JPS59101627A - 全固体型エレクトロクロミツク素子の製造方法 - Google Patents
全固体型エレクトロクロミツク素子の製造方法Info
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- JPS59101627A JPS59101627A JP57210787A JP21078782A JPS59101627A JP S59101627 A JPS59101627 A JP S59101627A JP 57210787 A JP57210787 A JP 57210787A JP 21078782 A JP21078782 A JP 21078782A JP S59101627 A JPS59101627 A JP S59101627A
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- JP
- Japan
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- layer
- electrochromic
- vapor
- electrode
- film
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- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/15—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on an electrochromic effect
- G02F1/153—Constructional details
- G02F1/1533—Constructional details structural features not otherwise provided for
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- Physics & Mathematics (AREA)
- Nonlinear Science (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Electrochromic Elements, Electrophoresis, Or Variable Reflection Or Absorption Elements (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は電気化学的発消色現象すなわちエレクトロクロ
ミック現象を利用したエレクトロクロミック素子の製造
方法に関するものである。
ミック現象を利用したエレクトロクロミック素子の製造
方法に関するものである。
エレクトロクロミック現象とは、電圧を加えた時に酸化
還元反応により物質に色が付く現象を指す。このような
エレクトロクロミック現象を利用する電気化学的発消色
素子すなわちエレクトロクロミック素子は、例えば、数
字表示素子、Ｘ−Ｙマトリクスディスプレイ、光学シャ
ッタ、絞シ機構等に応用できるもので、その材料で分類
すると液体型と固体型に分けられるが、本発明は特に全
固体型のエレクトロクロミック素子に関するものである
。
還元反応により物質に色が付く現象を指す。このような
エレクトロクロミック現象を利用する電気化学的発消色
素子すなわちエレクトロクロミック素子は、例えば、数
字表示素子、Ｘ−Ｙマトリクスディスプレイ、光学シャ
ッタ、絞シ機構等に応用できるもので、その材料で分類
すると液体型と固体型に分けられるが、本発明は特に全
固体型のエレクトロクロミック素子に関するものである
。
エレクトロクロミック現象を利用した全固体型エレクト
ロクロミック素子の２つの例を第１図および第２図に示
す。
ロクロミック素子の２つの例を第１図および第２図に示
す。
第１図に示すエレクトロクロミック素子は、透明な基板
１の上に、透明導電体膜よシなる第１電極２、陽極側発
