JPS59111623A - 全固体型エレクトロクロミツク素子の製造方法 - Google Patents
全固体型エレクトロクロミツク素子の製造方法Info
- Publication number
- JPS59111623A JPS59111623A JP57221630A JP22163082A JPS59111623A JP S59111623 A JPS59111623 A JP S59111623A JP 57221630 A JP57221630 A JP 57221630A JP 22163082 A JP22163082 A JP 22163082A JP S59111623 A JPS59111623 A JP S59111623A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- layer
- electrode
- electrochromic
- film
- solid
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/15—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on an electrochromic effect
- G02F1/1514—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on an electrochromic effect characterised by the electrochromic material, e.g. by the electrodeposited material
- G02F1/1523—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on an electrochromic effect characterised by the electrochromic material, e.g. by the electrodeposited material comprising inorganic material
- G02F1/1524—Transition metal compounds
- G02F1/15245—Transition metal compounds based on iridium oxide or hydroxide
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Nonlinear Science (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Electrochromic Elements, Electrophoresis, Or Variable Reflection Or Absorption Elements (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
トロクロミック現象ｉ利用したエレクトロクロミック素
子の製造方法に関するものである。
子の製造方法に関するものである。
エレクトロクロミック現象とは、電圧を加えた時に酸化
還元反応により物質に色が付く現象を指す。このよう々
エレクトロクロミック現象を利用する電気化学的発消色
素子すなわちエレクトロクロミック素子は、例えば、数
字表示素子、Ｘ−Ｙマトリクスディスプレイ、光学ンヤ
ッタ、絞シ機構等に応用できるもので、その拐料で分類
すると液体型と固体型に分けられるが、本発明は特に全
固体型のエレクトロクロミック素子に関するものである
。
還元反応により物質に色が付く現象を指す。このよう々
エレクトロクロミック現象を利用する電気化学的発消色
素子すなわちエレクトロクロミック素子は、例えば、数
