JPS5893B2 - 熱転写用磁気記録媒体 - Google Patents
熱転写用磁気記録媒体Info
- Publication number
- JPS5893B2 JPS5893B2 JP15021178A JP15021178A JPS5893B2 JP S5893 B2 JPS5893 B2 JP S5893B2 JP 15021178 A JP15021178 A JP 15021178A JP 15021178 A JP15021178 A JP 15021178A JP S5893 B2 JPS5893 B2 JP S5893B2
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- thermal transfer
- alloy
- magnetic recording
- thin film
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Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、常用の温度では十分大きな抗磁力を有し、温
度上昇に伴い、接触転写に供するに十分なまで抗磁力が
低下し、かつ可逆的に前記の常用温度の抗磁力の値まで
回復することを特徴とする合金薄膜型の熱転写用磁気記
録媒体を提供せんとするものである。
度上昇に伴い、接触転写に供するに十分なまで抗磁力が
低下し、かつ可逆的に前記の常用温度の抗磁力の値まで
回復することを特徴とする合金薄膜型の熱転写用磁気記
録媒体を提供せんとするものである。
すなわち、本発明は、録画用磁気テープとして使用する
スレーブ用の金属薄膜型磁気記録媒体の大量複写に対し
て、磁性体の磁力が可逆的に温度変化する効果を用い、
磁性体にはコバルトを主成分とする合金を用い、温度上
昇に伴う抗磁力の減少の際にマスターテープに接触させ
ることによりすでに記録された信号を交流バイアス中で
該スレーブテープに転写することにより複写を行おうと
するものである。
スレーブ用の金属薄膜型磁気記録媒体の大量複写に対し
て、磁性体の磁力が可逆的に温度変化する効果を用い、
磁性体にはコバルトを主成分とする合金を用い、温度上
昇に伴う抗磁力の減少の際にマスターテープに接触させ
ることによりすでに記録された信号を交流バイアス中で
該スレーブテープに転写することにより複写を行おうと
するものである。
録画用磁気テープの磁性材料としては、従来より通常γ
Fe2O3やCrO2等の酸化物が使用されてきた。
Fe2O3やCrO2等の酸化物が使用されてきた。
これらの材料は粉体であって、磁気テープにするために
は高分子のバインダー中に分散させ、その後ポリエチレ
ンテレフタレート等の高分子フィルム上に塗布後乾燥す
ることが必要とされる。
は高分子のバインダー中に分散させ、その後ポリエチレ
ンテレフタレート等の高分子フィルム上に塗布後乾燥す
ることが必要とされる。
また磁気特性的にも、磁気異方性の原因は主に形状効果
にあるため、その形状異方性エネルギーはストーナー氏
とウオルファス氏CE、C,5tonerand E、
P、Worfarth : Proc 、 Roy 、
Soc 。
にあるため、その形状異方性エネルギーはストーナー氏
とウオルファス氏CE、C,5tonerand E、
P、Worfarth : Proc 、 Roy 、
Soc 。
London Ser、A240(1948)599
〕によれば、飽和磁化の2乗に比例することがわかる。
〕によれば、飽和磁化の2乗に比例することがわかる。
一般的に言って、通常の強磁性を示す材料で高温に磁気
変態点たるキュリ一点がある場合、室温付近では磁化の
温度変化は顕著ではない。
変態点たるキュリ一点がある場合、室温付近では磁化の
温度変化は顕著ではない。
この事実は、室温付近でこれらγFe2O3やCrO2
等を主体とする磁気記録媒体の安定性を保証するもので
ある。
等を主体とする磁気記録媒体の安定性を保証するもので
ある。
ところが、磁気テープに記録された信号を大量に複写し
ようとした場合、最近のように、スレーブ抗磁力が10
000eを超えるようになると抗磁力に見合った交流バ
イアス磁界を必要とするようになる。
ようとした場合、最近のように、スレーブ抗磁力が10
000eを超えるようになると抗磁力に見合った交流バ
イアス磁界を必要とするようになる。
しかし、バイアスコイルの通ずる電流はコイルのインダ
クタンスを考慮し、また通電時の発熱等の関係からあま
り大きくすることは得策ではない。
クタンスを考慮し、また通電時の発熱等の関係からあま