色層であるエレクトロクロミック層３、誘電体膜からな
る絶縁層４、導電体膜よシ成る第２電極５を順次積層し
てなるものである。
１の上に、透明導電体膜よシなる第１電極２、陽極側発
色層であるエレクトロクロミック層３、誘電体膜からな
る絶縁層４、導電体膜よシ成る第２電極５を順次積層し
てなるものである。
また、第２図に示すエレクトロクロミック素子は、第１
図に示す構造における絶縁層４と第２電極５との間に、
さらに、陰極側発色層である第２のエレクトロクロミッ
ク層６を積層したものである。
図に示す構造における絶縁層４と第２電極５との間に、
さらに、陰極側発色層である第２のエレクトロクロミッ
ク層６を積層したものである。
上記の構造において、基板１は一般的にガラス板によっ
て形成されるが、これはガラス板に限らず、プラスチッ
ク板またはアクリル板等の透明な板ならばよく、また、
その位置に関しても、第１電極２の下ではなく、第２電
極５の上にあってもよいし、目的に応じて（例えば、保
護カバーとするなどの目的で）両側に設けてもよい。た
だし、これらの場合に応じて、第２電極５を透明導電膜
にしたシ、両側の電極とも透明導電膜にする必要がある
。
て形成されるが、これはガラス板に限らず、プラスチッ
ク板またはアクリル板等の透明な板ならばよく、また、
その位置に関しても、第１電極２の下ではなく、第２電
極５の上にあってもよいし、目的に応じて（例えば、保
護カバーとするなどの目的で）両側に設けてもよい。た
だし、これらの場合に応じて、第２電極５を透明導電膜
にしたシ、両側の電極とも透明導電膜にする必要がある
。
両方の電極を透明電極とすれば、素子を透明型として使
用できる。この様な透明導電膜としては、ＩＴＯ膜（酸
化インジウムＩｎ２Ｏ３中に酸化錫５ｎ０２を５％前後
含む）やネサ膜等が用いられる。
用できる。この様な透明導電膜としては、ＩＴＯ膜（酸
化インジウムＩｎ２Ｏ３中に酸化錫５ｎ０２を５％前後
含む）やネサ膜等が用いられる。
上記の構造において、陽極側発色層である第１のエレク
トロクロミック層３は、酸化クロム（ＣｒｚＯｓ ）、
水酸化イリジウム（Ｉｒ（ＯＨ）ｚ ）、水酸化ニッケ
ル（Ｎ１（ｏｎ）２）等を用いて形成する。
トロクロミック層３は、酸化クロム（ＣｒｚＯｓ ）、
水酸化イリジウム（Ｉｒ（ＯＨ）ｚ ）、水酸化ニッケ
ル（Ｎ１（ｏｎ）２）等を用いて形成する。
誘電体からなる絶縁層４は、二酸化ジルコン（ＺｒＯ２
）、酸化ケイ素（ＳｉＯ）、二酸化ケイ素（５ｉ０２
）、五酸化タンタル（Ｔａ２０５ ）等に代表される酸
化物、あるいはフッ化リチウム（ＬｉＦ ）、フッ化マ
グネシウム（ＭｇＦｚ）等に代表されるフッ化物を用い
て形成する。
）、酸化ケイ素（ＳｉＯ）、二酸化ケイ素（５ｉ０２
）、五酸化タンタル（Ｔａ２０５ ）等に代表される酸
化物、あるいはフッ化リチウム（ＬｉＦ ）、フッ化マ
グネシウム（ＭｇＦｚ）等に代表されるフッ化物を用い
て形成する。
まだ、陰極側発色層であるエレクトロクロミック層３は
、二酸化タングステン（ＷＯ２’ ） 、三酸化タング
ステン（ＷＯｓ ） 、二酸化モリブデン（ＭｏＯ２）
、三酸化モリブデン（ＭｏＯ３）、五酸化バナジウム（
Ｖ２Ｏ５）等を用いて形成する。
、二酸化タングステン（ＷＯ２’ ） 、三酸化タング
ステン（ＷＯｓ ） 、二酸化モリブデン（ＭｏＯ２）
、三酸化モリブデン（ＭｏＯ３）、五酸化バナジウム（
Ｖ２Ｏ５）等を用いて形成する。
この様な構造をもつ全固体型エレクトロクロミック素子
は、第１電極２と第２電極５の間に電圧を印加すること
によシミ気化学的反応が起き、発色、消色をする。この
発色機構は、例えば、エレクトロクロミック層６へのカ
チオンと電子のダブルインジェクションによるブロンズ
形成にあると一般的に言われている。例えば、エレクト
ロクロミック物質として、ＷＯ３を用いる場合には、次
の（１）式で表わされる酸化還元反応が起き発色する。
は、第１電極２と第２電極５の間に電圧を印加すること
によシミ気化学的反応が起き、発色、消色をする。この