字表示素子、Ｘ−Ｙマトリクスディスプレイ、光学ンヤ
ッタ、絞シ機構等に応用できるもので、その拐料で分類
すると液体型と固体型に分けられるが、本発明は特に全
固体型のエレクトロクロミック素子に関するものである
。
エレクトロクロミック現象を利用した全固体型エレクト
ロクロミック素子の２つの例を第１図および第２図に示
す。
ロクロミック素子の２つの例を第１図および第２図に示
す。
第１図に示すエレクトロクロミック素子は、透明な基板
１の上に、透明導電体膜よりなる第１゛出：、極２、陽
極側発色層であるエレクトロクロミック層３、誘電体膜
からなる絶縁層４、導電体膜より成る第２壇極５を順次
積層してなるものである。
１の上に、透明導電体膜よりなる第１゛出：、極２、陽
極側発色層であるエレクトロクロミック層３、誘電体膜
からなる絶縁層４、導電体膜より成る第２壇極５を順次
積層してなるものである。
また、第２図に示すエレクトロクロミック素子は、第１
図に示す構造における絶縁層４と第２電極５との間に、
さらに、陰極側発色層である第２のエレクトロクロミッ
ク層６を積層したものである。
図に示す構造における絶縁層４と第２電極５との間に、
さらに、陰極側発色層である第２のエレクトロクロミッ
ク層６を積層したものである。
上記の構造において、基板１は一般的にガラス板によっ
て形成されるが、これはガラス板に限らず、プラスチッ
ク板またはアクリル板等の透明々板ならばよく、また、
その位置に関しても、第１電極２の下ではなく、第２電
極５の上にあってもよいし、目的に応じて（例えば、保
護カバーとするなどの目的で）両側に設けてもよい。た
だし、これらの場合に応じて、第２電極５を透明導電膜
にしたり、両側の電極とも透明導電膜にする必要がある
。両方の電極を透明電極とすれば素子を透明型として使
用できる。この様な透明導電膜としては、ＩＴＯ膜（酸
化インジウムＩｎ２Ｏ３中に酸化錫５ｎ０２ ｆ ５％
前後含む）やネサ膜等が用いられる。
て形成されるが、これはガラス板に限らず、プラスチッ
ク板またはアクリル板等の透明々板ならばよく、また、
その位置に関しても、第１電極２の下ではなく、第２電
極５の上にあってもよいし、目的に応じて（例えば、保
護カバーとするなどの目的で）両側に設けてもよい。た
だし、これらの場合に応じて、第２電極５を透明導電膜
にしたり、両側の電極とも透明導電膜にする必要がある
。両方の電極を透明電極とすれば素子を透明型として使
用できる。この様な透明導電膜としては、ＩＴＯ膜（酸
化インジウムＩｎ２Ｏ３中に酸化錫５ｎ０２ ｆ ５％
前後含む）やネサ膜等が用いられる。
上記の構造において、陽極側発色層である第１のエレク
トロクロミック層３は、酸化クロム（Ｃｒ２Ｏ５）、水
酸化イリジウム（Ｉｒ（ＯＨ）２）、水酸化ニッケル（
Ｎ１（ＯＨ）２ ）等を用いて形成する。
トロクロミック層３は、酸化クロム（Ｃｒ２Ｏ５）、水
酸化イリジウム（Ｉｒ（ＯＨ）２）、水酸化ニッケル（
Ｎ１（ＯＨ）２ ）等を用いて形成する。
誘電体からなる絶縁層４は、二酸化ジルコン（ｚｒＯ２
）、酸化ケイ累（ＳＩＯ）、二酸化ケイ累（５ｉＯ２）
、五酸化タンタル（Ｔａ２０５ ）等に代表される酸化
物、あるいはフッ化リチウム（ＬｉＦ ）、フッ化マグ
ネシウム（ＭｇＦ２ ）等に代表されるフッ化物を用い
て形成する。
）、酸化ケイ累（ＳＩＯ）、二酸化ケイ累（５ｉＯ２）
、五酸化タンタル（Ｔａ２０５ ）等に代表される酸化
物、あるいはフッ化リチウム（ＬｉＦ ）、フッ化マグ
ネシウム（ＭｇＦ２ ）等に代表されるフッ化物を用い
て形成する。
捷た、陰極側発色層であるエレクトロクロミック層３は
、二酸化タングステン（ＷＯ２） 、三酸化タングステ
ン（ＷＯ３）、二酸化モリブデン（ＭｏＯｚ）、三酸化
モリブデン（ＭｏＯ３） 、五酸化バナジウム（Ｖ２Ｏ
５）等を用いて形成する。
、二酸化タングステン（ＷＯ２） 、三酸化タングステ