り大きくすることは得策ではない。
そこで複写時にのみ抗磁力を小さくすることが考えられ
るわけである。
るわけである。
CrO2はキュリ一点が120℃付近にある材料である
ので、キュリ一点直下では磁化が減少し、従って形状異
方性に起因する抗磁力も減少するので、低バイアス磁界
において接触による信号複写が容易である。
ので、キュリ一点直下では磁化が減少し、従って形状異
方性に起因する抗磁力も減少するので、低バイアス磁界
において接触による信号複写が容易である。
ところがキュリ一点が高い材料、例えばγFe20s、
Fe3O4および合金粉としてのFe、Ni、Co等で
はキュリ一温度が数100℃にも達するので簡単にはキ
ュリ一温度を利用することはできない。
Fe3O4および合金粉としてのFe、Ni、Co等で
はキュリ一温度が数100℃にも達するので簡単にはキ
ュリ一温度を利用することはできない。
そこで特に高い抗磁力を持つ材料では、接触転写は因難
になってくることになる。
になってくることになる。
本発明は、以上に述べたキュリ一温度が数百塵を超す磁
気記録媒体で因難な接触転写を可能にするものであって
、特に媒体として蒸着等の製法で作成された金属合金薄
膜を用いることを特徴とするものである。
気記録媒体で因難な接触転写を可能にするものであって
、特に媒体として蒸着等の製法で作成された金属合金薄
膜を用いることを特徴とするものである。
本発明は、上述のように接触転写に関するものであるが
、温度上昇に伴う抗磁力の低下を用いるもので、熱転写
の範疇に増するものである。
、温度上昇に伴う抗磁力の低下を用いるもので、熱転写
の範疇に増するものである。
本発明の特徴は、コバルト合金特有の結晶異方性の温度
変化に付随した抗磁力の可逆的に温度変化を用いるもの
であって、従来のようなキュリ一点直下の形状異方性エ
ネルギーの減少に伴う抗磁力の低下を用いるものではな
い。
変化に付随した抗磁力の可逆的に温度変化を用いるもの
であって、従来のようなキュリ一点直下の形状異方性エ
ネルギーの減少に伴う抗磁力の低下を用いるものではな
い。
以下本発明における材料および製法について説明する。
合金の磁性薄膜を作成するための出発材料としてはコバ
ルトを主成分とする合金を用いる。
ルトを主成分とする合金を用いる。
特に本発明では結晶異方性エネルギーの変化を用いるの
で、結晶異方性に対する考慮が必要である。
で、結晶異方性に対する考慮が必要である。
ダブリュー、ジエ、カー氏W・J、CarrJr:Ph
ys、Rev、109(1958)1971)によれば
、金属の結晶エネルギーは特長的な温度変化をすること
が示されている。
ys、Rev、109(1958)1971)によれば
、金属の結晶エネルギーは特長的な温度変化をすること
が示されている。
Fe、Ni等の立方晶金属では、結晶異方性エネルギー
の温度変化は磁化Mの温度変化の10乗に比例するが、
一方CO等の六方晶金属では次式に示されるように磁化
の温度変化の3乗に比例し、しかも結晶の相変態に伴う
キュリ一温度の1/3のところで結晶異方性が0になる
。
の温度変化は磁化Mの温度変化の10乗に比例するが、
一方CO等の六方晶金属では次式に示されるように磁化
の温度変化の3乗に比例し、しかも結晶の相変態に伴う
キュリ一温度の1/3のところで結晶異方性が0になる
。
ここで、Tは絶対温度、Kulは二次の異方性定数、M
sは飽和磁化、Tcはコバルト金属のキュリ一温度で1
388°にである。
sは飽和磁化、Tcはコバルト金属のキュリ一温度で1
388°にである。
ちなみに室温300°にではT/Tcは約0.2である
。
。
合金の場合、Tcはコバルト金属にくらべて小さくなる
ことが多く、また変態温度も変化するが、概ね上式は正
しい。
ことが多く、また変態温度も変化するが、概ね上式は正
しい。
ゆえにCO含有量の大きい(およそ80%以上の)材料
では非常に大きな結晶異方性の温度変化が存在する。
では非常に大きな結晶異方性の温度変化が存在する。
本発明ではこの六方晶構造を有する合金の薄膜を作成し
、記録媒体に供することを特徴とする。
、記録媒体に供することを特徴とする。
六方晶の結晶構造を有する薄膜は公知の薄膜作成技術を
用いて作成する。
用いて作成する。
すなわち真空蒸着法、高周波スパッタリング、イオンブ
レーティング、化学メッキ、電気メッキ等の方法である
。
レーティング、化学メッキ、電気メッキ等の方法である
。
厚さは1μm以下が適当である。成膜時には、薄膜の磁
気異方性を制御するために斜入射蒸着法や磁界中蒸着法
を用いてもよい。
