JPS59121025A - 全固体型エレクトロクロミツク素子の製造方法 - Google Patents
全固体型エレクトロクロミツク素子の製造方法Info
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- JPS59121025A JPS59121025A JP57231422A JP23142282A JPS59121025A JP S59121025 A JPS59121025 A JP S59121025A JP 57231422 A JP57231422 A JP 57231422A JP 23142282 A JP23142282 A JP 23142282A JP S59121025 A JPS59121025 A JP S59121025A
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- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/15—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on an electrochromic effect
- G02F1/1514—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on an electrochromic effect characterised by the electrochromic material, e.g. by the electrodeposited material
- G02F1/1523—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on an electrochromic effect characterised by the electrochromic material, e.g. by the electrodeposited material comprising inorganic material
- G02F1/1524—Transition metal compounds
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は電気化゛学的発消色現象すなわちエレクトロク
ロミック現象を利用したエレクトロクロミック素子の製
造方法に関するものである。
ロミック現象を利用したエレクトロクロミック素子の製
造方法に関するものである。
エレクトロクロミック現象とは、電圧を加えた時に酸化
還元反応により物質に色が付く現象を指す、このような
エレクトロクロミック現象を利用する電気化学的発消色
素子すなわちエレクトロクロミック素子は、例えば数字
表示素子、ｘ−ｙマトリックスディスプレイ、光学シャ
ッタ、絞り機構等に応用できるもので、その材料で分類
すると液体型と固体型に分けられるが、本発明は特に全
固体型のエレクトロクロミック素子に関するものである
。
還元反応により物質に色が付く現象を指す、このような
エレクトロクロミック現象を利用する電気化学的発消色
素子すなわちエレクトロクロミック素子は、例えば数字
表示素子、ｘ−ｙマトリックスディスプレイ、光学シャ
ッタ、絞り機構等に応用できるもので、その材料で分類
すると液体型と固体型に分けられるが、本発明は特に全
固体型のエレクトロクロミック素子に関するものである
。
エレクトロクロミック現象を利用した全固体型エレクト
ロクロミック素子の２つの例を第１図および第２図に示
す・ 第１図に示すエレクトロクロミック素子は透明な基板１
の上に、透明導電体膜よりなる第１の電極２と、陽極側
発色層であるエレクトロクロミック層３と、誘電体膜よ
りなる絶縁層４と、導電体膜よりなる第２の電極５とを
順次に積層するととによって構成されたものである。
ロクロミック素子の２つの例を第１図および第２図に示
す・ 第１図に示すエレクトロクロミック素子は透明な基板１
の上に、透明導電体膜よりなる第１の電極２と、陽極側
発色層であるエレクトロクロミック層３と、誘電体膜よ