ン（ＷＯ３）、二酸化モリブデン（ＭｏＯｚ）、三酸化
モリブデン（ＭｏＯ３） 、五酸化バナジウム（Ｖ２Ｏ
５）等を用いて形成する。
この様な構造をもつ全固体型エレクトロクロミック菓子
は、第１電極２と第２電極５０間に電圧を印加すること
によシミ気化学的反応が起き、発色、消色をする。この
発色機構は、例えば、エレクトロクロミック層６へのカ
チオンと電子のダブルインジェクションによるブロンズ
形成にあると一般的に言われている。例えば、エレクト
ロクロミック物質として、ｗｏ５’ｌ用いる場合には、
次の（１）式で表わされる酸化還元反応が起き発色する
。
は、第１電極２と第２電極５０間に電圧を印加すること
によシミ気化学的反応が起き、発色、消色をする。この
発色機構は、例えば、エレクトロクロミック層６へのカ
チオンと電子のダブルインジェクションによるブロンズ
形成にあると一般的に言われている。例えば、エレクト
ロクロミック物質として、ｗｏ５’ｌ用いる場合には、
次の（１）式で表わされる酸化還元反応が起き発色する
。
ＷＯ５＋ｘＨ＋十ｘｅ ： ＨｘＷＯ５（１）（１
）式に従って、タングステンブロンズＨｘＷＯ３カ形成
され発色するが、ここで印加電圧を逆転すれば消色状態
となる。
）式に従って、タングステンブロンズＨｘＷＯ３カ形成
され発色するが、ここで印加電圧を逆転すれば消色状態
となる。
本発明は、上述のように、導Ｎ１体膜よシなる第１電極
２、陽極側発色層であるエレクトロクロミック層３、誘
電体膜からなる絶縁層４、導電体膜よシ成る第２電極５
を順次積層しく第１図）、或いは導電体膜よりなる第１
電極２、陽極側発色層であるエレクトロクロミック層３
、誘電体膜からなる絶縁層４、陰極側発色層である第２
のエレクトロクロミック層６、導電体膜よシ成る第２電
極５を順次積層しく第２図）でなる全固体型エレクトロ
クロミック素子を製造する際の、陽極側発色層であるエ
レクトロクロミック層３を形成する際に、蒸発材料にＩ
ｒＯやＩｒ２Ｏ３等のイリジウム酸化物を用いた時の製
造方法に関するものであり、さらに詳しくは、蒸着方法
及びその条件に関するものである。
２、陽極側発色層であるエレクトロクロミック層３、誘
電体膜からなる絶縁層４、導電体膜よシ成る第２電極５
を順次積層しく第１図）、或いは導電体膜よりなる第１
電極２、陽極側発色層であるエレクトロクロミック層３
、誘電体膜からなる絶縁層４、陰極側発色層である第２
のエレクトロクロミック層６、導電体膜よシ成る第２電
極５を順次積層しく第２図）でなる全固体型エレクトロ
クロミック素子を製造する際の、陽極側発色層であるエ
レクトロクロミック層３を形成する際に、蒸発材料にＩ
ｒＯやＩｒ２Ｏ３等のイリジウム酸化物を用いた時の製
造方法に関するものであり、さらに詳しくは、蒸着方法
及びその条件に関するものである。
（５）
従来、上述のよう々エレクトロクロミック素子金製造す
る際、陽極側エレクトロクロミック層であるエレクトロ
クロミック層３は、ＩｒやＮｉ Ｉ） ；Ｅ）いはこれ
らの酸化物をターダットにした反応性スパッタや陽極酸
化膜方法で形成されることが報告されている。
る際、陽極側エレクトロクロミック層であるエレクトロ
クロミック層３は、ＩｒやＮｉ Ｉ） ；Ｅ）いはこれ
らの酸化物をターダットにした反応性スパッタや陽極酸
化膜方法で形成されることが報告されている。
本発明は１、上記の様な方法を用いず、別な方法でより
性能の良い膜を形成することを図ったもので、即ち、装
置として、反応性イオンブレーティング装置を用い、蒸
着材料にＩｒＯ、Ｉｒ２Ｏ３等のイリジウム酸化物を用
い、雰囲気を０２ガスで満たすことにより、所望のエレ
クトロクロミック物質の膜全形成することを特徴とする
ものである。
性能の良い膜を形成することを図ったもので、即ち、装
置として、反応性イオンブレーティング装置を用い、蒸
着材料にＩｒＯ、Ｉｒ２Ｏ３等のイリジウム酸化物を用