気異方性を制御するために斜入射蒸着法や磁界中蒸着法
を用いてもよい。
特に重要なのは、コバルト合金薄膜の構造としてその異
方性軸の主軸であるところの、六方稠密格子の六回対称
軸(C軸)を配向させることにある。
方性軸の主軸であるところの、六方稠密格子の六回対称
軸(C軸)を配向させることにある。
配向の割合を評価する指標としてはX線回折あるいは電
子線回折の回折線の強度を用いる。
子線回折の回折線の強度を用いる。
ランダム配向の時の(002)面と(200)面の強度
比がおよそ3:1となるが、本発明に用いるコバルト合
金薄膜では、その比が4:1あるいはそれ以上に(00
2)面の反射が大きいものを用いる。
比がおよそ3:1となるが、本発明に用いるコバルト合
金薄膜では、その比が4:1あるいはそれ以上に(00
2)面の反射が大きいものを用いる。
このようなC軸の配向を示す薄膜では、異方性はランダ
ム配向のコバルト合金薄膜と比べて太き(な、す、その
異方性エネルギーの大きさは、0.5X106〜2.O
X106erg/cm3である。
ム配向のコバルト合金薄膜と比べて太き(な、す、その
異方性エネルギーの大きさは、0.5X106〜2.O
X106erg/cm3である。
そしてその磁気異方性エネルギーのおよそ50%以上が
結晶磁気異方性に由来することが、磁気トルク法等の測
定かられかる。
結晶磁気異方性に由来することが、磁気トルク法等の測
定かられかる。
他の異方性の原因、例えば形状磁気異方性、磁歪の逆効
果による異方性等も考えられるが、それらの和は高々5
0%である。
果による異方性等も考えられるが、それらの和は高々5
0%である。
以下本発明の具体的実施例について説明する。
実施例 1
純度99.9%のコバルトと純度99.99%の金を真
空溶融炉中で電子ビームにより溶解しC。
空溶融炉中で電子ビームにより溶解しC。
98%、Au 2%の合金としたものを母材料として真
空蒸着を行った。
空蒸着を行った。
この時、基板としては、16μmのポリエチレンテレフ
タレートフィルムを用い、その時の入射角は600以上
の成分を含んでいた。
タレートフィルムを用い、その時の入射角は600以上
の成分を含んでいた。
蒸発速度は500〜1000人毎秒である。
作成した薄膜は1000人の膜厚を有し、抗磁力は室温
で8000eであった。
で8000eであった。
X線回折を行った結果として(002)面と(200)
面の反射強度比は4.5:1であり、結晶構造としては
六方稠密構造−相であった。
面の反射強度比は4.5:1であり、結晶構造としては
六方稠密構造−相であった。
このCo −Au合金薄膜の異方性定数の温度変化を第
1図に示す。
1図に示す。
また第2図には300°にの時の抗磁力を1.0とした
時の値に換算したグラフを示す。
時の値に換算したグラフを示す。
第2図中の点線は(コバルト・金)合金材料の異方性定
数の温度変化である。
数の温度変化である。
Coに対してAu 2%程度の添加ではCo金属の持つ
性質はそれ程度化しないと考えられるので、この対比は
十分根拠があり、しかもその様子はバルク材と合金薄膜
で良く似た様子を示す。
性質はそれ程度化しないと考えられるので、この対比は
十分根拠があり、しかもその様子はバルク材と合金薄膜
で良く似た様子を示す。
この磁気テープを用い、第3図に示される装置を用いて
接触熱転写の実験を試みた。
接触熱転写の実験を試みた。
図において1はマスターテープの送り出しリール、2は
同巻き取りリール、3はスレーブテープの送り出し1月
や一ル、4は同巻き取りリール、5は温度調整可能な恒
温槽、6はバイアス磁界発生器、7はバイアスコイルで
ある。
同巻き取りリール、3はスレーブテープの送り出し1月
や一ル、4は同巻き取りリール、5は温度調整可能な恒
温槽、6はバイアス磁界発生器、7はバイアスコイルで
ある。
そしてマスターテープとしては、抗磁力
18000eの鉄、コバルト(1:1)の合金粉を用い
た磁気テープを用いた。
た磁気テープを用いた。
この磁気テープは熱転写領域での抗磁力の変化は10%
以下であり、本目的用のマスターテープには最適である
。
以下であり、本目的用のマスターテープには最適である
。
マスターテープ上に記録された信号の波長は5μmであ
る。
る。
このマスターテープを第3図中の送り出しり一ル1に取
り付け、巻き取りリール2で巻き取るようにし本実施例
中で示されている蒸着された送り出しり一ル3のスレー
ブ磁気テープの磁性面とマスターテープの磁性面を接触
させて、間に空間を生じない程度の圧力を印加し、その
接触点で、交流バイアス磁界をコイル7で印加した。