りなる絶縁層４と、導電体膜よりなる第２の電極５とを
順次に積層するととによって構成されたものである。
また、第２図に示すエレクトロクロミック素子は、第１
図に示すエレクトロクロミック層３の外に、さらに、陰
極側発色層であるエレクトロクロ２ウク層６を設けたも
ので、透明な基板１の上に、透明導電体膜よりなる第１
の電極２と、陽極側発色層である第１エレクトロクロミ
ック層３と、誘電体膜よりなる絶縁層４と、陰極側発色
層である第２エレクトロクロミック層６と、導電体膜よ
りなる第２の電極５とを順次に積層することによって構
成される。
図に示すエレクトロクロミック層３の外に、さらに、陰
極側発色層であるエレクトロクロ２ウク層６を設けたも
ので、透明な基板１の上に、透明導電体膜よりなる第１
の電極２と、陽極側発色層である第１エレクトロクロミ
ック層３と、誘電体膜よりなる絶縁層４と、陰極側発色
層である第２エレクトロクロミック層６と、導電体膜よ
りなる第２の電極５とを順次に積層することによって構
成される。
上記の構造において、基板１は一般的にガラス板によっ
て形成されるが、これはガラス板に限らず、プラスチッ
ク板またはアクリル板等の透明な板ならばよく、また、
その位置に関しても、第１電極２の下ではなく、第２電
極５の上に設けてもよいし、目的に応じて（例えば、保
護カバーとするなどの目的で）両側に設けてもよい。た
だし、これらの場合には、第２電極５を透明導電膜とし
たり、両方の電極とも透明導電膜にする必要がある。第
２電極も透明電極とすれば素子を透明型として使用でき
る。このような透明導電膜としては、ＩＴＯ膜（酸化イ
ンソウムエｎ２０３中に酸化錫Ｓ ｎｏ ２を５−程度
含むもの）やネサ膜等が使用される。
て形成されるが、これはガラス板に限らず、プラスチッ
ク板またはアクリル板等の透明な板ならばよく、また、
その位置に関しても、第１電極２の下ではなく、第２電
極５の上に設けてもよいし、目的に応じて（例えば、保
護カバーとするなどの目的で）両側に設けてもよい。た
だし、これらの場合には、第２電極５を透明導電膜とし
たり、両方の電極とも透明導電膜にする必要がある。第
２電極も透明電極とすれば素子を透明型として使用でき
る。このような透明導電膜としては、ＩＴＯ膜（酸化イ
ンソウムエｎ２０３中に酸化錫Ｓ ｎｏ ２を５−程度
含むもの）やネサ膜等が使用される。
陽極側発色層である第１のエレクトロクロミック層３は
、三酸化クロム（Ｃｒ２０３）、水酸化イリジウム（Ｉ
ｒ（ＯＨ）２）、水酸化ニッケル（Ｎ１（ＯＨ）２）等
を用いて形成する。誘電体膜である絶縁層４には、二酸
化ジルコン（ｚｒＯ２）、酸化ケイ素（ＳｉＯ）、二酸
化ケイ素（ｓｔｏ２）、五酸化タンタル（’ｒａ２ｏ５
）等に代表される酸化物、あるいはフッ化リチウム（Ｌ
ＩＦ）、フッ化マグネシウム（ＭｇＦ２）等に代表され
るフッ化物が用いられる。また、陰極側発色層であるエ
レクトロクロミック層６は、二酸化タングステン（ＷＯ
２）、三酸化タングステン（ＷＯ３）、二酸化モリブデ
ン（ＭＯＯ２）、三酸化モリブデン（Ｍｏ Ｏ３）、五
酸化ノ４ナジウム（ｖ２０５）、等を用いて形成する。
、三酸化クロム（Ｃｒ２０３）、水酸化イリジウム（Ｉ
ｒ（ＯＨ）２）、水酸化ニッケル（Ｎ１（ＯＨ）２）等
を用いて形成する。誘電体膜である絶縁層４には、二酸
化ジルコン（ｚｒＯ２）、酸化ケイ素（ＳｉＯ）、二酸
化ケイ素（ｓｔｏ２）、五酸化タンタル（’ｒａ２ｏ５
）等に代表される酸化物、あるいはフッ化リチウム（Ｌ
ＩＦ）、フッ化マグネシウム（ＭｇＦ２）等に代表され
るフッ化物が用いられる。また、陰極側発色層であるエ
レクトロクロミック層６は、二酸化タングステン（ＷＯ
２）、三酸化タングステン（ＷＯ３）、二酸化モリブデ
ン（ＭＯＯ２）、三酸化モリブデン（Ｍｏ Ｏ３）、五
酸化ノ４ナジウム（ｖ２０５）、等を用いて形成する。
この様な構造をもつ全固体型エレクトロクロミック素子
は、第１電極２と第２電極５０間に電圧を印加すること
により電気化学的反応が起き、発色、消色をする。この
発色機構は、例えば、エレクトロクロミック層６へのカ
チオンと電子のダブルインジェクションによるブロンズ
形成にあると一般的に言われている。例えば、そのエレ
