JPS5898729A - 熱現像型ジアゾ複写材料の製造方法 - Google Patents
熱現像型ジアゾ複写材料の製造方法Info
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- JPS5898729A JPS5898729A JP56197126A JP19712681A JPS5898729A JP S5898729 A JPS5898729 A JP S5898729A JP 56197126 A JP56197126 A JP 56197126A JP 19712681 A JP19712681 A JP 19712681A JP S5898729 A JPS5898729 A JP S5898729A
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- Japan
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- diazo
- dispersion
- acid
- copying material
- contg
- Prior art date
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- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03C—PHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
- G03C1/00—Photosensitive materials
- G03C1/52—Compositions containing diazo compounds as photosensitive substances
- G03C1/60—Compositions containing diazo compounds as photosensitive substances with macromolecular additives
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- Non-Silver Salt Photosensitive Materials And Non-Silver Salt Photography (AREA)
- Heat Sensitive Colour Forming Recording (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明はジアゾ化合物、カップリング成分及び熱oT融
性発色助剤に特定の疎水性樹脂微粒子を組合せ、これを
ジアゾ化合物〜樹脂微粒子系及びカップリング成分糸の
2つの水性液に分けて塗布する熱現像型ジアゾ複写材料
の製造方法に関する。
性発色助剤に特定の疎水性樹脂微粒子を組合せ、これを
ジアゾ化合物〜樹脂微粒子系及びカップリング成分糸の
2つの水性液に分けて塗布する熱現像型ジアゾ複写材料
の製造方法に関する。
従来、熱現像型ジアゾ複写材料(又はジアゾ系感熱記録
材料)の製造方法としては1)紙、プラスチックフィル
ム等の支持体上にジアゾ化合物、カップリング成分及び
尿素、トリクロル酢酸ソーダ等のアルカリ発生剤を主成
分とする水性溶液又は分散′e、fi−塗布乾燥する方
法、z)NiJ記1)の方法においてアルカリ発生剤の
代りに尚級脂肪峡アミドのような熱可融性発色助剤を用
いる方法、3)前記2)の方法においてカップリング成
分を樹脂のような疎水性物置でカプセル化したものを用
いる方法、4)支持体上にジアゾ化合@(又はカップリ
ング成分)及び疎水性樹脂を主成分とする有模浴剤性分
散准を塗布乾燥した後、カップリング成分(又はジアゾ
化合物)を主成分とする有−溶剤性又は水性溶液又は分
散液を塗布乾燥する方法等が知られている。
材料)の製造方法としては1)紙、プラスチックフィル
ム等の支持体上にジアゾ化合物、カップリング成分及び
尿素、トリクロル酢酸ソーダ等のアルカリ発生剤を主成
分とする水性溶液又は分散′e、fi−塗布乾燥する方
法、z)NiJ記1)の方法においてアルカリ発生剤の
代りに尚級脂肪峡アミドのような熱可融性発色助剤を用
いる方法、3)前記2)の方法においてカップリング成
分を樹脂のような疎水性物置でカプセル化したものを用
いる方法、4)支持体上にジアゾ化合@(又はカップリ
ング成分)及び疎水性樹脂を主成分とする有模浴剤性分
散准を塗布乾燥した後、カップリング成分(又はジアゾ
化合物)を主成分とする有−溶剤性又は水性溶液又は分
散液を塗布乾燥する方法等が知られている。
−しかしl)の方法で祷られる複写材料はtSO〜20
0℃もの高い現像温#を必要とするため、ジアゾ化合物
としては高#度画像の形成には不利な耐熱性の高いもの
を使わなければならない上、高温でしかも精度の尚い加
熱装置を必要とする02)の方法で得られる複写材料は
1)の複写を 材料とは異なり、低温現像か可能で、従って^態度th
像は得られるか、複写材料自体の保存性(以下、生保存
性という)が患いという欠点を有している。また3)の