り付け、巻き取りリール2で巻き取るようにし本実施例
中で示されている蒸着された送り出しり一ル3のスレー
ブ磁気テープの磁性面とマスターテープの磁性面を接触
させて、間に空間を生じない程度の圧力を印加し、その
接触点で、交流バイアス磁界をコイル7で印加した。
接触転写は、送り出しり一ル1および3から送り出され
たマスターテープおよびスレーブテープとの間でバイア
ス磁界中で行われる。
たマスターテープおよびスレーブテープとの間でバイア
ス磁界中で行われる。
その後巻き取りリール、2および4に巻き取られる。
また交流バイアス磁界を印加する点は加熱可能であって
、150℃まで上昇できる。
、150℃まで上昇できる。
まずバイアス磁界を4500e一定として温度を変化さ
せで熱転写の効果を見たところ、次の表Iの結果が得ら
れた。
せで熱転写の効果を見たところ、次の表Iの結果が得ら
れた。
室温付近で;はバイアス磁界の方がスレーブテープとな
るコバルト薄膜の抗磁力より小さいので転写の効果は小
さいが、60°以上では顕著な転写効果が確認された。
るコバルト薄膜の抗磁力より小さいので転写の効果は小
さいが、60°以上では顕著な転写効果が確認された。
なお、上記実施例においては、基板(基材)としてポリ
エチレンテレフタレートフィルムを例にあげたが、これ
に限らず他の高分子成形物、または非磁性基材であって
もよい。
エチレンテレフタレートフィルムを例にあげたが、これ
に限らず他の高分子成形物、または非磁性基材であって
もよい。
実施例 2
純度99.9%のコバムトと純度99.5%のクロムを
前記実施例1に示したと同じ方法でCo95%でCr
5%の合金にし、かつ薄膜スレーブテープにした。
前記実施例1に示したと同じ方法でCo95%でCr
5%の合金にし、かつ薄膜スレーブテープにした。
薄膜は1200A0で、抗磁力は7200eであった。
X線回折の結果、(002)面と(200)面の強度比
は4.3:1であり、六方稠密構造単−相であった。
は4.3:1であり、六方稠密構造単−相であった。
この蒸着スレーブ磁気テープにおいて、第3図に示され
る装置で熱転写を行った。
る装置で熱転写を行った。
転写幼芽の測定結栽次の表■に示す。中印加交流バイア
ス磁界は4200eである。
ス磁界は4200eである。
この場合マスターテープは実施例1で用いたものを用い
、記録波長は2.5μmである。
、記録波長は2.5μmである。
以上のような本発明による合金薄膜テープは、特に短記
録波長領域での転写効果に優れている。
録波長領域での転写効果に優れている。
このことは温度上昇に伴い抗磁力が下っても、膜厚が薄
いために自己減磁作用による記録図形のぼやげが生じに
くくなるためであって、粉体を数μmの厚さで塗布する
いわゆる塗布型磁気記録媒体にくらべて、短波長領域で
数倍の出力増加が可能になる。
いために自己減磁作用による記録図形のぼやげが生じに
くくなるためであって、粉体を数μmの厚さで塗布する
いわゆる塗布型磁気記録媒体にくらべて、短波長領域で
数倍の出力増加が可能になる。
なお、上記本発明の実施例においては、コバルトを主成
分とする合金の従たる成分としてAu、Crについての
み説明したが、これ以外にFe、種以上の元素を用いて
もよい。
分とする合金の従たる成分としてAu、Crについての
み説明したが、これ以外にFe、種以上の元素を用いて
もよい。
以上のように本発明によれば、熱転写の容易な磁気記録
媒体を得ることができるものである。
媒体を得ることができるものである。
第1図はコバルト・金合金薄膜の抗磁力の温度変化特性
図、第2図は同合金薄膜の規格化された抗磁力と規格化
された温度の関係図、第3図は記録転写実験装置の一実
施例の概略構成図である。
図、第2図は同合金薄膜の規格化された抗磁力と規格化
された温度の関係図、第3図は記録転写実験装置の一実
施例の概略構成図である。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 高分子成形物等の基材上に蒸着、メッキ等でコバル
トを主成分とする合金磁性薄膜を形成し、その合金磁性
薄膜の磁気異方性エネルギーの主たる部分が結晶磁気異
方性でかつ抗磁力の温度変化率が前記コバルトを主成分
とする合金の結晶磁気異方性定数の温度変化率と相似す
ることを特徴とする熱転写用磁気記録媒体。 2 コバルトを主成分とする合金の従たる部分が鉄、ニ
ッケル、チタン、クロム、マンガン、金、銀、銅、アル
ミニウム、ベリリウム、白金、イリジウム、ロジウム、
カリウム、ケルマニウム、スズ、インジウム、マグネシ