い、雰囲気を０２ガスで満たすことにより、所望のエレ
クトロクロミック物質の膜全形成することを特徴とする
ものである。
本発明による方法を実施するのに使用される反応性イオ
ンニア″ｌ／−ティング装置の一例を第３図に示す。図
中、１０は反応性イオンル−ティング装置本体、１１は
拡散ポンプ、１２は電子銃（ＥＢガン）、１３は傘、１
４はＤＣバイアス金印加するＤＣバイアス源、１５１１
″ｊ：高周波コイル（ＲＦコイル）、１６ば０２ガスを
供給する０２ガスボンベ、（６） １７はニードルバルブを示す。
ンニア″ｌ／−ティング装置の一例を第３図に示す。図
中、１０は反応性イオンル−ティング装置本体、１１は
拡散ポンプ、１２は電子銃（ＥＢガン）、１３は傘、１
４はＤＣバイアス金印加するＤＣバイアス源、１５１１
″ｊ：高周波コイル（ＲＦコイル）、１６ば０２ガスを
供給する０２ガスボンベ、（６） １７はニードルバルブを示す。
上記の装置を用いて蒸着する際、０２ガスを導入した後
の真空度は２．０〜５．０Ｘ１０ Ｔｏｒｒとし、蒸
着速度を０．６〜２．０ｉ／＆とするのがよい。
の真空度は２．０〜５．０Ｘ１０ Ｔｏｒｒとし、蒸
着速度を０．６〜２．０ｉ／＆とするのがよい。
次に、全固体型エレクトロクロミック素子を製造する本
発明方法の実施例について説明する。
発明方法の実施例について説明する。
実施例１
厚さ０．８ ｗｒｎのガラス（Ｃｏｒｎｉｎｇ ７０５
９ ）の板よりなる基板１の上に、適当な引き出し電極
部およびリード部を備えたＩｒＯ膜の第１電極２を形成
し、これを第３図に示す反応性イオンブレーティング装
置１０内に１８で示す如く設置し、蒸着材料にＩｒＯを
用い、反応性イオンブレーティング方法により、上記の
第１電極２の上に、陽極側発色層であるエレクトロクロ
ミック層３の膜を形成した。
９ ）の板よりなる基板１の上に、適当な引き出し電極
部およびリード部を備えたＩｒＯ膜の第１電極２を形成
し、これを第３図に示す反応性イオンブレーティング装
置１０内に１８で示す如く設置し、蒸着材料にＩｒＯを
用い、反応性イオンブレーティング方法により、上記の
第１電極２の上に、陽極側発色層であるエレクトロクロ
ミック層３の膜を形成した。
反応性イオンブレーティング装置の使用条件は次の通シ
であった。
であった。
ＥＢガン１２ ６〜９ｋｖ
Ｒ１ｉ”コイル１５（５巻） １００〜３００ＷＤＣバ
イアス源１４ ０．２〜１．０ ｋ’Ｖ蒸着条件は
次の通９であった。
イアス源１４ ０．２〜１．０ ｋ’Ｖ蒸着条件は
次の通９であった。
反応性イオンブレーティング装置内を真空とし、ニード
ルバルブ１７を開けて０２がスがンベ１６から０２ガス
を５．０Ｘ１０ Ｔｏｒｒまで導入し、蒸着速度を５
．０Ｘ／ｓｅｃとした。これによシ約１５００Ｘ Ｊｌ
のエレクトロクロミック層３が形成された。
ルバルブ１７を開けて０２がスがンベ１６から０２ガス
を５．０Ｘ１０ Ｔｏｒｒまで導入し、蒸着速度を５
．０Ｘ／ｓｅｃとした。これによシ約１５００Ｘ Ｊｌ
のエレクトロクロミック層３が形成された。
このエレクトロクロミック層３は陽極側発色層として作
用するものであった。このエレクトロクロミック層は、
真空中に残存するＨ２Ｏとの反応によシ生成された水酸
化イリジウム（Ｉｒ（ＯＨ）２）よりなるものと考えら
れる。
用するものであった。このエレクトロクロミック層は、
真空中に残存するＨ２Ｏとの反応によシ生成された水酸
化イリジウム（Ｉｒ（ＯＨ）２）よりなるものと考えら
れる。
さらにこの膜の上に、真空蒸着方法により、絶縁層４と
してＴａ２０５の層を３０００Ｘ、陰極側発色層である
エレクトロクロミック層６としてＷＯ２層を３０００Ｘ
付けた。蒸着条件は真空度２，０×１０”’Ｔｏｒｒ、
蒸着速度１０Ｘ／ｓｅｃであった。これらの膜上に、第
２電極５として半透明導電Ａｌ４膜を３００Ｘ付けた。
してＴａ２０５の層を３０００Ｘ、陰極側発色層である