方法で得られる複写材料の場合はカップリング成分が疎
水性qmXで包まれているため、2)の複写材料の欠1
点は改良できるか、低温現像でIvI、譲度画像を得る
ことは困難であった。一方、4)の方法は有嶺浴媒を用
いるため、紙支持体への成造が不均一となる上、女足に
重布することか困難であり、また塗布装置自体、特殊で
a度の尚いものが必要であり、しかも有愼浴謀の回収装
置が必要となるので、製造コストが非常に1IJ1%と
なる欠点があるし、更に作栗考の有恢II!!碌による
中違や火災の危険性をはらんでいる。
0℃もの高い現像温#を必要とするため、ジアゾ化合物
としては高#度画像の形成には不利な耐熱性の高いもの
を使わなければならない上、高温でしかも精度の尚い加
熱装置を必要とする02)の方法で得られる複写材料は
1)の複写を 材料とは異なり、低温現像か可能で、従って^態度th
像は得られるか、複写材料自体の保存性(以下、生保存
性という)が患いという欠点を有している。また3)の
方法で得られる複写材料の場合はカップリング成分が疎
水性qmXで包まれているため、2)の複写材料の欠1
点は改良できるか、低温現像でIvI、譲度画像を得る
ことは困難であった。一方、4)の方法は有嶺浴媒を用
いるため、紙支持体への成造が不均一となる上、女足に
重布することか困難であり、また塗布装置自体、特殊で
a度の尚いものが必要であり、しかも有愼浴謀の回収装
置が必要となるので、製造コストが非常に1IJ1%と
なる欠点があるし、更に作栗考の有恢II!!碌による
中違や火災の危険性をはらんでいる。
本発明の第一の目的は低温現像かり能であるにも拘わら
ず、容易にi%i6#度画像が得られ、しかも生保存性
の優れた′熱現儂型ジアゾ会写材料の製造方法を提供す
ることである。
ず、容易にi%i6#度画像が得られ、しかも生保存性
の優れた′熱現儂型ジアゾ会写材料の製造方法を提供す
ることである。
本発明の第二の目的は水性分散液を用いることにより、
安定塗布が可能で、しかも安価6ζ製造できる熱机儂型
ジアゾ被写材料を提供することである。
安定塗布が可能で、しかも安価6ζ製造できる熱机儂型
ジアゾ被写材料を提供することである。
即ち本発明方法はジアゾ化合物と埴化゛ビニル、塩化ビ
ニリデン、スチレン、アクリ?し酸エステル、メタクリ
ル酸エステル又はオレフィンのム合体又は前記モノマー
の少くとも1.%を檜成率位として含む共夏合体もしく
はそれらの混合物からなる疎水性樹脂微粒子とを含む水
性分散液A及びカップリング成分を含む水性f#I液又
は分散液Bのいずれか少くとも一部に一点50〜150
℃の熱可融性発色助剤を添加し、ついでこれら水性分散
液A及び水性階数又は分散液Bを支愕体上にこの順に菫
布乾燥することを待値とするものである。
ニリデン、スチレン、アクリ?し酸エステル、メタクリ
ル酸エステル又はオレフィンのム合体又は前記モノマー
の少くとも1.%を檜成率位として含む共夏合体もしく
はそれらの混合物からなる疎水性樹脂微粒子とを含む水
性分散液A及びカップリング成分を含む水性f#I液又
は分散液Bのいずれか少くとも一部に一点50〜150
℃の熱可融性発色助剤を添加し、ついでこれら水性分散
液A及び水性階数又は分散液Bを支愕体上にこの順に菫
布乾燥することを待値とするものである。
本発明はジアゾ化合物、カップリング成分及び熱可融性
発色助剤4C%定の疎水性樹脂微粒子を組合せ、これを
ジアゾ化合物〜樹脂微粒子系及びカップリング成分系の
2つの水性液に分けてこの順に塗布すると、水性液を用
いるにも拘。
発色助剤4C%定の疎水性樹脂微粒子を組合せ、これを
ジアゾ化合物〜樹脂微粒子系及びカップリング成分系の
2つの水性液に分けてこの順に塗布すると、水性液を用
いるにも拘。
わらず、生保存性の劣化のない複写材料が得られること
を見出したことに基づくものである。
を見出したことに基づくものである。
本発明の水性分散液Aに用いられるジアゾ化合物及び水
性溶液又は分散液Bに用いられるカップリング成分は従
来、2成分型ジアゾ複写材料の分野で使用されているも
のでよい。
性溶液又は分散液Bに用いられるカップリング成分は従
来、2成分型ジアゾ複写材料の分野で使用されているも
のでよい。
即ち、ジアゾ化谷物としては、例えば、4−ジアシー1
−ジメチルアミノベンゼン、4−ジアゾ−1−ジエチル
アミノベンゼン、4−ジアゾ−1−ジエチルアミノベン
ゼン、4−ジアゾ−x−メチルベンジルアミノベンゼン
、4−ジアゾ−1−ジベンジルアミ2ノベンゼン、4−
ジアゾ−1−エチルヒドロキシエチルアミノベンゼン、
4−ジアゾ−1−ジエチルアミノ−3−メトキシベンゼ
ン、4−ジアゾ−1−ジメチルアミノ−2−メチルベン
ゼン、4−シアソー1−ベンゾイルアミノ−2,5−ジ
ェトキシベンゼン、4−ジアゾ−1−モルホリノベンゼ
ン、4−ジアゾ−1−モルホリノ−2,5−ジェトキシ
ベンゼン、4−ジアゾ−1−モルホリノ−2,5−ジブ
トキシベンゼン、4−ジアゾ−1−アニリノベンゼン、
4−ジアゾ−1−ジメチルアミノ−3−力ルボキシベン
ゼン、4−シア’/−1−トルイルメルカプト−2,5
−ジェトキシベンゼン、4−ジアゾ−1,4−メトキシ
ベンゾイルアミノ−2,5−ジェトキシベンゼンなどの
