JPS59105862A - 静電処理装置 - Google Patents
静電処理装置Info
- Publication number
- JPS59105862A JPS59105862A JP21728682A JP21728682A JPS59105862A JP S59105862 A JPS59105862 A JP S59105862A JP 21728682 A JP21728682 A JP 21728682A JP 21728682 A JP21728682 A JP 21728682A JP S59105862 A JPS59105862 A JP S59105862A
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- JP
- Japan
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- particles
- charged particles
- deposited
- electrostatic
- charged
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- Pending
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は静電処理装置の構造に関する。
従来、静電処理装置は静電塗装を代表例としてあげると
、第1図に示すごとく、スプレー、ガン1から圧さく空
気と共に塗料3が粒体となり、且つスプレー・ガンの噴
出口の全屈に正電位を加えて粒体を正電荷に帯電させた
、帯電粒体をへ力電位を支えられた試料2の表面に吠き
付けられ、塗装膜4が形成されるのが通例であった。
、第1図に示すごとく、スプレー、ガン1から圧さく空
気と共に塗料3が粒体となり、且つスプレー・ガンの噴
出口の全屈に正電位を加えて粒体を正電荷に帯電させた
、帯電粒体をへ力電位を支えられた試料2の表面に吠き
付けられ、塗装膜4が形成されるのが通例であった。
しかし、上記従来技術では、帯電板体は四方に飛び散り
、均一な塗装膜が困難等、静電処理の制御性に欠点があ
った。
、均一な塗装膜が困難等、静電処理の制御性に欠点があ
った。
本発明は、かかる従来技術の欠点をなくし、制御性の良
い静電処理装置を提供することを目的とする。
い静電処理装置を提供することを目的とする。
上記目的を達成するための本発明の基本的な構成は、静
電処理装置において、粒体に電荷を付与する帯電粒体発
生源と、該帯電粒体を被着させる粒体の帯電極性と極性
を異にした被着物への粒体の被着を行なう静電処理装置
において、帯電粒体発生源と被着体との間に磁石あるい
はコイルによる磁界、あるいは電極板による電界による
、帯電粒体の移送パイプを具備することを特徴とする。
電処理装置において、粒体に電荷を付与する帯電粒体発
生源と、該帯電粒体を被着させる粒体の帯電極性と極性
を異にした被着物への粒体の被着を行なう静電処理装置
において、帯電粒体発生源と被着体との間に磁石あるい
はコイルによる磁界、あるいは電極板による電界による
、帯電粒体の移送パイプを具備することを特徴とする。
以下、実施例により本発明を詳述する。
第2図は本発明の一実施例を模式的に示す。静電塗装処
理装置の図である。
理装置の図である。
スプレー・ガン11には圧さく空気と塗料が入り、出口
からは、出口に設けられた正電位を付与された金属口か
ら粒体13が正電荷を帯びて噴出し、該帯電粒体13は
コイルまたは電極板15により形成した磁界パイプまた
は電界パイプ内を通って、負の電位を付与された被着板
12の表面に被膜14が形成される。
からは、出口に設けられた正電位を付与された金属口か
ら粒体13が正電荷を帯びて噴出し、該帯電粒体13は
コイルまたは電極板15により形成した磁界パイプまた
は電界パイプ内を通って、負の電位を付与された被着板
12の表面に被膜14が形成される。
上記、本発明によると、磁界パイプまたは電界パイプ内
を帯電粒体が流れることとなり、該磁界パイプまたは電
界パイプにより粒体の飛散もなく、X、Y方向への走査
も可能となり、制御性の良い静警語理が可能となる効果
がある。
を帯電粒体が流れることとなり、該磁界パイプまたは電
界パイプにより粒体の飛散もなく、X、Y方向への走査
も可能となり、制御性の良い静警語理が可能となる効果
がある。
本発明は、静電塗装に限らず、ジェット・インクのヘッ
ド、集塵装置、静電 イオン・ガン。
ド、集塵装置、静電 イオン・ガン。
プラスと溶射ガン等の静電処理装置に用いることができ
る。
る。
第1図は従来技術による静電処理装置としての一例を示
す静電塗装装置を示す模式図、第2図は本発明による静
電処理装置の一例を示す静電塗装装置の模式図である。 1.11・・・・・・スプレー嗜ガン 2.12・・・・・・被着物 3.13・・・・・・帯電粒体 4.14・・・・・・被着膜 15・・・・・・・・・・・・コイルまたは磁石または
電極板以上
す静電塗装装置を示す模式図、第2図は本発明による静
電処理装置の一例を示す静電塗装装置の模式図である。 1.11・・・・・・スプレー嗜ガン 2.12・・・・・・被着物 3.13・・・・・・帯電粒体 4.14・・・・・・被着膜 15・・・・・・・・・・・・コイルまたは磁石または
電極板以上
Claims (1)
- 粒体に電荷を付与する帯電粒体発生源と、該′帯電粒体
を被着さ、せる粒体の帯電極性と極性を異にした被着物
への粒体の被着を行なう静電処理装置において、帯電粒
体発生源と被着体との間に磁石あるいはコイルによる磁
界あるいは電極板による電界による帯電粒体の移送ノく
イブを具備することを特徴とする静電処理装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP21728682A JPS59105862A (ja) | 1982-12-10 | 1982-12-10 | 静電処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP21728682A JPS59105862A (ja) | 1982-12-10 | 1982-12-10 | 静電処理装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS59105862A true JPS59105862A (ja) | 1984-06-19 |
Family
ID=16701751
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP21728682A Pending JPS59105862A (ja) | 1982-12-10 | 1982-12-10 | 静電処理装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS59105862A (ja) |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH01122435A (ja) * | 1987-11-05 | 1989-05-15 | L Ee C:Kk | インク用スプレーガン装置 |
JPH01274861A (ja) * | 1988-04-26 | 1989-11-02 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | 超高速溶射装置 |
JP2002280719A (ja) * | 2001-03-21 | 2002-09-27 | Denpuro:Kk | フラックス塗布装置 |
JP2011041908A (ja) * | 2009-08-21 | 2011-03-03 | Saitama Univ | 静電塗布方法及び装置 |
WO2015151971A1 (ja) * | 2014-03-31 | 2015-10-08 | ナガセテクノエンジニアリング株式会社 | 静電塗布装置及び静電塗布方法 |
CN108883385A (zh) * | 2017-10-16 | 2018-11-23 | 天津策浪生物科技有限公司 | 用于流化床设备的电喷雾装置、流化床设备及方法 |
-
1982
- 1982-12-10 JP JP21728682A patent/JPS59105862A/ja active Pending
Cited By (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH01122435A (ja) * | 1987-11-05 | 1989-05-15 | L Ee C:Kk | インク用スプレーガン装置 |
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JP2015192951A (ja) * | 2014-03-31 | 2015-11-05 | ナガセテクノエンジニアリング株式会社 | 静電塗布装置 |
CN108883385A (zh) * | 2017-10-16 | 2018-11-23 | 天津策浪生物科技有限公司 | 用于流化床设备的电喷雾装置、流化床设备及方法 |
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CN108883385B (zh) * | 2017-10-16 | 2021-08-03 | 天津策浪生物科技有限公司 | 用于流化床设备的电喷雾装置、流化床设备及方法 |
US11845100B2 (en) | 2017-10-16 | 2023-12-19 | Tianjin Cenax Biotechnology Co., Ltd. | Electrospray device for fluidized bed apparatus, fluidized bed apparatus and method |
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