JPS59104813A - 縦振動型圧電振動子の電極形成方法 - Google Patents
縦振動型圧電振動子の電極形成方法Info
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- JPS59104813A JPS59104813A JP21526482A JP21526482A JPS59104813A JP S59104813 A JPS59104813 A JP S59104813A JP 21526482 A JP21526482 A JP 21526482A JP 21526482 A JP21526482 A JP 21526482A JP S59104813 A JPS59104813 A JP S59104813A
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- 238000001259 photo etching Methods 0.000 claims description 4
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 abstract description 4
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 15
- 238000000034 method Methods 0.000 description 11
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 7
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 7
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 6
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 3
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 3
- 239000000463 material Substances 0.000 description 3
- 241000257465 Echinoidea Species 0.000 description 2
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Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H03—ELECTRONIC CIRCUITRY
- H03H—IMPEDANCE NETWORKS, e.g. RESONANT CIRCUITS; RESONATORS
- H03H3/00—Apparatus or processes specially adapted for the manufacture of impedance networks, resonating circuits, resonators
- H03H3/007—Apparatus or processes specially adapted for the manufacture of impedance networks, resonating circuits, resonators for the manufacture of electromechanical resonators or networks
- H03H3/02—Apparatus or processes specially adapted for the manufacture of impedance networks, resonating circuits, resonators for the manufacture of electromechanical resonators or networks for the manufacture of piezoelectric or electrostrictive resonators or networks
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- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Piezo-Electric Or Mechanical Vibrators, Or Delay Or Filter Circuits (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は縦振動をする主撮動部と、核主保動部を支持す
る音叉型状の支持体部とをフォトエツチング加工によシ
一体で形成する縦振動型圧電振動子に関する。
る音叉型状の支持体部とをフォトエツチング加工によシ
一体で形成する縦振動型圧電振動子に関する。
本発明の目的は、電極形成が容易で、安価な縦振動型圧
電振動子を提供することにある。
電振動子を提供することにある。
本発明の縦微動型圧電振動子の先行例として。
本出願人の先頭である縦振動型圧電振動子の実施例を第
1図に示す。第1図(A)は斜視図であり、同図におい
て本例の縦振動型圧電振動子は、縦振動をする主振動部
1と、該主撮動部1の撮動変位の最も小さくなる位置に
核生糸動部10幅方向に設けられた連結部2.2′と、
核連結部2.2′の両端から前記主撮動部1の一方と平
行に支持3.3′を延長し、前記主振動部1を除く支持
体部が音叉形状を構成するように基部4を設けた構成を
特徴としたものである。本例の縦微動型圧電振動子は、
主撮動部1を支持しでいる連結部2.2′と支持部6.
3′と基部4とからなる支持本部が音叉形状となってい
るため、振動エネルギーの漏洩を効果的に抑制できると
いう特性上の利点と、小型、低価格化に適するという構
造上の利点とを有している。
1図に示す。第1図(A)は斜視図であり、同図におい
て本例の縦振動型圧電振動子は、縦振動をする主振動部
1と、該主撮動部1の撮動変位の最も小さくなる位置に
核生糸動部10幅方向に設けられた連結部2.2′と、
核連結部2.2′の両端から前記主撮動部1の一方と平
行に支持3.3′を延長し、前記主振動部1を除く支持
体部が音叉形状を構成するように基部4を設けた構成を
特徴としたものである。本例の縦微動型圧電振動子は、
主撮動部1を支持しでいる連結部2.2′と支持部6.