クトロクロミック物質として、ＷＯ３を用いる場合には
、次の（１）式で表わされる酸化還元反応が起き発色す
るＯ ＷＯ，＋ｘＨ＋＋ ｘｅ ： ＨｘＷＯ３（１）（１
）式に従って、タングステンブロンズＨｘＷＯ５カ形成
され発色するが、ここで印加電圧を逆転すれば消色状態
となる。
は、第１電極２と第２電極５０間に電圧を印加すること
により電気化学的反応が起き、発色、消色をする。この
発色機構は、例えば、エレクトロクロミック層６へのカ
チオンと電子のダブルインジェクションによるブロンズ
形成にあると一般的に言われている。例えば、そのエレ
クトロクロミック物質として、ＷＯ３を用いる場合には
、次の（１）式で表わされる酸化還元反応が起き発色す
るＯ ＷＯ，＋ｘＨ＋＋ ｘｅ ： ＨｘＷＯ３（１）（１
）式に従って、タングステンブロンズＨｘＷＯ５カ形成
され発色するが、ここで印加電圧を逆転すれば消色状態
となる。
本発明は、上述のように導電体膜よりなる第１の電極２
と、陽極側発色層であるエレクトロクロミック層３と、
誘電体膜よりなる絶縁層４と、導電体膜よりなる第２の
電極５とを順次に積層しく第１図）或いは導電体膜より
なる第１の電極２と、陽極側発光層である第１のエレク
トロクロミック層３と、誘電体膜よりなる絶縁層４と、
陰極側発光層である第２のエレクトロクロミック層６と
、導電体膜よりなる第２の電極５とを順次に積（５） 層してなる全固体型エレクトロクロミック素子を製造す
る際における、陽極側発色層であるエレクトロクロミッ
ク層３を形成する際に、蒸発材料に炭酸ニッケルを用い
た時の製造方法に関するものであり、さらに詳しくはそ
の蒸着方法及びその条件に関するものである〇 従来、上述のようなエレクトロクロミック素子を製造す
る際には、陽極側発色層であるエレクトロクロミック層
３は、Ｉｒ＋Ｎｉあるいはこれらの酸化物をターグット
にした反応性スｔ４ツタや陽極酸化膜方法で形成される
ことが報告されている。
と、陽極側発色層であるエレクトロクロミック層３と、
誘電体膜よりなる絶縁層４と、導電体膜よりなる第２の
電極５とを順次に積層しく第１図）或いは導電体膜より
なる第１の電極２と、陽極側発光層である第１のエレク
トロクロミック層３と、誘電体膜よりなる絶縁層４と、
陰極側発光層である第２のエレクトロクロミック層６と
、導電体膜よりなる第２の電極５とを順次に積（５） 層してなる全固体型エレクトロクロミック素子を製造す
る際における、陽極側発色層であるエレクトロクロミッ
ク層３を形成する際に、蒸発材料に炭酸ニッケルを用い
た時の製造方法に関するものであり、さらに詳しくはそ
の蒸着方法及びその条件に関するものである〇 従来、上述のようなエレクトロクロミック素子を製造す
る際には、陽極側発色層であるエレクトロクロミック層
３は、Ｉｒ＋Ｎｉあるいはこれらの酸化物をターグット
にした反応性スｔ４ツタや陽極酸化膜方法で形成される
ことが報告されている。
本発明は、上記の様な方法を用いず、別な方法で、より
性能の良い膜を形成することを図ったもので、即ち、装
置として、反応性イオンブレーティング装置を用い、蒸
着材料に炭酸ニッケルを用いて、雰囲気全０２ガスで満
たすことにより、所望のエレクトロクロミック物質の膜
を形成することを特徴とするものである〇 本発明による方法を実施するのに使用されるイオンゾＶ
−ティング装置の一例を第３図に示す。
性能の良い膜を形成することを図ったもので、即ち、装
置として、反応性イオンブレーティング装置を用い、蒸
着材料に炭酸ニッケルを用いて、雰囲気全０２ガスで満
たすことにより、所望のエレクトロクロミック物質の膜
を形成することを特徴とするものである〇 本発明による方法を実施するのに使用されるイオンゾＶ
−ティング装置の一例を第３図に示す。
（６）
図中、１０はイオンブレーティング装置の本体、１１は
拡散ポンプ、１２は電子銃（ＥＢがン）、１３は傘、１
４はＤＣバイアスを印加するＤＣバイアス源、１５は高
周波コイル（ＲＦコイル）、１６は０２ガスを供給する
０２がスゲンペ、１７はニードルバルブを示す。
拡散ポンプ、１２は電子銃（ＥＢがン）、１３は傘、１
４はＤＣバイアスを印加するＤＣバイアス源、１５は高