ジアゾ化合物の塩化物の金属ハライド(例えば塩化亜鉛
、塩化カドミウム、塩化錫など)との複塩、及び前記ジ
アゾ化合物の+lfE#。
−ジメチルアミノベンゼン、4−ジアゾ−1−ジエチル
アミノベンゼン、4−ジアゾ−1−ジエチルアミノベン
ゼン、4−ジアゾ−x−メチルベンジルアミノベンゼン
、4−ジアゾ−1−ジベンジルアミ2ノベンゼン、4−
ジアゾ−1−エチルヒドロキシエチルアミノベンゼン、
4−ジアゾ−1−ジエチルアミノ−3−メトキシベンゼ
ン、4−ジアゾ−1−ジメチルアミノ−2−メチルベン
ゼン、4−シアソー1−ベンゾイルアミノ−2,5−ジ
ェトキシベンゼン、4−ジアゾ−1−モルホリノベンゼ
ン、4−ジアゾ−1−モルホリノ−2,5−ジェトキシ
ベンゼン、4−ジアゾ−1−モルホリノ−2,5−ジブ
トキシベンゼン、4−ジアゾ−1−アニリノベンゼン、
4−ジアゾ−1−ジメチルアミノ−3−力ルボキシベン
ゼン、4−シア’/−1−トルイルメルカプト−2,5
−ジェトキシベンゼン、4−ジアゾ−1,4−メトキシ
ベンゾイルアミノ−2,5−ジェトキシベンゼンなどの
ジアゾ化合物の塩化物の金属ハライド(例えば塩化亜鉛
、塩化カドミウム、塩化錫など)との複塩、及び前記ジ
アゾ化合物の+lfE#。
四フッ化ホウ素、ヘキサフルオロリン酸などの強酸の塩
などが挙げられるが、もちろん、これらのものに限定さ
れるものではない。
などが挙げられるが、もちろん、これらのものに限定さ
れるものではない。
カップリング成分としては、例えばレゾルシン、フロロ
グルシン、2−メチルレゾルシン、フェニルメチルピラ
ゾロン、2.5−ジメチル−4−モルホリノメチルフェ
ノール、3−ヒドロキシシアノアセトアニリド、パラス
ルホアセトアニリド、l−ベンゾイルアミノ−8−ヒド
ロキシナフタレン−3,6−ジスルホンアミド、2.2
−ジヒドロキシナフタレン、2.7−シヒドロキシナフ
タレンー3,6−ジスルホン酸ソーダ、2.3−ジヒド
ロキシ−6−スルホン酸ソーダ、2.5−ジヒドロキシ
ナフタレン−6−スルホン酸ソーダ、1−ヒドロキシナ
フタレン−4−スルホン酸ソーダ、l−アミノ−3−ヒ
ドロキシナフタレン−3,6−ジスルホンアミド、ナフ
トールA8.ナフトールA8−D、2−ヒドロキ“シナ
フタシン−3−ピグアナイド、2−ヒドロキシナフトエ
歇モルホリノプロピルアミド、2−ヒドロキシナフトエ
酸エタノールアミド、2−ヒドロキシナフトエ酸−N−
ジメチルアミノプロぜルアミド塩酸塩、2,4.2’、
4’−、テトラヒドロキシジフェニル、2,4.2’、
4’−テトラヒドロキシジフェニルスルホキシド、7−
ヒドロキシエチルマロン酸等が挙げられる。これらカッ
プリング成分の使用量はジアゾ化合物1重量部に対し、
α5〜20重量部が適当である。
グルシン、2−メチルレゾルシン、フェニルメチルピラ
ゾロン、2.5−ジメチル−4−モルホリノメチルフェ
ノール、3−ヒドロキシシアノアセトアニリド、パラス
ルホアセトアニリド、l−ベンゾイルアミノ−8−ヒド
ロキシナフタレン−3,6−ジスルホンアミド、2.2
−ジヒドロキシナフタレン、2.7−シヒドロキシナフ
タレンー3,6−ジスルホン酸ソーダ、2.3−ジヒド
ロキシ−6−スルホン酸ソーダ、2.5−ジヒドロキシ
ナフタレン−6−スルホン酸ソーダ、1−ヒドロキシナ
フタレン−4−スルホン酸ソーダ、l−アミノ−3−ヒ
ドロキシナフタレン−3,6−ジスルホンアミド、ナフ
トールA8.ナフトールA8−D、2−ヒドロキ“シナ
フタシン−3−ピグアナイド、2−ヒドロキシナフトエ
歇モルホリノプロピルアミド、2−ヒドロキシナフトエ
酸エタノールアミド、2−ヒドロキシナフトエ酸−N−
ジメチルアミノプロぜルアミド塩酸塩、2,4.2’、
4’−、テトラヒドロキシジフェニル、2,4.2’、
4’−テトラヒドロキシジフェニルスルホキシド、7−
ヒドロキシエチルマロン酸等が挙げられる。これらカッ
プリング成分の使用量はジアゾ化合物1重量部に対し、
α5〜20重量部が適当である。
水性1fLAにはジアゾ化合物と共に特定の疎水性樹脂
が使用される。この特定の疎水性樹脂とは塩化eニル、
塩化♂ニリデン、スチレン、アクリル酸エステル、メタ
クリル酸エステル又はオレフィンの重合体又は前記モノ
マーの少くとも1檜を゛含む共重合体もしくはそれらの
混合物であるが、そのうちスチレン、アクリル眼エステ
ル、メタクリル酸エステル又はオレフィン糸の樹脂で、
且つ分子量2000以下のものは彼達、する熱可融性発
色助剤としてのwR耗も兼ね備えている。こ−で共重合
体の場合は前記モノマーの少くとも1種を60モル参以
上含むものが好ましく、その具体例としては塩化ビニル
〜酢酸ビニル共1合体、塩化ビニルルアクリル酸エステ
ル共重合体、塩化ビニル〜スチレン〜アクリロニトリル
共重合体、塩化ビニル−無水マレイン酸其1合体、塩化
ビニル〜塩化ビニリデン共重合体、スチレンルアクリル
酸エステル共重合体、スチレン〜ヒドロキシアクリル緻
エステル共重合体、スチレン〜アクリロニトリル共重合
体、スチレン−ブタジェン共重合体、メタクリル酸エス
テル(例えばメチルエステル)〜ブタジェン共重合体、
エチレン〜酢酸ビニル共1合体等が挙げられるが、勿論