発色機構は、例えば、エレクトロクロミック層６へのカ
チオンと電子のダブルインジェクションによるブロンズ
形成にあると一般的に言われている。例えば、エレクト
ロクロミック物質として、ＷＯ３を用いる場合には、次
の（１）式で表わされる酸化還元反応が起き発色する。
ＷＯ３＋ｘＨ” ＋ｘｅ−： ＨｘＷＯ３（１）（１）
式に従って、タングステンブロンズＨｘＷ０５ カ形成
され発色するが、ここで印加電圧を逆転すれば消色状態
となる。
式に従って、タングステンブロンズＨｘＷ０５ カ形成
され発色するが、ここで印加電圧を逆転すれば消色状態
となる。
本発明は、上述のように、導電体膜よシなる第１電極２
、陽極側発色層であるエレクトロクロミック層３、誘電
体膜からなる絶縁層４、導電体膜より成る第２電極５を
順次積層しく第１図）、或いは導電体膜よシなる第１電
極２、陽極側発色層であるエレクトロクロミック層３、
誘電体膜からなる絶縁層４、陰極側発色層である第２の
エレクトロクロミック層６、導電体膜よシ成る第２電極
５を順次積層しく第２図）てなる全固体型エレクトロク
ロミック素子を製造する際の、陽極側発色層であるエレ
クトロクロミック層３を形成する際に、蒸発材料に金属
イリジウムを用いた時の製造方法に関するものであシ、
さらに詳しくは、蒸着方法及びその条件に関するもので
ある。
、陽極側発色層であるエレクトロクロミック層３、誘電
体膜からなる絶縁層４、導電体膜より成る第２電極５を
順次積層しく第１図）、或いは導電体膜よシなる第１電
極２、陽極側発色層であるエレクトロクロミック層３、
誘電体膜からなる絶縁層４、陰極側発色層である第２の
エレクトロクロミック層６、導電体膜よシ成る第２電極
５を順次積層しく第２図）てなる全固体型エレクトロク
ロミック素子を製造する際の、陽極側発色層であるエレ
クトロクロミック層３を形成する際に、蒸発材料に金属
イリジウムを用いた時の製造方法に関するものであシ、
さらに詳しくは、蒸着方法及びその条件に関するもので
ある。
従来、上述のようなエレクトロクロミック素子を製造す
る際、陽極側エレクトロクロミック層であるエレクトロ
クロミック層３は、イリジウムＩｒやニッケルＮｉある
いはこれらの酸化物をターダットにした反応性スパッタ
や陽極酸化膜方法で形成されることが報告されている。
る際、陽極側エレクトロクロミック層であるエレクトロ
クロミック層３は、イリジウムＩｒやニッケルＮｉある
いはこれらの酸化物をターダットにした反応性スパッタ
や陽極酸化膜方法で形成されることが報告されている。
本発明は、上記の様な方法を用いず、別な方法でよシ性
能の良い膜を形成することを図ったもので、即ち、装置
として、反応性イオングレーティング装置を用い、蒸着
材料に金属イリジウムを用いて、雰囲気をＨ２０蒸気ま
たはＨ２０蒸気と０２ガスで満たすことによシ、所望の
エレクトロクロミック物質の膜を形成することを特徴と
するものである。
能の良い膜を形成することを図ったもので、即ち、装置
として、反応性イオングレーティング装置を用い、蒸着
材料に金属イリジウムを用いて、雰囲気をＨ２０蒸気ま
たはＨ２０蒸気と０２ガスで満たすことによシ、所望の
エレクトロクロミック物質の膜を形成することを特徴と
するものである。
本発明による方法を実施するのに使用される反応性イオ
ンブレーティング装置の一例を第３図に示す。図中、１
０は反応性イオンシレーティング装置本体、１１は拡散
ポンプ、１２は電子銃（ＥＢガン）、１３は傘、１４は
ＤＣバイアスを印加するＤＣバイアス源、１５は高周波
コイル（ＲＦコイル）、１６はＨ２０蒸気を供給するＨ
２０蒸気供給分、１７は０２ガスを供給するガス？ンペ
、１８および１９はニードルバルブを示す。
ンブレーティング装置の一例を第３図に示す。図中、１
０は反応性イオンシレーティング装置本体、１１は拡散
ポンプ、１２は電子銃（ＥＢガン）、１３は傘、１４は
ＤＣバイアスを印加するＤＣバイアス源、１５は高周波
コイル（ＲＦコイル）、１６はＨ２０蒸気を供給するＨ
２０蒸気供給分、１７は０２ガスを供給するガス？ンペ