周波コイル（ＲＦコイル）、１６は０２ガスを供給する
０２がスゲンペ、１７はニードルバルブを示す。
次に、全固体型エレクトロクロミック素子を製造する本
発明方法の実施例について説明する。
発明方法の実施例について説明する。
実施例１
厚さ０．８ｍｍのがラス（Ｃｏｒｎｉｎｇ ７０５９
）の板よりなる基板１の上に、適当な引き出し電極部お
よびリード部を備えたＩＴＯ膜の第１電極２を形成し、
これを第３図に示すイオンル−ティング装置１０内に１
８で示す如く設置した。装置内部を真空となし、ＮＩＣ
０，・４Ｈ２０ｔ−蒸着材とし、ｏ２がスｄ−ンベ１６
から０２がスを導入しつつ、第１電極２の上に陽極側発
色層であるエレクトロクロミック層３の膜を形成した。
）の板よりなる基板１の上に、適当な引き出し電極部お
よびリード部を備えたＩＴＯ膜の第１電極２を形成し、
これを第３図に示すイオンル−ティング装置１０内に１
８で示す如く設置した。装置内部を真空となし、ＮＩＣ
０，・４Ｈ２０ｔ−蒸着材とし、ｏ２がスｄ−ンベ１６
から０２がスを導入しつつ、第１電極２の上に陽極側発
色層であるエレクトロクロミック層３の膜を形成した。
ｏ２がスは５．ＯＸ １０ ’ Ｔｏｒｒまで導入し、
蒸着速度ｎ４．ＯＸ／ｓｅａで、膜厚は１５００Ｘであ
った。その際、ＥＢがン１２は６〜９ｋＶ、ＲＦ：Ｆイ
ル１５（５巻）は１００〜３００Ｗ１ＤＣバイアス源１
４は０．２〜１．０ ｋＶであった。このようにして形
成されたエレクトロクロミック層は陽極側発色層として
作用するもので、これは（Ｎｌ（ＯＨ）２）よりなるも
のと考えられる。さらにこの膜の上に、真空蒸着方法に
より、絶縁層４としてｈ２０５の層を３０００Ｘ、陰極
側発色層であるエレクトロクロミック層６としてＷＯ２
層を３０００Ｘ付けた。蒸着条件は真空度２．０Ｘ１０
−５Ｔｏｒｒ 、蒸着速度１０ Ｘ／ｓｅｅであった。
蒸着速度ｎ４．ＯＸ／ｓｅａで、膜厚は１５００Ｘであ
った。その際、ＥＢがン１２は６〜９ｋＶ、ＲＦ：Ｆイ
ル１５（５巻）は１００〜３００Ｗ１ＤＣバイアス源１
４は０．２〜１．０ ｋＶであった。このようにして形
成されたエレクトロクロミック層は陽極側発色層として
作用するもので、これは（Ｎｌ（ＯＨ）２）よりなるも
のと考えられる。さらにこの膜の上に、真空蒸着方法に
より、絶縁層４としてｈ２０５の層を３０００Ｘ、陰極
側発色層であるエレクトロクロミック層６としてＷＯ２
層を３０００Ｘ付けた。蒸着条件は真空度２．０Ｘ１０
−５Ｔｏｒｒ 、蒸着速度１０ Ｘ／ｓｅｅであった。
これらの膜上に、第２電極５として半透明導電Ａｕ膜を
３００Ｘ付けた。
３００Ｘ付けた。
この様にして製作した、合同体型エレクトロクロミック
素子を、第１′ｔＭ、極と第２電極の間に、２、Ｏｖの
電圧を印加して駆動したところ、着色濃度が△０．Ｄで
０．４に達するまでに９００ ｍ５ｅｃであった。
素子を、第１′ｔＭ、極と第２電極の間に、２、Ｏｖの
電圧を印加して駆動したところ、着色濃度が△０．Ｄで
０．４に達するまでに９００ ｍ５ｅｃであった。
これは従来のこの種のタイツに比べ約１．５倍性能向上
したことになる。
したことになる。
実施例２
厚み０．８ヨのガラス（Ｃｏｒｎｉｎｇ ７０５９ ）
の基板１上に、適当な引き出し電極部及びリード部を備
えたＩＴＯ膜の第１電極２を形成し、その上に、蒸着材
料にＮｉＣ０、４Ｈ２０を用い、反応性イオンブレ−テ
ィング方法により、陽極側発色層であるエレクトロクロ
ミック層３を形成した。蒸着条件としては、０２がスを
５．ＯＸ １０ Ｔｏｒｒまで導入し、蒸着速度を１
．２ Ｘ／ｓｅａとした。膜厚は１２００Ｘであった。
の基板１上に、適当な引き出し電極部及びリード部を備
えたＩＴＯ膜の第１電極２を形成し、その上に、蒸着材
料にＮｉＣ０、４Ｈ２０を用い、反応性イオンブレ−テ
ィング方法により、陽極側発色層であるエレクトロクロ
ミック層３を形成した。蒸着条件としては、０２がスを
５．ＯＸ １０ Ｔｏｒｒまで導入し、蒸着速度を１
．２ Ｘ／ｓｅａとした。膜厚は１２００Ｘであった。
この膜の上に、真空蒸着方法により、絶縁層４である五
酸化タンタル（’ｒａ２ｏ５）の層を３０００Ｘ付けた