、これら・に限定されるものではない。なお本発明の特
定の樹脂の使用量はジアゾ化合物1重量部に対し0.1
〜100重量・部、好ましくは1〜sox量部の範囲が
適当である。またこれらの樹脂は水に溶解しないので、
通常の粉砕方法により微粒子状にして使用される。市販
のエマルジョン又はラテックスをそのま5便用してもよ
い。粒径はFl 10 p以下が好ましい。
が使用される。この特定の疎水性樹脂とは塩化eニル、
塩化♂ニリデン、スチレン、アクリル酸エステル、メタ
クリル酸エステル又はオレフィンの重合体又は前記モノ
マーの少くとも1檜を゛含む共重合体もしくはそれらの
混合物であるが、そのうちスチレン、アクリル眼エステ
ル、メタクリル酸エステル又はオレフィン糸の樹脂で、
且つ分子量2000以下のものは彼達、する熱可融性発
色助剤としてのwR耗も兼ね備えている。こ−で共重合
体の場合は前記モノマーの少くとも1種を60モル参以
上含むものが好ましく、その具体例としては塩化ビニル
〜酢酸ビニル共1合体、塩化ビニルルアクリル酸エステ
ル共重合体、塩化ビニル〜スチレン〜アクリロニトリル
共重合体、塩化ビニル−無水マレイン酸其1合体、塩化
ビニル〜塩化ビニリデン共重合体、スチレンルアクリル
酸エステル共重合体、スチレン〜ヒドロキシアクリル緻
エステル共重合体、スチレン〜アクリロニトリル共重合
体、スチレン−ブタジェン共重合体、メタクリル酸エス
テル(例えばメチルエステル)〜ブタジェン共重合体、
エチレン〜酢酸ビニル共1合体等が挙げられるが、勿論
、これら・に限定されるものではない。なお本発明の特
定の樹脂の使用量はジアゾ化合物1重量部に対し0.1
〜100重量・部、好ましくは1〜sox量部の範囲が
適当である。またこれらの樹脂は水に溶解しないので、
通常の粉砕方法により微粒子状にして使用される。市販
のエマルジョン又はラテックスをそのま5便用してもよ
い。粒径はFl 10 p以下が好ましい。
熱可融性発色助剤は水不溶性又は水離溶性の物質で、水
性分散MA及び水性f6液又は分散液Bの少くとも一方
に碓加されるか、水性液入の方に伶加する方が好ましい
。この物置は〜溶融した時に共存するジアゾ化合物又は
カップリング成分を溶解して発色(現像)を促進するも
のである。壱の融点は低温現像の点から50〜150℃
の範囲である。このような熱可融性発色助剤の具体例と
してはカプロン酸アミド、カプリル酸アミド、カプリン
酸アミド、ラーウリン酸アミド、ミリスチン酸アミド、
ノ臂ルミチン酸アミド、ステアリン酸アミド、アラキシ
ン酸アミド、ベヘン酸アミ゛ド、パルミトレイン酸アミ
ド、オレイン酸アミド、エイコセン酸アミド、エルシン
酸アミド、エライジン酸アミド、トランス−1゜1−エ
イコセン酸アミド、リノール酸アミド、リノール酸アミ
ド、リシノール酸アミド、N−メチルノqルミチン酸ア
ミド、N−メチルステアリン酸アミド、N−プロピノし
ステアリン酸アミド、N−ブチルステアリン酸アミド、
ステアリン酸アニリド、N−メチルベヘン酸アミド、N
−メチルベヘン酸アミド、N−ブチルベヘン酸アミド、
ぺ°ヘン酸アニリド、N−メチルオレイン酸アミド、リ
ノール酸アニリド、N−エチルカプリン酸アミド、N−
ブチルラウリン酸アミド、カプリン#に一〇−メトキシ
アニリド、N−ヘキシルステアリン酸アミド、N−オク
タデシルアセトアミド、N−オクタデシルブチルアミド
、N−オクタデシルプロピオンアミド、N−オレイルア
セトアミド、N−オレイルベンズアミド、N−ラウリル
ブチルアミド、N−/ラウリルベンズアミド、N−ベヘ
ニルアセトアミド、N−ベヘニルプロヒオンアミド、N
−ベヘニルベンズアミド、N−ミリスチルベンズアミド
、N−ステアリルアセトアミド、N−ステアリルアセト
アミド、N−ステアリルシクロへキシルアミド、N−ス
テアリル−0−クロルベンズアミド、N−パルミチルペ
ンズアミド、N−ノぐルミチルアセトアミド等の高級脂
肪酸アミド、芳香族カルボン鈑アニリド;ウンデカン敵
、ラウリン酸、トリデカン酸、ミリスチン酸、ペンタデ
カン酸、ノナデカン酸、マーガリン酸、ステアリン酸、
ノナデカン酸、アラキン酸、ベヘン酸、リグノセリン酸
、セロチン酸、リンデル私ラウロレイン歌、ツズ酸、ミ
リストレイン酸、シーマリン酸、ペテロセリン酸、オレ
イン酸、エライジン酸、リノール酸、エレオステアリン
酸1 リルン酸トンリナリン飯及びそれらのエステル等
の高級脂肪酸又はそのエステル;ポリエチレングリコー
ル、ポリプロピレングリコール、ポリエチレンオキシド
、ポリプロピレンオキシド、ポリエチレンオキシドルポ
リプロピレンオキシドブロック共重合体、ポリエチレン
オキシドルポリプロピレンオキシドグラフト共重合体等
の?リアルキレングリコール又はそのオキシド或いはそ
の共重合体が挙げられる。なおこれらの発色助剤は通常
、粒径α1〜1.0/lの微粒状で用いられる。使用量
はジアゾ化合物1重量部当り0.1〜100重量部、好
ましくは1〜50重量部が適当である。
性分散MA及び水性f6液又は分散液Bの少くとも一方
に碓加されるか、水性液入の方に伶加する方が好ましい
。この物置は〜溶融した時に共存するジアゾ化合物又は
カップリング成分を溶解して発色(現像)を促進するも
