粒子として前記ガラス管の内壁に
付着させ、透明なガラス膜を形成し、次いでこのガラス
膜を形成した石英ガラス管を所定の大きさの湾曲した形
状のガラス片に切断し、このガラス片を表面平坦なカー
ボン板上に配置し、加熱して平坦化するようにしたこと
を特徴とする石英系ガラス膜形成法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4372187A JPS63210044A (ja) | 1987-02-26 | 1987-02-26 | 石英系ガラス膜形成法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4372187A JPS63210044A (ja) | 1987-02-26 | 1987-02-26 | 石英系ガラス膜形成法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63210044A true JPS63210044A (ja) | 1988-08-31 |
Family
ID=12671657
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4372187A Pending JPS63210044A (ja) | 1987-02-26 | 1987-02-26 | 石英系ガラス膜形成法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS63210044A (ja) |
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6242136B1 (en) | 1999-02-12 | 2001-06-05 | Corning Incorporated | Vacuum ultraviolet transmitting silicon oxyfluoride lithography glass |
| US6265115B1 (en) | 1999-03-15 | 2001-07-24 | Corning Incorporated | Projection lithography photomask blanks, preforms and methods of making |
| US6319634B1 (en) | 1999-03-12 | 2001-11-20 | Corning Incorporated | Projection lithography photomasks and methods of making |
| US6682859B2 (en) | 1999-02-12 | 2004-01-27 | Corning Incorporated | Vacuum ultraviolet trasmitting silicon oxyfluoride lithography glass |
| US6783898B2 (en) | 1999-02-12 | 2004-08-31 | Corning Incorporated | Projection lithography photomask blanks, preforms and method of making |
| US6782716B2 (en) | 1999-02-12 | 2004-08-31 | Corning Incorporated | Vacuum ultraviolet transmitting silicon oxyfluoride lithography glass |
| WO2008035067A1 (en) * | 2006-09-22 | 2008-03-27 | University Of Southampton | Method of fabricating a planar substrate having optical waveguides |
-
1987
- 1987-02-26 JP JP4372187A patent/JPS63210044A/ja active Pending
Cited By (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6242136B1 (en) | 1999-02-12 | 2001-06-05 | Corning Incorporated | Vacuum ultraviolet transmitting silicon oxyfluoride lithography glass |
| US6492072B2 (en) | 1999-02-12 | 2002-12-10 | Corning Incorporated | Vacuum ultraviolet transmitting silicon oxyfluoride lithography glass |
| US6682859B2 (en) | 1999-02-12 | 2004-01-27 | Corning Incorporated | Vacuum ultraviolet trasmitting silicon oxyfluoride lithography glass |
| US6689516B2 (en) | 1999-02-12 | 2004-02-10 | Corning Incorporated | Projection lithography photomasks and method of making |
| US6783898B2 (en) | 1999-02-12 | 2004-08-31 | Corning Incorporated | Projection lithography photomask blanks, preforms and method of making |
| US6782716B2 (en) | 1999-02-12 | 2004-08-31 | Corning Incorporated | Vacuum ultraviolet transmitting silicon oxyfluoride lithography glass |
| US6848277B2 (en) | 1999-02-12 | 2005-02-01 | George Edward Berkey | Projection lithography photomasks and method of making |
| US6319634B1 (en) | 1999-03-12 | 2001-11-20 | Corning Incorporated | Projection lithography photomasks and methods of making |
| US6265115B1 (en) | 1999-03-15 | 2001-07-24 | Corning Incorporated | Projection lithography photomask blanks, preforms and methods of making |
| WO2008035067A1 (en) * | 2006-09-22 | 2008-03-27 | University Of Southampton | Method of fabricating a planar substrate having optical waveguides |
| US8218933B2 (en) | 2006-09-22 | 2012-07-10 | University Of Southampton | Method of fabricating a planar substrate having optical waveguides |
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