エレクトロクロミック層６としてＷＯ２層を３０００Ｘ
付けた。蒸着条件は真空度２，０×１０”’Ｔｏｒｒ、
蒸着速度１０Ｘ／ｓｅｃであった。これらの膜上に、第
２電極５として半透明導電Ａｌ４膜を３００Ｘ付けた。
この様にして製作した、全固体型エレクトロクロミック
素子を、第１電極と第２電極の間に、２、Ｏｖの電圧を
印加して駆動したところ、着色濃度がΔＯＤで０．４に
達するまでに７００ｍ５ｅｃであった０ 実施例２ 実施例１と同様に、厚さ０．８ ｒｍのガラス（Ｃｏｒ
ｎｉｎｇ ７０５９ ）の基板１の上に、適当な引き出
し電極部およびリード部を備えたＩｒＯ膜よシ成る第１
電極２を形成し、第３図に示す反応性イオンブレーティ
ング装置を使用し、蒸着材料にＩｒ２Ｏ３を用いて、第
１を極２上に反応性イオンブレーティング方法によシ、
第１電極２上に陽極側発色層であるエレクトロクロミッ
ク層３の［１１−形成した。
素子を、第１電極と第２電極の間に、２、Ｏｖの電圧を
印加して駆動したところ、着色濃度がΔＯＤで０．４に
達するまでに７００ｍ５ｅｃであった０ 実施例２ 実施例１と同様に、厚さ０．８ ｒｍのガラス（Ｃｏｒ
ｎｉｎｇ ７０５９ ）の基板１の上に、適当な引き出
し電極部およびリード部を備えたＩｒＯ膜よシ成る第１
電極２を形成し、第３図に示す反応性イオンブレーティ
ング装置を使用し、蒸着材料にＩｒ２Ｏ３を用いて、第
１を極２上に反応性イオンブレーティング方法によシ、
第１電極２上に陽極側発色層であるエレクトロクロミッ
ク層３の［１１−形成した。
反応性イオンブレーティング装置の使用条件は実施例１
と同様であるが、蒸着条件は次の通シであった。
と同様であるが、蒸着条件は次の通シであった。
反応性イオングレーティング装置内を真空とし、ニード
ルバルブ１７を開いて０２ガスヴンペ１６から０２ガス
を、５．０Ｘ１０ Ｔｏｒｒまで導入し、（９） 蒸着速度を５、ＯＸ／ｓｅｃとした。膜厚は１５００１
であった。さらにこの膜の上に、真空蒸着方法によシ、
絶縁層４としてＴａ２０５の層ｔ−３０００Ｘ１陰極側
発色層であるエレクトロクロミック層６としてＷＯ５層
を３０００Ｘ付けた。蒸着条件は真空度２．ＯＸ １Ｏ
−５Ｔｏｒｒ ％蒸着速度１０ｘ／秒であった。これら
の膜上に、第２電極５として半透明導電Ａ１膜を３００
ｘ付けた。
ルバルブ１７を開いて０２ガスヴンペ１６から０２ガス
を、５．０Ｘ１０ Ｔｏｒｒまで導入し、（９） 蒸着速度を５、ＯＸ／ｓｅｃとした。膜厚は１５００１
であった。さらにこの膜の上に、真空蒸着方法によシ、
絶縁層４としてＴａ２０５の層ｔ−３０００Ｘ１陰極側
発色層であるエレクトロクロミック層６としてＷＯ５層
を３０００Ｘ付けた。蒸着条件は真空度２．ＯＸ １Ｏ
−５Ｔｏｒｒ ％蒸着速度１０ｘ／秒であった。これら
の膜上に、第２電極５として半透明導電Ａ１膜を３００
ｘ付けた。
この様にして製作した、全固体型エレクトロクロミック
素子金、第１に極と第２電極の間に、２．ＯＶの電圧を
印加して駆動したところ、着色濃度がΔＯＤで０．４に
達するまでに８００ｍ５ｅｃであった。
素子金、第１に極と第２電極の間に、２．ＯＶの電圧を
印加して駆動したところ、着色濃度がΔＯＤで０．４に
達するまでに８００ｍ５ｅｃであった。
実施例３
実施例１と同様に厚さ０．８ ｍのガラス（Ｃｏｒｎｉ
ｎｇ７０５９）の板よシなる基板１の上に、適当な引き
出し電極部およびリード部を備えたＩｒＯ膜の第１電極
２を形成し、これを第３図に示す反応性イオンブレーテ
ィング装置１０内に１８で示す如く設置し、蒸着劇料に
Ｉｒ２Ｏ３を用い、反応性イオングレーティング方法に
より、上記の第１電極２の（ｌＯ） 上に、陽極側発色層であるエレクトロクロミック層３の
膜を形成した。
ｎｇ７０５９）の板よシなる基板１の上に、適当な引き
出し電極部およびリード部を備えたＩｒＯ膜の第１電極
２を形成し、これを第３図に示す反応性イオンブレーテ