のである。壱の融点は低温現像の点から50〜150℃
の範囲である。このような熱可融性発色助剤の具体例と
してはカプロン酸アミド、カプリル酸アミド、カプリン
酸アミド、ラーウリン酸アミド、ミリスチン酸アミド、
ノ臂ルミチン酸アミド、ステアリン酸アミド、アラキシ
ン酸アミド、ベヘン酸アミ゛ド、パルミトレイン酸アミ
ド、オレイン酸アミド、エイコセン酸アミド、エルシン
酸アミド、エライジン酸アミド、トランス−1゜1−エ
イコセン酸アミド、リノール酸アミド、リノール酸アミ
ド、リシノール酸アミド、N−メチルノqルミチン酸ア
ミド、N−メチルステアリン酸アミド、N−プロピノし
ステアリン酸アミド、N−ブチルステアリン酸アミド、
ステアリン酸アニリド、N−メチルベヘン酸アミド、N
−メチルベヘン酸アミド、N−ブチルベヘン酸アミド、
ぺ°ヘン酸アニリド、N−メチルオレイン酸アミド、リ
ノール酸アニリド、N−エチルカプリン酸アミド、N−
ブチルラウリン酸アミド、カプリン#に一〇−メトキシ
アニリド、N−ヘキシルステアリン酸アミド、N−オク
タデシルアセトアミド、N−オクタデシルブチルアミド
、N−オクタデシルプロピオンアミド、N−オレイルア
セトアミド、N−オレイルベンズアミド、N−ラウリル
ブチルアミド、N−/ラウリルベンズアミド、N−ベヘ
ニルアセトアミド、N−ベヘニルプロヒオンアミド、N
−ベヘニルベンズアミド、N−ミリスチルベンズアミド
、N−ステアリルアセトアミド、N−ステアリルアセト
アミド、N−ステアリルシクロへキシルアミド、N−ス
テアリル−0−クロルベンズアミド、N−パルミチルペ
ンズアミド、N−ノぐルミチルアセトアミド等の高級脂
肪酸アミド、芳香族カルボン鈑アニリド;ウンデカン敵
、ラウリン酸、トリデカン酸、ミリスチン酸、ペンタデ
カン酸、ノナデカン酸、マーガリン酸、ステアリン酸、
ノナデカン酸、アラキン酸、ベヘン酸、リグノセリン酸
、セロチン酸、リンデル私ラウロレイン歌、ツズ酸、ミ
リストレイン酸、シーマリン酸、ペテロセリン酸、オレ
イン酸、エライジン酸、リノール酸、エレオステアリン
酸1 リルン酸トンリナリン飯及びそれらのエステル等
の高級脂肪酸又はそのエステル;ポリエチレングリコー
ル、ポリプロピレングリコール、ポリエチレンオキシド
、ポリプロピレンオキシド、ポリエチレンオキシドルポ
リプロピレンオキシドブロック共重合体、ポリエチレン
オキシドルポリプロピレンオキシドグラフト共重合体等
の?リアルキレングリコール又はそのオキシド或いはそ
の共重合体が挙げられる。なおこれらの発色助剤は通常
、粒径α1〜1.0/lの微粒状で用いられる。使用量
はジアゾ化合物1重量部当り0.1〜100重量部、好
ましくは1〜50重量部が適当である。
本発明では水性成人及び/又はB中に以上の素材の他に
通常の熱塊像型ジアゾ複写材料に使用されている各−’
$1箔加剤を龜加することができる。このような添加剤
としては例えばアルカリ発生剤兼酸化防止剤として尿素
、チオ成木及びそれらの誘導体、トリクロル酢酸のアル
カリ金輌塩、塩化アンモニウム、硫酸アンモニウム、硫
酸グアニジン、クエン酸アンモニウム、安息香酸ソーダ
、イミダゾール及びその誘導体等;保存性向上剤として
ナフタレンモノ−、ジー又はトリースルホン酸ナトリウ
ム、スルホサリチル酸、硫酸カドミウム、硫酸マグネシ
ウム、塩化カドミウム、塩化亜鉛等;溶解剤としてカフ
ェイン、テオフィリン等;酸安定剤としてクエン酸、論
石酸、4JIc敵、シュウ酸、リン酸、ピロリンm号:
ノ9インダーとして麺粉、カゼイン、−り酢酸ビニル、
ポリビニルアルコール等;画像IIkFfL向上剤とし
てシリカ、澱粉、クレー、樹脂等の無機又は有機微粒子
が使用できる。その他、サポニンを少を添加することか
できる。・、本発明方法において塗布手段としてはいず
れの塗布工程においてもワイヤーノ々−、ロールコータ
−等、通常の手段か採用されるか、最初の乾燥工@後に
形成されるフィルム層の付着量も次の[燥工程後に形成
さ−れるフィルム層の付着量も0.2〜15f/−程度
が適当である。
通常の熱塊像型ジアゾ複写材料に使用されている各−’
$1箔加剤を龜加することができる。このような添加剤
としては例えばアルカリ発生剤兼酸化防止剤として尿素
、チオ成木及びそれらの誘導体、トリクロル酢酸のアル
カリ金輌塩、塩化アンモニウム、硫酸アンモニウム、硫
酸グアニジン、クエン酸アンモニウム、安息香酸ソーダ
、イミダゾール及びその誘導体等;保存性向上剤として
ナフタレンモノ−、ジー又はトリースルホン酸ナトリウ
ム、スルホサリチル酸、硫酸カドミウム、硫酸マグネシ
ウム、塩化カドミウム、塩化亜鉛等;溶解剤としてカフ
ェイン、テオフィリン等;酸安定剤としてクエン酸、論
石酸、4JIc敵、シュウ酸、リン酸、ピロリンm号:
ノ9インダーとして麺粉、カゼイン、−り酢酸ビニル、
ポリビニルアルコール等;画像IIkFfL向上剤とし
てシリカ、澱粉、クレー、樹脂等の無機又は有機微粒子
が使用できる。その他、サポニンを少を添加することか
できる。・、本発明方法において塗布手段としてはいず
れの塗布工程においてもワイヤーノ々−、ロールコータ
−等、通常の手段か採用されるか、最初の乾燥工@後に