3′と基部4とからなる支持本部が音叉形状となってい
るため、振動エネルギーの漏洩を効果的に抑制できると
いう特性上の利点と、小型、低価格化に適するという構
造上の利点とを有している。
掬1図(B)は第1図(〜のQ、 −Q’における断面
図をボし、同図において核縦振動子は、水晶板の2板を
X軸間りに一5°−+5° の範囲で回転させた水晶ウ
ェハーから主振動部1の幅方向をX軸、長さ方向をY軸
、1!vさ方向を2軸となるようフォトエツチング加工
により形成する。主振動部は、X方向、即ち1幅方向の
m5’iLKよってY方向、即ち。
図をボし、同図において核縦振動子は、水晶板の2板を
X軸間りに一5°−+5° の範囲で回転させた水晶ウ
ェハーから主振動部1の幅方向をX軸、長さ方向をY軸
、1!vさ方向を2軸となるようフォトエツチング加工
により形成する。主振動部は、X方向、即ち1幅方向の
m5’iLKよってY方向、即ち。
長さ方向の縦振動が励起されるように、主電極5゜6が
核主振動部1の側面に形成されている。
核主振動部1の側面に形成されている。
次に、このような電極を形成するための工程例を主振動
部の断面図を用いて第2図に示す1.第2図(A)は圧
電1ウエハー7の表裏に該圧電ウエノ・−1の材料のエ
ツチング液に対して耐食性のある導電性薄膜8.8′を
形成する工程、第2図(B)は圧電振動子外形形状のフ
ォトレジスト9.グを形成する工程、第2図(C)は該
フォトレジスト9.9’を耐食膜として該導電性薄膜8
.8′を圧電振動子外形形状にエツチング加工する工程
、第2図(D) Fi核導電性薄@818’を耐食膜と
して該圧電ウニ・・7を圧v+b動子外形形状にエツチ
ング加工する工程、第2図(E)は該フォトレジスト9
.グを剥離した後。
部の断面図を用いて第2図に示す1.第2図(A)は圧
電1ウエハー7の表裏に該圧電ウエノ・−1の材料のエ
ツチング液に対して耐食性のある導電性薄膜8.8′を
形成する工程、第2図(B)は圧電振動子外形形状のフ
ォトレジスト9.グを形成する工程、第2図(C)は該
フォトレジスト9.9’を耐食膜として該導電性薄膜8
.8′を圧電振動子外形形状にエツチング加工する工程
、第2図(D) Fi核導電性薄@818’を耐食膜と
して該圧電ウニ・・7を圧v+b動子外形形状にエツチ
ング加工する工程、第2図(E)は該フォトレジスト9
.グを剥離した後。
正正振動子のほぼ全表面に導電性薄膜10を形成する工
程、第2図(F’)は電極形状のフォトレジスト11.
11’を形成する工程、第2図(G)は該フォトレジス
ト11.11’を耐食膜として咳導電性薄膜8.8’、
10をエツチング加工する工程、第2図([()は該フ
ォトレジスト11.11’を剥離する工程である。
程、第2図(F’)は電極形状のフォトレジスト11.
11’を形成する工程、第2図(G)は該フォトレジス
ト11.11’を耐食膜として咳導電性薄膜8.8’、
10をエツチング加工する工程、第2図([()は該フ
ォトレジスト11.11’を剥離する工程である。
以上に述べた工程によれば、 fi11面への導電性薄
膜の形成を容易に行うことができるが、一方、次の点で
欠点を有する。即ち、m21sp(tQの電極形状の7
オトレジス)11.11’を形成する工程を詳しく述べ
ると、フォトレジストを圧1tffi動子の#1ぼ全表
面に塗布する工程と、所定の電極形状のフォトマスクを
用いて該フォトレジスト上に電極形状を露光する工程と
、現像処理により露光された部分のフォトレジストを除
去し電極形状のフォトレジストを除去し電極形状のフォ
トレジストを残す工程よりなる。第1図に示した電極形
状より明らかなように、2個の電極に分割するためには
。
膜の形成を容易に行うことができるが、一方、次の点で
欠点を有する。即ち、m21sp(tQの電極形状の7
オトレジス)11.11’を形成する工程を詳しく述べ
ると、フォトレジストを圧1tffi動子の#1ぼ全表
面に塗布する工程と、所定の電極形状のフォトマスクを
用いて該フォトレジスト上に電極形状を露光する工程と
、現像処理により露光された部分のフォトレジストを除
去し電極形状のフォトレジストを除去し電極形状のフォ
トレジストを残す工程よりなる。第1図に示した電極形
状より明らかなように、2個の電極に分割するためには
。
圧tM、&動子の平面部分のみでなく、1l111面も
所定の形状に導電性薄膜をエツチング加工しなければな
ら71い。このため菫、棒形状の露光をする工程におい
て、側面への露光をする必要があり、これがむずかしい
点でめった。従来はウエノ・の斜め方向からの露光によ
り、平圃部と1目11面部の露光を行っていたが、この
場合下記のような欠点を有する。
所定の形状に導電性薄膜をエツチング加工しなければな
ら71い。このため菫、棒形状の露光をする工程におい
て、側面への露光をする必要があり、これがむずかしい
点でめった。従来はウエノ・の斜め方向からの露光によ
り、平圃部と1目11面部の露光を行っていたが、この
場合下記のような欠点を有する。
(わ 微細パターンが得離い
■ ウェハーとフォトマスクを密着させる必要があるた
め、フォトマスクが損傷しやすく、その欠陥により製品
歩留りが低下する。
め、フォトマスクが損傷しやすく、その欠陥により製品
歩留りが低下する。
(■ 斜め露光は片面において2方向から行う必要があ
り1表裏では計4回行うため手間がかかる。