ィング装置１０内に１８で示す如く設置し、蒸着劇料に
Ｉｒ２Ｏ３を用い、反応性イオングレーティング方法に
より、上記の第１電極２の（ｌＯ） 上に、陽極側発色層であるエレクトロクロミック層３の
膜を形成した。
反応性イオンル−ティング装置の使用条件は実施例１と
同様であるが、蒸着条件は次の通りであった。
同様であるが、蒸着条件は次の通りであった。
反応性イオンブレーティング装置内を真空とし、ニード
ルバルブ１７を開けて０２がスボンペ１６から０２ガス
ｆ ５．ＯＸ １０ ’ Ｔｏｒｒまで導入し、蒸着速
度’！に４．０Ｘ／ｓｅｅとした。これにより約１５０
０Ｘ厚のエレクトロクロミック層３が形成された。
ルバルブ１７を開けて０２がスボンペ１６から０２ガス
ｆ ５．ＯＸ １０ ’ Ｔｏｒｒまで導入し、蒸着速
度’！に４．０Ｘ／ｓｅｅとした。これにより約１５０
０Ｘ厚のエレクトロクロミック層３が形成された。
さらにこの膜の上に、真空蒸着方法により、絶縁層４と
してＴａ２０５の層２３０００ Ｘ付けた。蒸着条件は
真空度２． ＯＸ １０ ’ Ｔｏｒｒ１蒸着速度１
０Ｘ／式であった。これらの膜上に、第２電極５として
半透明導電Ａ成膜を３ｏｏＩＨけた。
してＴａ２０５の層２３０００ Ｘ付けた。蒸着条件は
真空度２． ＯＸ １０ ’ Ｔｏｒｒ１蒸着速度１
０Ｘ／式であった。これらの膜上に、第２電極５として
半透明導電Ａ成膜を３ｏｏＩＨけた。
この様にして製作した、全固体型エレクトロクロミック
素子を、第１電極と第２電極の間に、２０Ｖの電圧を印
加して駆動したところ、着色濃度がΔＯＤで０３に達す
るまでに５００ ｍｗであった。
素子を、第１電極と第２電極の間に、２０Ｖの電圧を印
加して駆動したところ、着色濃度がΔＯＤで０３に達す
るまでに５００ ｍｗであった。
第１図および第２図は、本発明方法により製造される全
固体型エレクトロクロミック素子の２つの例を示す断面
図、第３図は本発明方法を実施するに使用される反応性
イオンル−ティング装置全示す概略図である。 １・・・基板、 ２・・・第１電極、３・
・・工ｌ／クトロクロミック層、 ４・・・絶縁層、 ５・・・第２電極、６・
・・エレクトロクロミック層、 １０・・・反応性イオンブレーティング装置の本体、１
１・・・拡散ポンプ １２・・・電子銃（ＥＢガン） １３・・・傘、 １４・・・ＤＣノ９イ
アス源、１５・・・高周波コイル（ＲＦコイル）。
固体型エレクトロクロミック素子の２つの例を示す断面
図、第３図は本発明方法を実施するに使用される反応性
イオンル−ティング装置全示す概略図である。 １・・・基板、 ２・・・第１電極、３・
・・工ｌ／クトロクロミック層、 ４・・・絶縁層、 ５・・・第２電極、６・
・・エレクトロクロミック層、 １０・・・反応性イオンブレーティング装置の本体、１
１・・・拡散ポンプ １２・・・電子銃（ＥＢガン） １３・・・傘、 １４・・・ＤＣノ９イ
アス源、１５・・・高周波コイル（ＲＦコイル）。
Claims (1)
- 導電体膜よシ成る第ｉＫ極と、陽極側発色層であるエレ
クトロクロミック層と、誘電体膜からなる絶縁層と、導
電体膜よりなる第２電極を順次積層し、或いは上記の絶
縁層と第２電極の間にさらに陰極側発色層であるエレク
トロクロミック層を積層してなる全固体型エレクトロク
ロミック素子ｆ：製造する方法において、上記の陽極側
発色層であるエレクトロクロミック層を積層するにあた
り、蒸発材としてイリジウム酸化物、導入ガスとして０
２ガスを用いて、イオンブレーティング装置によりエレ
クトロクロミック層を形成することを特徴とする全固体