形成されるフィルム層の付着量も次の[燥工程後に形成
さ−れるフィルム層の付着量も0.2〜15f/−程度
が適当である。
以上のような本発明方法で得られる熱現像型ジアゾ複写
材料に画像を形成するには2通りの方法がある。一つは
一般のジアゾ1写材料と同様にこの熱現像型ジアゾ複写
材料を螢光灯や水銀灯を用いて画像状露光後、赤外嶽、
熱ローラ−、高周波等で50−150℃程度に加熱する
方法であり、他の一つは一般の感熱記録材料と同様に前
記熱現像型ジアゾ複写材料に熱ペン、熱ヘッド等を用い
て画像状に前記温度に加熱する方法又は赤外光でIIL
l像上に露光兼加熱する方法である。なおいずれの方法
もその後、一般のジアゾ複写材料と同様に螢光灯や水銀
灯で紫外縁を全面照射することにより非画像部の未反応
ジアゾ化合物を分解し、定着することができる。
材料に画像を形成するには2通りの方法がある。一つは
一般のジアゾ1写材料と同様にこの熱現像型ジアゾ複写
材料を螢光灯や水銀灯を用いて画像状露光後、赤外嶽、
熱ローラ−、高周波等で50−150℃程度に加熱する
方法であり、他の一つは一般の感熱記録材料と同様に前
記熱現像型ジアゾ複写材料に熱ペン、熱ヘッド等を用い
て画像状に前記温度に加熱する方法又は赤外光でIIL
l像上に露光兼加熱する方法である。なおいずれの方法
もその後、一般のジアゾ複写材料と同様に螢光灯や水銀
灯で紫外縁を全面照射することにより非画像部の未反応
ジアゾ化合物を分解し、定着することができる。
以下に実施例を示す。
実施例1
4−ジアゾ−2,5−ジブトキシフェニルモルホリン塩
化物e1/2 ZnO111,5f ステアリン酸アミド 1.−of
水 I
QQs+jよりなる組成物をホモジナイザーを用いて分
散し、これをジアゾ複写紙用□原紙の表面にワイヤー/
ζ−を用いて塗布乾燥し、120℃で乾燥して付−Nj
i 3 f 7m”のジアゾ化合物〜樹脂微粒子系第一
層を設けた。次に ナフトールA8 3yポリビニル
アルコールの10%水浴g zotシリカ微粒
子(粒径l〜5/l) st水 ・
□。0゜よりな
る組成物をホモジナイザーを用いて分散し、これを前記
第一層上にワイヤーパーを用いて塗布し、120℃で乾
燥して付着量L5t/m”のカップリング成分系第二層
を設けて熱現像型ジアゾ複写材料を作成した。
化物e1/2 ZnO111,5f ステアリン酸アミド 1.−of
水 I
QQs+jよりなる組成物をホモジナイザーを用いて分
散し、これをジアゾ複写紙用□原紙の表面にワイヤー/
ζ−を用いて塗布乾燥し、120℃で乾燥して付−Nj
i 3 f 7m”のジアゾ化合物〜樹脂微粒子系第一
層を設けた。次に ナフトールA8 3yポリビニル
アルコールの10%水浴g zotシリカ微粒
子(粒径l〜5/l) st水 ・
□。0゜よりな
る組成物をホモジナイザーを用いて分散し、これを前記
第一層上にワイヤーパーを用いて塗布し、120℃で乾
燥して付着量L5t/m”のカップリング成分系第二層
を設けて熱現像型ジアゾ複写材料を作成した。
一方、比較のため第一層と巣二増との形成順序を逆にし
た他は同じ方法で熱現稼型ジアゾ複写材料(比較例1)
を作成した。また第一層形成用水性分散液におけるスチ
レン−ヒドロキシエチルメタクリレート共重合体の45
q6エマルジヨンの代りlこポリアクリルアミドの45
1エマルジヨンを用いた他は同じ方法で熱現像型ジアゾ
複写材料(比較例2)を作成した。更に第一層形成用水
性分散液からスチレン−ヒドロキシエチルメタクリレー
ト共重合体の45チエマルジヨンを除いた他は同じ方法
で熱楓葎型ジアゾ複写材料(比較例3)8作成した。
た他は同じ方法で熱現稼型ジアゾ複写材料(比較例1)
を作成した。また第一層形成用水性分散液におけるスチ
レン−ヒドロキシエチルメタクリレート共重合体の45
q6エマルジヨンの代りlこポリアクリルアミドの45
1エマルジヨンを用いた他は同じ方法で熱現像型ジアゾ
複写材料(比較例2)を作成した。更に第一層形成用水
性分散液からスチレン−ヒドロキシエチルメタクリレー
ト共重合体の45チエマルジヨンを除いた他は同じ方法
で熱楓葎型ジアゾ複写材料(比較例3)8作成した。
次に以上の各複写材料に原稿を重ねて紫外線露光し、つ
いで赤外線ヒーターを用いて110℃で3秒間加熱して
′青色画像を形成し、その濃度を測定した。また生保存
性を試験するため、4r複写材料を50℃、50%R)
lのデシケータ−中に24時間放置して強制劣化させた
俊、取出し、更に螢光灯を全面照射して第一層中のジア
ゾ化合物を全て分解し、地肌濃度を測定し、これを、強
制劣化しないで同様に処理して測定した地肌濃度と比較
した。なお画像濃度及び地肌濃度はマクベス濃度計によ
るものである。その結果は表−1の通りである。
いで赤外線ヒーターを用いて110℃で3秒間加熱して
′青色画像を形成し、その濃度を測定した。また生保存
性を試験するため、4r複写材料を50℃、50%R)
lのデシケータ−中に24時間放置して強制劣化させた
俊、取出し、更に螢光灯を全面照射して第一層中のジア
ゾ化合物を全て分解し、地肌濃度を測定し、これを、強
制劣化しないで同様に処理して測定した地肌濃度と比較
した。なお画像濃度及び地肌濃度はマクベス濃度計によ