り1表裏では計4回行うため手間がかかる。
不発明は、圧WL IAe動子の外形形状を工夫するこ
とにより、電極形状を芥易KL、かかる欠点を解決する
ものである。第3図に本発明の実施例を示 5− す。第5図において、12は圧電撮動子、13゜14は
該圧WL奈動子12に形成された2個の電極、15.1
6は主振動部19の先端部に形成された四部、1y’d
音叉1状の支持体部の叉部に形成された凹部、18はウ
ニ・・−のフレーム(図示せず)との接続部の折り取り
部である。本例における凹部15,16.17は、圧i
a材の異方性によりエツチング加工の際、第4図に示す
ような形状となる。第4図(A)は主撮動部先端の平面
図を示し、主摂動部19の先端に設けた四部20にはい
わゆるエツチングのヒレ21が現わ九る。第4図(B)
は第4図(A)のP−y断面を示し、エツチングのヒレ
21Fi図示のごとく斜面22.22’を形成している
。したがって、このような形状においては、圧電ウェハ
に垂直な光によっても凹部を形成した部分の4611面
に露光することができるようになる。したがって、第3
図の15.16.17においては側面のI¥極外分割容
易に達成できる。一方、第3図の折り取り部18におい
ても電極分割が必要となるが1図示したようにウエノ・
−のフレームとの 6− v絖部分が形成されており、圧電振動子をウェー・−の
フレームから折り取る際に電極分割されるため、四部を
形成する必要はない。このように本発明りでよれば下記
のような利点が生ずる。
とにより、電極形状を芥易KL、かかる欠点を解決する
ものである。第3図に本発明の実施例を示 5− す。第5図において、12は圧電撮動子、13゜14は
該圧WL奈動子12に形成された2個の電極、15.1
6は主振動部19の先端部に形成された四部、1y’d
音叉1状の支持体部の叉部に形成された凹部、18はウ
ニ・・−のフレーム(図示せず)との接続部の折り取り
部である。本例における凹部15,16.17は、圧i
a材の異方性によりエツチング加工の際、第4図に示す
ような形状となる。第4図(A)は主撮動部先端の平面
図を示し、主摂動部19の先端に設けた四部20にはい
わゆるエツチングのヒレ21が現わ九る。第4図(B)
は第4図(A)のP−y断面を示し、エツチングのヒレ
21Fi図示のごとく斜面22.22’を形成している
。したがって、このような形状においては、圧電ウェハ
に垂直な光によっても凹部を形成した部分の4611面
に露光することができるようになる。したがって、第3
図の15.16.17においては側面のI¥極外分割容
易に達成できる。一方、第3図の折り取り部18におい
ても電極分割が必要となるが1図示したようにウエノ・
−のフレームとの 6− v絖部分が形成されており、圧電振動子をウェー・−の
フレームから折り取る際に電極分割されるため、四部を
形成する必要はない。このように本発明りでよれば下記
のような利点が生ずる。
(ll ウェハーに垂直方向の光のみで露光できるた
め、形状精度が良くなる。
め、形状精度が良くなる。
■ 10ジ工クシヨン方式の露光ができるため、フォト
マスクの横部がなくなり、製品歩留りが良くなる。
マスクの横部がなくなり、製品歩留りが良くなる。
(]ノ 70ジ工クシヨン方式の露tにより、アライ
メントが楽1くなり、表裏同時に1回だけの露光で済む
ため%製造コヌトが安くなる。
メントが楽1くなり、表裏同時に1回だけの露光で済む
ため%製造コヌトが安くなる。
第5図は、本発明の他の実施例であり、23は圧電振動
子、24.25は該圧電振動子23に形成された2個の
!ff極である。本例においては、主振動部の先端の電
極形状が周波数調整を考慮した形状になっている。この
几め、主撮動部の電極分割部26.27には機械的強度
の点から凹部を形成できないみぐ、音叉形状の支持体部
の又部28のみに凹部を形成しである。この場合、ウェ
ハーとフォトマスクを密着させて斜め露光する必要かめ
るが、もし、四部28が無い場合には、X方向とY方向
の2回缶めNLする必要がある。これに対し1本例でI
dx方向の1回のみの露光で良い。
子、24.25は該圧電振動子23に形成された2個の
!ff極である。本例においては、主振動部の先端の電
極形状が周波数調整を考慮した形状になっている。この
几め、主撮動部の電極分割部26.27には機械的強度
の点から凹部を形成できないみぐ、音叉形状の支持体部
の又部28のみに凹部を形成しである。この場合、ウェ
ハーとフォトマスクを密着させて斜め露光する必要かめ
るが、もし、四部28が無い場合には、X方向とY方向
の2回缶めNLする必要がある。これに対し1本例でI
dx方向の1回のみの露光で良い。
また1本発明における四部の形状については。
上記に述べた円弧の他に、三角形、四角形でも良く、圧
電材のエツチングによってヒレをうまく形成できる形状
の四部であれば良い。また、フォトエツチング加工の利
点として、形状の複雑さは何ら加工性を阻害するもので
はない。
電材のエツチングによってヒレをうまく形成できる形状
の四部であれば良い。また、フォトエツチング加工の利
点として、形状の複雑さは何ら加工性を阻害するもので
はない。
第1図は従来の縦振動型圧電娠動子の一例第2図は製造
工程の一例 第3図は本発明の実施例 第4図は本発明の実施例における主振動部の拡大図 第5図は本発明の他の実施例 1・・・主撮動部 2.2′・・・連結部3.