、１８および１９はニードルバルブを示す。
上記の装置を用いて蒸着する際、Ｈ２０蒸気またはＨ２
０蒸気と０２ガスを導入した後の真空度は２．０〜５．
ＯＸ １０−’ Ｔｏｒｒとし、蒸着速度を０．６〜
２．０Ｘ／ｓｅｃとするのがよい。
０蒸気と０２ガスを導入した後の真空度は２．０〜５．
ＯＸ １０−’ Ｔｏｒｒとし、蒸着速度を０．６〜
２．０Ｘ／ｓｅｃとするのがよい。
次に、全固体屋エレクトロクロミック素子を製造する本
発明の実施例について説明する。
発明の実施例について説明する。
実施例１
厚さ０．８咽のガラス（Ｃｏｒｎｉｎｇ ７０５９ ）
の板よりなる基板１の上に、適当な引き出し電極部およ
びリード部を備えたＩＴＯ膜の第１電極２を形成ラムを
用い、反応性イオングレーティング方法によシ、上記の
第１電極２の上に、陽極側発色層であるエレクトロクロ
ミック層３の１５００１厚の膜を形成した。
の板よりなる基板１の上に、適当な引き出し電極部およ
びリード部を備えたＩＴＯ膜の第１電極２を形成ラムを
用い、反応性イオングレーティング方法によシ、上記の
第１電極２の上に、陽極側発色層であるエレクトロクロ
ミック層３の１５００１厚の膜を形成した。
反応性イオンシレーティング装置の使用条件は次の通り
であった。
であった。
ＥＢガン１２ ６〜９ｋｖＲＦコイル１５
（５巻） １００〜３００ＷＤＣバイアス源１４
０．２〜１． ＯｋＶ蒸着条件は次の過多であった
。
（５巻） １００〜３００ＷＤＣバイアス源１４
０．２〜１． ＯｋＶ蒸着条件は次の過多であった
。
反応性イオンブレーティング装置内を真空とし、ニード
ルバルブ１８を開いてＨ２０蒸気供給源１６からＨ２０
蒸気を５． ＯＸ １０−’ Ｔｏｒｒまで導入し、蒸
着速度を１．０Ｘ／ｓｅｅとした。これによシ約１５０
０１厚のエレクトロクロミック層３が形成された。この
エレクトロクロミック層３は陽極側エレクトロクロミッ
ク層として作用するもので、Ｈ２０蒸気を導入すること
によってＩｒ（ＯＨ）２の膜を形成するものと考えられ
る。
ルバルブ１８を開いてＨ２０蒸気供給源１６からＨ２０
蒸気を５． ＯＸ １０−’ Ｔｏｒｒまで導入し、蒸
着速度を１．０Ｘ／ｓｅｅとした。これによシ約１５０
０１厚のエレクトロクロミック層３が形成された。この
エレクトロクロミック層３は陽極側エレクトロクロミッ
ク層として作用するもので、Ｈ２０蒸気を導入すること
によってＩｒ（ＯＨ）２の膜を形成するものと考えられ
る。
さらに、上記のエレクトロクロミック層３の膜の上に、
真空蒸着方法によシ、絶縁層４としてＴａ２Ｏ’５の層
を３０００Ｘ、陰極側エレクトロクロミック層６として
ｗｏ３層を３０００Ｘ付けた。蒸着条件は真空度２．
ＯＸ １０ Ｔｏｒｒ 、蒸着速度１０ｉ／ｓｅｅで
あった。これらの膜上に、第２電極５として半透明導電
Ａ ｕ’ｆＴ膜を３００Ｘ付けた。
真空蒸着方法によシ、絶縁層４としてＴａ２Ｏ’５の層
を３０００Ｘ、陰極側エレクトロクロミック層６として
ｗｏ３層を３０００Ｘ付けた。蒸着条件は真空度２．
ＯＸ １０ Ｔｏｒｒ 、蒸着速度１０ｉ／ｓｅｅで
あった。これらの膜上に、第２電極５として半透明導電
Ａ ｕ’ｆＴ膜を３００Ｘ付けた。
この様にして製作した、全固体壓エレクトロクロミック
素子を、第１電極と第２電極の間に、２．０■の電圧を
印加して駆動したところ、着色濃度がΔＯ，ンで０．４
に達するまでに３００ ｍ５ｅｃであった０ 実施例２ 実施例１と同様に厚さ０．８ ｔａｎのガラス（＋：：
□ｒｎｉｎｇ７０５９）の板よシなる基板１の上に第１
電極２を形成し、第３図に示す反応性イオンシレーティ
ング装置を使用し、蒸着材料に金属イリジウムを用いて
第１電極２上に陽極側発色層であるエレクトロクロミッ
ク層３の１５００Ｘ厚の膜を形成した。
素子を、第１電極と第２電極の間に、２．０■の電圧を
印加して駆動したところ、着色濃度がΔＯ，ンで０．４
に達するまでに３００ ｍ５ｅｃであった０ 実施例２ 実施例１と同様に厚さ０．８ ｔａｎのガラス（＋：：