るものである。その結果は表−1の通りである。
表−1
この表から明らかなよう(こ本発明品は特に生保存性に
優れている。
優れている。
実施例2
4−ジアゾ−1−トルイルメルカプト−2,5−ジェト
キシベンゼンテトラフルオロボレート
20を塩化ビニルへ酢酸ビニル共重合体ci)anqb
エマルジョン(粒径0.1μ) 4
09ベヘン酸アミド 10f水
1”0
OTII−よりなる組成物をホモジナイザーを用いて分
散し、これをジアゾ複写紙用原紙上にワイヤー、S−を
用いて塗布し、120℃で乾燥して付着量4 f 7m
”のジアゾ化合物〜樹脂微粒子系第一層を設けた。次に 2−ヒドロキシナフトエ酸モルホリノプロピルアミド
2fヒドロキシエチルセルロースの5チ水溶9
10 F尿 素
2f酒石酸
1f水
10011/よりなる組成物の#液をワイヤー
パーを用いて前記第一層上に塗布し、120℃で乾燥し
て付着量zt/m”のカップリング成分系第二層を設け
て熱現像型ジアゾ複写材料を得た。
キシベンゼンテトラフルオロボレート
20を塩化ビニルへ酢酸ビニル共重合体ci)anqb
エマルジョン(粒径0.1μ) 4
09ベヘン酸アミド 10f水
1”0
OTII−よりなる組成物をホモジナイザーを用いて分
散し、これをジアゾ複写紙用原紙上にワイヤー、S−を
用いて塗布し、120℃で乾燥して付着量4 f 7m
”のジアゾ化合物〜樹脂微粒子系第一層を設けた。次に 2−ヒドロキシナフトエ酸モルホリノプロピルアミド
2fヒドロキシエチルセルロースの5チ水溶9
10 F尿 素
2f酒石酸
1f水
10011/よりなる組成物の#液をワイヤー
パーを用いて前記第一層上に塗布し、120℃で乾燥し
て付着量zt/m”のカップリング成分系第二層を設け
て熱現像型ジアゾ複写材料を得た。
次にこうして得られた熱塊gI型ジアゾ被写材料に原S
を重ねて紫外il露光した後、赤外−ヒーターで100
℃、5秒間加熱したところ、高濃度の青色I[ILIi
#!が形成された。なおこの複写材料の生保存性は実施
例1と同様優れていた。
を重ねて紫外il露光した後、赤外−ヒーターで100
℃、5秒間加熱したところ、高濃度の青色I[ILIi
#!が形成された。なおこの複写材料の生保存性は実施
例1と同様優れていた。
またこのジアゾ複写材料に110℃の熱ペンのついた記
働計を接触させ記録を行なったところ、接触後、直ちに
黄色の背景に高a度の青色u!umか形成された。つい
で螢光灯を3秒間全面照射したところ、黄色の背景は白
色となり、完全に定着された。
働計を接触させ記録を行なったところ、接触後、直ちに
黄色の背景に高a度の青色u!umか形成された。つい
で螢光灯を3秒間全面照射したところ、黄色の背景は白
色となり、完全に定着された。
実施例3
ベヘン酸アニリド 1(1水
10〇−より
なる組成物をホモジナイザーを用いて分散し、これをジ
アゾ債写紙用原紙上にワイヤーパーを用いて迩布し、1
20℃で乾燥して付着量a s t7mmのジアゾ化合
物〜倒脂微粒子糸第、一層を設けた。次に フロログルシン 1fポリビニル
アルコールの10チ水my 2otベヘン酸アニリ
ド 5f水
10011Jよりなる組成物
をホモジナイザーを用いて分散し、これをワイヤーノ々
−を用いて前記i一層上に塗布し、120℃で乾燥して
付着量3tβ0)カップリング成分系第二層を、設けて
熱現像型ジアゾ複写材料を作成した。
10〇−より
なる組成物をホモジナイザーを用いて分散し、これをジ
アゾ債写紙用原紙上にワイヤーパーを用いて迩布し、1
20℃で乾燥して付着量a s t7mmのジアゾ化合
物〜倒脂微粒子糸第、一層を設けた。次に フロログルシン 1fポリビニル
アルコールの10チ水my 2otベヘン酸アニリ
ド 5f水
10011Jよりなる組成物
をホモジナイザーを用いて分散し、これをワイヤーノ々
−を用いて前記i一層上に塗布し、120℃で乾燥して
付着量3tβ0)カップリング成分系第二層を、設けて
熱現像型ジアゾ複写材料を作成した。
次にこうして得られた熱現像型ジアゾ複写材料に原稿を
重ねて紫外線露光後、キセノンフラッシュランプで瞬間
的に加熱したところ、i%員度の黒色11111gjI
が形成された。なおこσ)*写材料の生保存性は実施例
1と同様に優れていた。
重ねて紫外線露光後、キセノンフラッシュランプで瞬間
的に加熱したところ、i%員度の黒色11111gjI
が形成された。なおこσ)*写材料の生保存性は実施例
1と同様に優れていた。
Claims (1)
- 1、 ジアゾ化合物と塩化ビニル、塩化ビニリデン、ス
チレン、アクリル酸エステル、メタクリル酸エステル又
はオレフィンの重合体又は前記七ツマ−の少くとも1禎
を構成単位として含む共重合体もしくはそれらの混合物
からなる疎水性樹脂微粒子とを含む水性分散液A及びカ
ップリング成分を含む水性溶液又は分散QBのいずれか
少くとも一方に融点50〜150℃の熱0T融性発色助
剤を添加シ、ついでこれら水性分散液A及び水性溶液又
は分散aH8H8支止体上のI’lAに塗布乾燥するこ