3′・・・支持部 4・・・基部5.6・・・主
電極 7・・・圧電ウエノ・−8,8・・・導
電性薄膜 9.グ・・・フォトレジスト10・・・
導電性情[jLll・・・フォトレジスト12・・・圧
電振動子 13.14・・・電極15.16.17
・・・凹部 18・・・折シ取り部19・・・主振動
部 20・・・四部21・・・ヒレ
22 + 22’・・・斜面25・・・圧電振動子
24.25・・・電極26.27・・・電極分割部
28・・・凹部以 上 9− ;?2因 身S口 才40(△) 9 +4−囚(+3) 72−
工程の一例 第3図は本発明の実施例 第4図は本発明の実施例における主振動部の拡大図 第5図は本発明の他の実施例 1・・・主撮動部 2.2′・・・連結部3.
3′・・・支持部 4・・・基部5.6・・・主
電極 7・・・圧電ウエノ・−8,8・・・導
電性薄膜 9.グ・・・フォトレジスト10・・・
導電性情[jLll・・・フォトレジスト12・・・圧
電振動子 13.14・・・電極15.16.17
・・・凹部 18・・・折シ取り部19・・・主振動
部 20・・・四部21・・・ヒレ
22 + 22’・・・斜面25・・・圧電振動子
24.25・・・電極26.27・・・電極分割部
28・・・凹部以 上 9− ;?2因 身S口 才40(△) 9 +4−囚(+3) 72−
Claims (3)
- (1)縦振動をする主振動部と、該主糸動部を支持する
音叉形状の支持体部とをフォトエツチング加工により一
体で形成し、主電極が生保動部の側面にある縦振動型圧
R&動子において、側面の電極を分割する部分に凹部を
設けたことを特徴とする縦振動型圧電振動子。 - (2)四部は音叉形状の支持体部の叉部に形成したこと
を特徴とする特許請求の範囲第1項記載の縦振動型圧電
振動子。 - (3)凹部は主振動部の画先端部と音叉形状の支持体部
の叉部とに形成したことを特徴とする特許請求の範囲第
1項記載の縦振動型圧電振動子。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP21526482A JPS59104813A (ja) | 1982-12-07 | 1982-12-07 | 縦振動型圧電振動子の電極形成方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP21526482A JPS59104813A (ja) | 1982-12-07 | 1982-12-07 | 縦振動型圧電振動子の電極形成方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS59104813A true JPS59104813A (ja) | 1984-06-16 |
JPH0345930B2 JPH0345930B2 (ja) | 1991-07-12 |
Family
ID=16669425
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP21526482A Granted JPS59104813A (ja) | 1982-12-07 | 1982-12-07 | 縦振動型圧電振動子の電極形成方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS59104813A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7126262B2 (en) | 2003-06-04 | 2006-10-24 | Seiko Epson Corporation | Piezoelectric vibration gyro element, method for manufacturing the same, and piezoelectric vibration gyro sensor |
-
1982
- 1982-12-07 JP JP21526482A patent/JPS59104813A/ja active Granted
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7126262B2 (en) | 2003-06-04 | 2006-10-24 | Seiko Epson Corporation | Piezoelectric vibration gyro element, method for manufacturing the same, and piezoelectric vibration gyro sensor |
CN100351609C (zh) * | 2003-06-04 | 2007-11-28 | 精工爱普生株式会社 | 压电振动陀螺元件及其制造方法、压电振动陀螺传感器 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0345930B2 (ja) | 1991-07-12 |
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