。さらに、これらの膜上に、第２電極である半透明導電
Ａｕ膜を３００Ｘ付けた。
酸化タンタル（’ｒａ２ｏ５）の層を３０００Ｘ付けた
。さらに、これらの膜上に、第２電極である半透明導電
Ａｕ膜を３００Ｘ付けた。
この様にして製作した、全固体型エレクトロクロミック
素子を、第１と第２電極間に２．ＯｖＯ印加をして駆動
したところ、着色濃度が△０．Ｄで０．３に達するまで
８００ ｍ５ｅｃであった。
素子を、第１と第２電極間に２．ＯｖＯ印加をして駆動
したところ、着色濃度が△０．Ｄで０．３に達するまで
８００ ｍ５ｅｃであった。
第１図および第２図は、本発明方法により製造される全
固体型エレクトロクロミック素子の２つの例゛を示す断
面図、第３図は本発明方法に使用されるイオンプレティ
ング装置を示す概略図である。 に基板、 ２：第１電極、 （９） ３：エレクトロクロミック層、 ４：絶縁層、 ５：第２電極、６：エレクト
ロクロミック層、 １０：イオンプレティング装置本体、 １１：拡散ポンプ、 １２：電子銃（ＥＢがン）１
３：傘、 １４ ： ＤＣバイアス源、
１５：高周波コイル（ＲＦコイル） １６：０がス〆ンベ、 １７：ニードルバルブ。 代理人 谷 山 輝 装置−゛） ：：一・ −・づ （１０） 第１図 第２図
固体型エレクトロクロミック素子の２つの例゛を示す断
面図、第３図は本発明方法に使用されるイオンプレティ
ング装置を示す概略図である。 に基板、 ２：第１電極、 （９） ３：エレクトロクロミック層、 ４：絶縁層、 ５：第２電極、６：エレクト
ロクロミック層、 １０：イオンプレティング装置本体、 １１：拡散ポンプ、 １２：電子銃（ＥＢがン）１
３：傘、 １４ ： ＤＣバイアス源、
１５：高周波コイル（ＲＦコイル） １６：０がス〆ンベ、 １７：ニードルバルブ。 代理人 谷 山 輝 装置−゛） ：：一・ −・づ （１０） 第１図 第２図
Claims (1)
- 導電体膜よりなる第１の電極と、陽極側発色層であるエ
レクトロクロミック層と、誘電体膜からなる絶縁層と、
導電体膜からなる第２の電極とを順次に積層し、或いは
上記の絶縁層と第２の電極との間に、さらに陰極側発色
層であるエレクトロクロミック層を積層してなる全固体
型エレクトロクロミック素子を製造する方法において、
上記の陽極側発色層であるエレクトロクロミック層を積
層するにあたり、蒸発材として戻酸ニッケル、導入ガス
として０２がスを用いて、イオンシレーティング装置に
より、エレクトロクロミック層を形成すること′ｔ−特
徴とする全固体型エレクトロクロミック素子の製造方法
。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57231422A JPS59121025A (ja) | 1982-12-27 | 1982-12-27 | 全固体型エレクトロクロミツク素子の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57231422A JPS59121025A (ja) | 1982-12-27 | 1982-12-27 | 全固体型エレクトロクロミツク素子の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59121025A true JPS59121025A (ja) | 1984-07-12 |
Family
ID=16923330
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP57231422A Pending JPS59121025A (ja) | 1982-12-27 | 1982-12-27 | 全固体型エレクトロクロミツク素子の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS59121025A (ja) |
-
1982
- 1982-12-27 JP JP57231422A patent/JPS59121025A/ja active Pending
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