とを待機とする熱現像型ジアゾ複写材料の製造方法。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP56197126A JPS5898729A (ja) | 1981-12-08 | 1981-12-08 | 熱現像型ジアゾ複写材料の製造方法 |
US06/445,873 US4467024A (en) | 1981-12-08 | 1982-12-01 | Process for the production of thermo-developable type diazo copying material |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP56197126A JPS5898729A (ja) | 1981-12-08 | 1981-12-08 | 熱現像型ジアゾ複写材料の製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS5898729A true JPS5898729A (ja) | 1983-06-11 |
Family
ID=16369168
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP56197126A Pending JPS5898729A (ja) | 1981-12-08 | 1981-12-08 | 熱現像型ジアゾ複写材料の製造方法 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4467024A (ja) |
JP (1) | JPS5898729A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2001194472A (ja) * | 1999-12-15 | 2001-07-19 | Eta Sa Fab Ebauches | 腕時計のアキュムレータを再充電する手段 |
Family Cites Families (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
GB1016286A (en) * | 1963-01-16 | 1966-01-05 | Ilford Ltd | Radiation-sensitive materials |
NL291183A (ja) * | 1963-04-05 | |||
SE335474B (ja) * | 1963-04-18 | 1971-05-24 | R Landau | |
US3326686A (en) * | 1963-05-31 | 1967-06-20 | Gen Aniline & Film Corp | Light-sensitive two-component diazotype materials adapted for heat development |
FR83978E (fr) * | 1963-07-08 | 1964-11-06 | Bauchet & Cie Ets | Produit diazotype photosensible développable par la chaleur et son procédé de préparation |
DE1572072C3 (de) * | 1966-03-19 | 1974-02-28 | Kalle Ag, 6202 Wiesbaden-Biebrich | Wärmeentwicke lbares Diazotypiematerial |
NL136527C (ja) * | 1966-11-07 | |||
JPS564898B2 (ja) * | 1973-09-04 | 1981-02-02 | ||
JPS5744141A (en) * | 1980-08-29 | 1982-03-12 | Ricoh Co Ltd | Heat development type diazo copying material |
JPS5745094A (en) * | 1980-09-01 | 1982-03-13 | Mitsubishi Paper Mills Ltd | Fixable heat-sensitive recording material |
-
1981
- 1981-12-08 JP JP56197126A patent/JPS5898729A/ja active Pending
-
1982
- 1982-12-01 US US06/445,873 patent/US4467024A/en not_active Expired - Lifetime
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2001194472A (ja) * | 1999-12-15 | 2001-07-19 | Eta Sa Fab Ebauches | 腕時計のアキュムレータを再充電する手段 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US4467024A (en) | 1984-08-21 |
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