JPS5898994A - 半導体レ−ザ - Google Patents

半導体レ−ザ

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Publication number
JPS5898994A
JPS5898994A JP56196799A JP19679981A JPS5898994A JP S5898994 A JPS5898994 A JP S5898994A JP 56196799 A JP56196799 A JP 56196799A JP 19679981 A JP19679981 A JP 19679981A JP S5898994 A JPS5898994 A JP S5898994A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
semiconductor laser
chip
bonding
light emitting
active layer
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP56196799A
Other languages
English (en)
Inventor
Nobu Satou
佐藤 「あ」
Takashi Kajimura
梶村 俊
Katsuaki Chiba
千葉 勝昭
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi Ltd filed Critical Hitachi Ltd
Priority to JP56196799A priority Critical patent/JPS5898994A/ja
Publication of JPS5898994A publication Critical patent/JPS5898994A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S5/00Semiconductor lasers
    • H01S5/02Structural details or components not essential to laser action
    • H01S5/022Mountings; Housings
    • H01S5/0233Mounting configuration of laser chips
    • H01S5/02345Wire-bonding
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L2224/48Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
    • H01L2224/484Connecting portions
    • H01L2224/48463Connecting portions the connecting portion on the bonding area of the semiconductor or solid-state body being a ball bond
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S5/00Semiconductor lasers
    • H01S5/02Structural details or components not essential to laser action
    • H01S5/024Arrangements for thermal management
    • H01S5/02469Passive cooling, e.g. where heat is removed by the housing as a whole or by a heat pipe without any active cooling element like a TEC

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  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
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  • Electromagnetism (AREA)
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明はチップ収率の高い、ストライプ偏心型半導体レ
ーザに関する。
従来、レーザのキャビティ長が200μm程度に短かく
なると、レーザのチップサイズも小型となり、レーザの
活性層の位置とワイヤポ/デング位蓋の関係を、活性層
に与える歪を考慮してどう設計するかが重要な観点であ
った。
本発明は上記欠点の無い良好なポンディノグを有した半
導体レーザを提供することを目的とする。
上記目的を達成するための本発明の構成は、ポンディン
部材は半導体レーザ素子の発光領域から反対の面への拡
がり角θに対応する領域の外側に位置せしめ、かつ、上
記素子の非発光性端面から30μm以上の面に設けるこ
とにある。
本発明は、上記構成になるので、ボンディング部材を所
定の面上に形成しても、上記ポンディノグによる歪を発
光領域に及ぼして悪影響を与えることから回避される。
また、非発光性端面、すなわち、光放射が行なわれない
ストライプに平行な端面から30μm以上も離れた領域
に上記発光領域が形成されているので、上記レーザ素子
のスクライプによる機械的歪をも上記発jt、領域に及
ぼして悪影響を与えることから回避さnる。
畝上のように、ポンディノグおよびスクライプの2種の
機械的歪が及はさnない仙域に発光領域が形成さnるの
で、極めて良品質のレーザ光を有し、かつ、寿命の長い
レーザ素子が得らnるものである−0以下実施例を示し
て詳述する。
第1図は本発明の一実施例としての半導体レーザの概略
断面図である。
第1図に示すように、半導体レーザチップ1において、
活性層2の近い方の表面3にワイヤボンデング4を行な
いJunctton  up型で実装する場合、活性層
近傍での発熱量の放散、ボンデ/ゲストレスの活性層へ
の影響、チップ端面スクライブ面の活性層への影響、ワ
イヤボンデング時のチップのクラックなどを考慮して下
記の如く設計する。
即ち、dt>tcotθ d、=2W dt ”’30〜59 pm d、>ttan45°=t ここに t=チップの厚さ、W=ワイヤ歪(100)結
晶の(111)面 θ=54” (すべり角) ちなみに 2280μmの(100)面を用いたレーザ
ではd” ” ” ’ m* ’ * =”50 J’
 m*d、=80μm、cL =50μmでd=d1+
d、+d、+dv =’240μm、xト5イブ位置は
中心より片方に約−−d、=40μm偏心している。
第2図は本発明の他の実m1MJとしての半導体レーザ
の概略断面図である。
第2図は、活性層2と反対側の表面5にワイヤボンデン
グを行なうJunct ion down型で実装する
場合の例で、ボンデ/ゲストレスの活性層への影響を考
慮して、下記の如く設計する。
即ち、d、)zcotθ d、=2W dt>zcotθ ds=aoμm(スクライブ面よりの歪で欠陥層の回避
) ちなみに、t=SOμmのレーザでは、チップの幅(ス
トライプ方向と直交する方向)Ficll =60μm
、d、、=59μm、ci、 :60μm。
d、”;30μmでd=d、+d=+d、+d、=20
0μmとなり、ストライプは中心より、70μm程偏心
して設けられている。
以上のごとく、レーザのキャビティ長200μm程度の
短かいものに対して、高収率でしかも、スクライプ歪、
ボンデング歪のない熱放散のよいものを得るには、活性
層ストライプ部分を偏心させたものが有利である。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の一実施例としての半導体レーザの概略
断面図、第2図は本発明の落め実施例としての半導体レ
ーザの概略断面図である。 1・・・レーザチップ、2・・・活性層(発光領域)、
3・・・表面、4・・・ワイヤボンディング、5・・・
活性層と¥J  1  凹 ¥J  2  日

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1、発光領域を有する半導体層と、上記発光領域に近い
    主面と、骸主面と反対側の副面とを有する発光素子と、
    上記素子の主面および副面のいずれか一方の面上に設け
    られたボンディング部材とを有する半導体レーザにおい
    て、上記ボンディング部材は上記発光領域からの拡がり
    角θに対応する位置の外側に位置せしめ、かつ、上記素
    子の非発光性端面から30μm以上の位置に設けたこと
    を特徴とする半導体レーザ。
JP56196799A 1981-12-09 1981-12-09 半導体レ−ザ Pending JPS5898994A (ja)

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JPS5898994A true JPS5898994A (ja) 1983-06-13

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ID=16363836

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JP56196799A Pending JPS5898994A (ja) 1981-12-09 1981-12-09 半導体レ−ザ

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JP (1) JPS5898994A (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH06310814A (ja) * 1993-04-27 1994-11-04 Nec Kansai Ltd 半導体レーザダイオード装置
WO2008016019A1 (fr) * 2006-07-31 2008-02-07 Sanyo Electric Co., Ltd. Composant laser à semiconducteur et son procédé de fabrication

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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JPH06310814A (ja) * 1993-04-27 1994-11-04 Nec Kansai Ltd 半導体レーザダイオード装置
WO2008016019A1 (fr) * 2006-07-31 2008-02-07 Sanyo Electric Co., Ltd. Composant laser à semiconducteur et son procédé de fabrication
JP2008060555A (ja) * 2006-07-31 2008-03-13 Sanyo Electric Co Ltd 半導体レーザ素子およびその製造方法

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