□ｒｎｉｎｇ７０５９）の板よシなる基板１の上に第１
電極２を形成し、第３図に示す反応性イオンシレーティ
ング装置を使用し、蒸着材料に金属イリジウムを用いて
第１電極２上に陽極側発色層であるエレクトロクロミッ
ク層３の１５００Ｘ厚の膜を形成した。
反応性イオンブレーティング装置の使用条件は実施例１
と同様であるが、蒸着条件は次の通夛であった。
と同様であるが、蒸着条件は次の通夛であった。
反応性イオンブレーティング装置内を真空とし、先ず、
ニードルバルブ１８を開いて、Ｈ２０蒸気供給源１６か
らＨ２０蒸気を３． ＯＸ １０ Ｔｏｒｒまで導入
し、その後、ニードルバルブ１８を閉じ、ニードルバル
ブ１９を開いて０２ガスポンベ１７から０２ガスを５．
ＯＸ １０−’ Ｔｏｒｒまで導入し、蒸着速度を１
．０Ｘ／門Ｃとした。これによシ、約１５００Ｘ厚のエ
レクトロクロミック層３が形成された。このエレクトロ
クロミック層は陽極側発色層として作用するもので、蒸
着に際してＨ２０ガスを導入するのはＩｒ（ＯＨ）２を
製造するためである。また、０２ガスを導入するのは、
Ｉｒ０−Ｈ２ＯまたはＩｒ２Ｏ３・Ｈ２Ｏまたはこれら
の混合した膜をつくるためである。
ニードルバルブ１８を開いて、Ｈ２０蒸気供給源１６か
らＨ２０蒸気を３． ＯＸ １０ Ｔｏｒｒまで導入
し、その後、ニードルバルブ１８を閉じ、ニードルバル
ブ１９を開いて０２ガスポンベ１７から０２ガスを５．
ＯＸ １０−’ Ｔｏｒｒまで導入し、蒸着速度を１
．０Ｘ／門Ｃとした。これによシ、約１５００Ｘ厚のエ
レクトロクロミック層３が形成された。このエレクトロ
クロミック層は陽極側発色層として作用するもので、蒸
着に際してＨ２０ガスを導入するのはＩｒ（ＯＨ）２を
製造するためである。また、０２ガスを導入するのは、
Ｉｒ０−Ｈ２ＯまたはＩｒ２Ｏ３・Ｈ２Ｏまたはこれら
の混合した膜をつくるためである。
さらに、このエレクトロクロミック層３の膜の上に、真
空蒸着方法によシ、絶縁層であるＴａ２０５の層を３０
００Ｘ、第１エレクトロクロミック層であるＷＯ５層を
ａｏｏｏＸ付けた。蒸着条件は真空度２．ＯＸ １０
Ｔｏｒｒ、蒸着速度１０Ｘ／秒であったにれらの膜上
に、第２電極である半透明導電Ａｌ、ｉｌｌ膜を３００
Ｘ付けた。
空蒸着方法によシ、絶縁層であるＴａ２０５の層を３０
００Ｘ、第１エレクトロクロミック層であるＷＯ５層を
ａｏｏｏＸ付けた。蒸着条件は真空度２．ＯＸ １０
Ｔｏｒｒ、蒸着速度１０Ｘ／秒であったにれらの膜上
に、第２電極である半透明導電Ａｌ、ｉｌｌ膜を３００
Ｘ付けた。
この様にして製作した、全固体壓エレクトロクロミック
素子を、第１電極と第２電極の間に、２．０■の電圧を
印加して駆動したところ、着色濃度がΔ０．０で０．４
に達するまでに３５０ ｍ５ｅｃであつた０ 実施例３ 実施例１，２と同様にして、金属Ｉｒを蒸発材として、
Ｉｒ（ＯＨ）２よシなるエレクトロクロミックｔ＠３を
１５００Ｘ形成し、その上に絶縁層４としてＴａ２０５
層を３０００につけ、さらにその上に第２電極５として
半透明ＡＣ膜を３００Ｘ付けた。
素子を、第１電極と第２電極の間に、２．０■の電圧を
印加して駆動したところ、着色濃度がΔ０．０で０．４
に達するまでに３５０ ｍ５ｅｃであつた０ 実施例３ 実施例１，２と同様にして、金属Ｉｒを蒸発材として、
Ｉｒ（ＯＨ）２よシなるエレクトロクロミックｔ＠３を
１５００Ｘ形成し、その上に絶縁層４としてＴａ２０５
層を３０００につけ、さらにその上に第２電極５として
半透明ＡＣ膜を３００Ｘ付けた。
この様にして製作した、全固体型ＥＣ素子に２．０■の
電圧を印加して駆動したところ、着色濃度がΔ０．）、
で０，３に達するまで４００ ｍ５ｅｃであった。
電圧を印加して駆動したところ、着色濃度がΔ０．）、
で０，３に達するまで４００ ｍ５ｅｃであった。
第１図および第２図は、本発明方法によシ製造される全
固体型エレクトロクロミック素子０２つの例を示す断面
図、第３図は本発明方法を実施するに使用される反応性
イオンブレーティング装置を示す概略図である。 １：基板、 ２：第１電極、３：エレクトロ