型エレクトロクロミック素子の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57221630A JPS59111623A (ja) | 1982-12-17 | 1982-12-17 | 全固体型エレクトロクロミツク素子の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57221630A JPS59111623A (ja) | 1982-12-17 | 1982-12-17 | 全固体型エレクトロクロミツク素子の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59111623A true JPS59111623A (ja) | 1984-06-27 |
Family
ID=16769772
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP57221630A Pending JPS59111623A (ja) | 1982-12-17 | 1982-12-17 | 全固体型エレクトロクロミツク素子の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS59111623A (ja) |
-
1982
- 1982-12-17 JP JP57221630A patent/JPS59111623A/ja active Pending
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPH04267227A (ja) | エレクトロクロミックガラス | |
| US4585312A (en) | Electrochromic element | |
| US4508792A (en) | Electrochromic element | |
| JPS59111623A (ja) | 全固体型エレクトロクロミツク素子の製造方法 | |
| JPS59102216A (ja) | 全固体型エレクトロクロミツク素子の製造方法 | |
| US4632516A (en) | Electrochromic element | |
| US4605285A (en) | Electrochromic device | |
| JPS6175325A (ja) | 表示セル | |
| JPS59101627A (ja) | 全固体型エレクトロクロミツク素子の製造方法 | |
| JPS59102215A (ja) | 全固体型エレクトロクロミツク素子の製造方法 | |
| JPS59121026A (ja) | 全固体型エレクトロクロミツク素子の製造方法 | |
| JPS59105618A (ja) | 全固体型エレクトロクロミツク素子の製造方法 | |
| JPS6186733A (ja) | エレクトロクロミツク素子 | |
| JPS59124983A (ja) | 全固体型エレクトロクロミツク素子の製造方法 | |
| JPS59101626A (ja) | 全固体型エレクトロクロミツク素子の製造方法 | |
| JPS5961820A (ja) | 全固体型エレクトロクロミツク素子 | |
| JPS59104626A (ja) | 全固体型エレクトロクロミツク素子の製造方法 | |
| JPS59121321A (ja) | 全固体型エレクトロクロミツク素子の製造方法 | |
| JPS59228628A (ja) | 全固体型エレクトロクロミツク素子 | |
| JPS59101624A (ja) | 全固体型エレクトロクロミツク素子の製造方法 | |
| JPS59228630A (ja) | 全固体型エレクトロクロミツク素子 | |
| JPS59121025A (ja) | 全固体型エレクトロクロミツク素子の製造方法 | |
| JPS61103981A (ja) | エレクトロクロミツク素子 | |
| JPS59228629A (ja) | 全固体型エレクトロクロミツク素子 | |
| JPS59109030A (ja) | 全固体型エレクトロクロミツク素子の製造方法 |