ウム、モリブデン、タングステン、ケイ素、ストロンチ
ウム、バナジウムのうちの1種または2種以上からなる
ことを特徴とする特許請求の範囲第1項に記載の熱転写
用磁気記録媒体。 3 コバルトを主成分とする合金の金属学的な結晶構造
をエックス線回折または電子線回折によって決定した時
に、コバルト単体金属において室温付近で同定される六
方稠密構造と同等の結晶構造を有することを特徴とする
特許請求の範囲第1項または第2項に記載の熱転写用磁
気記録媒体。 4 六方稠密構造と同等の結晶構造が少なくとも50%
六方稠密構造であり、かつ強磁性を示すことを特徴とす
る特許請求の範囲第3項に記載の熱転写用磁気記録媒体
。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP15021178A JPS5893B2 (ja) | 1978-12-04 | 1978-12-04 | 熱転写用磁気記録媒体 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP15021178A JPS5893B2 (ja) | 1978-12-04 | 1978-12-04 | 熱転写用磁気記録媒体 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS55113133A JPS55113133A (en) | 1980-09-01 |
JPS5893B2 true JPS5893B2 (ja) | 1983-01-05 |
Family
ID=15491952
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP15021178A Expired JPS5893B2 (ja) | 1978-12-04 | 1978-12-04 | 熱転写用磁気記録媒体 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS5893B2 (ja) |
Families Citing this family (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5782227A (en) * | 1980-11-11 | 1982-05-22 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Magnetic recording medium |
JPS57105827A (en) * | 1980-12-23 | 1982-07-01 | Olympus Optical Co Ltd | Manufacture of recorded medium |
JPS57183637A (en) * | 1981-05-06 | 1982-11-12 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Production of magnetic recording medium |
JPS59116924A (ja) * | 1982-12-22 | 1984-07-06 | Nec Corp | 磁気記憶体 |
JPS59116927A (ja) * | 1982-12-22 | 1984-07-06 | Teijin Ltd | 磁気記録媒体及びその製造法 |
JPS59142744A (ja) * | 1983-02-02 | 1984-08-16 | Nec Corp | 磁気記憶体 |
JPS59142738A (ja) * | 1983-02-02 | 1984-08-16 | Nec Corp | 磁気記憶体 |
JPH07111773B2 (ja) * | 1983-12-09 | 1995-11-29 | 東北金属工業株式会社 | 磁気記録媒体 |
JPS62232722A (ja) * | 1986-04-03 | 1987-10-13 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 磁気記録媒体 |
-
1978
- 1978-12-04 JP JP15021178A patent/JPS5893B2/ja not_active Expired
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS55113133A (en) | 1980-09-01 |
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