クロミック層、 ４：絶縁層、 ５：第２電極、６：エレクト
ロクロミック層、 １０：反応性イオンブレーティング装置の本体、１１：
拡散ポンプ、 １２：電子銃（ＥＢガン）、１３：
傘、 １４：ＤＣバイアス源、１５：高周
波コイル（Ｒ’Ｆコイル）、１６ ： Ｈ２０蒸気供給
源、１７ ： ０２ガ゛スデンベ、１８．１９：ニード
ルパルプ。
固体型エレクトロクロミック素子０２つの例を示す断面
図、第３図は本発明方法を実施するに使用される反応性
イオンブレーティング装置を示す概略図である。 １：基板、 ２：第１電極、３：エレクトロ
クロミック層、 ４：絶縁層、 ５：第２電極、６：エレクト
ロクロミック層、 １０：反応性イオンブレーティング装置の本体、１１：
拡散ポンプ、 １２：電子銃（ＥＢガン）、１３：
傘、 １４：ＤＣバイアス源、１５：高周
波コイル（Ｒ’Ｆコイル）、１６ ： Ｈ２０蒸気供給
源、１７ ： ０２ガ゛スデンベ、１８．１９：ニード
ルパルプ。
Claims (1)
- 導電体膜よυ成る第１電極と、陽極側発色層であるエレ
クトロクロミック層と、誘電体膜からなる絶縁層と、導
電体膜よシなる第２電極を順次積層し、或いは上記の絶
縁層と第２電極の間にさらに陰極側発色層であるエレク
トロクロミック層を積層してなる全固体型エレクトロク
ロミック素子を製造する方法において、上記の陽極側発
色層であるエレクトロクロミック層を積層するにあたシ
、蒸発材として金属イリジウム、導入ガスとしてＨ２０
蒸気またはＨ２０蒸気および０２．ガスを用いて、イオ
ンブレーティング装置によシエレクトロクロミック層を
形成することを％徴とする全固体型エレクトロクロミッ
ク素子の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57210787A JPS59101627A (ja) | 1982-12-01 | 1982-12-01 | 全固体型エレクトロクロミツク素子の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57210787A JPS59101627A (ja) | 1982-12-01 | 1982-12-01 | 全固体型エレクトロクロミツク素子の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59101627A true JPS59101627A (ja) | 1984-06-12 |
Family
ID=16595117
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP57210787A Pending JPS59101627A (ja) | 1982-12-01 | 1982-12-01 | 全固体型エレクトロクロミツク素子の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS59101627A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN107532288A (zh) * | 2015-05-13 | 2018-01-02 | 住友金属矿山株式会社 | 反应性溅射法和层叠体膜的制造方法 |
-
1982
- 1982-12-01 JP JP57210787A patent/JPS59101627A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN107532288A (zh) * | 2015-05-13 | 2018-01-02 | 住友金属矿山株式会社 | 反应性溅射法和层叠体膜的制造方法 |
| CN107532288B (zh) * | 2015-05-13 | 2020-08-28 | 住友金属矿山株式会社 | 反应性溅射法和层叠体膜的制造方法 |
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