JPS5893574A - パルスア−ク溶接方法および溶接装置 - Google Patents
パルスア−ク溶接方法および溶接装置Info
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- JPS5893574A JPS5893574A JP19313581A JP19313581A JPS5893574A JP S5893574 A JPS5893574 A JP S5893574A JP 19313581 A JP19313581 A JP 19313581A JP 19313581 A JP19313581 A JP 19313581A JP S5893574 A JPS5893574 A JP S5893574A
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- B23K—SOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
- B23K9/00—Arc welding or cutting
- B23K9/09—Arrangements or circuits for arc welding with pulsed current or voltage
- B23K9/091—Arrangements or circuits for arc welding with pulsed current or voltage characterised by the circuits
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- Engineering & Computer Science (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Arc Welding Control (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は消耗性電極(以下、ワイヤという)を予め定め
た略一定速度で送給して溶接するパルスアーク溶接方法
および溶接装置に関するものであワイヤを設定し;略一
定速度で=給して溶接するパルスアーク溶接方法は、一
般に溶融したワイヤ先端から離脱する溶滴を細粒化して
円滑に移行させ、かつ、アーク長を一定番こ維持するこ
とによって、安定したアークを発生させて均一な溶接結
ツタの発生9少ない溶接物 を得ようとするものである。この場合、ワイヤが設定し
た略一定速度で送給されているので、変動するアーク長
を略一定値に保つために、従来から、ベース電源を定電
圧特性としパルス電源を定電流特性又は多少の傾斜を誓
する垂下特性とするjllの方式と、逆にベース電源を
定電流特性としパルの方式とが広く採 用されている。しかし、両者にはそれぞれ得失がある。
た略一定速度で送給して溶接するパルスアーク溶接方法
および溶接装置に関するものであワイヤを設定し;略一
定速度で=給して溶接するパルスアーク溶接方法は、一
般に溶融したワイヤ先端から離脱する溶滴を細粒化して
円滑に移行させ、かつ、アーク長を一定番こ維持するこ
とによって、安定したアークを発生させて均一な溶接結
ツタの発生9少ない溶接物 を得ようとするものである。この場合、ワイヤが設定し
た略一定速度で送給されているので、変動するアーク長
を略一定値に保つために、従来から、ベース電源を定電
圧特性としパルス電源を定電流特性又は多少の傾斜を誓
する垂下特性とするjllの方式と、逆にベース電源を
定電流特性としパルの方式とが広く採 用されている。しかし、両者にはそれぞれ得失がある。
そこで、アーク長が変動しても溶接電流の変化を小さく
して均一な溶接結果を得るとともに、小電流域で溶接す
るためにベース電流値を小電流に設定した場合であって
もアーク切れを生じることのないようにした第3の方式
が、本特許出願人によって提案された。この第3の方式
においては、源を定電流特性とし、かつ検出したアーク
電圧に相当する信号とアーク電圧設定信号とを比較して
その差の信号に応じて溶接電流の平均値を制御すること
によってアーク長を増減させてアーク電圧を略一定値に
維持するように構成されている。この第3の方式′を基
盤として本特許出願人は、さらに、−溶接電流範囲の小
電流域から大電流域に量るまで、適正な溶接電流の設定
が一元的に行えるように検討を加えた。
して均一な溶接結果を得るとともに、小電流域で溶接す
るためにベース電流値を小電流に設定した場合であって
もアーク切れを生じることのないようにした第3の方式
が、本特許出願人によって提案された。この第3の方式
においては、源を定電流特性とし、かつ検出したアーク
電圧に相当する信号とアーク電圧設定信号とを比較して
その差の信号に応じて溶接電流の平均値を制御すること
によってアーク長を増減させてアーク電圧を略一定値に
維持するように構成されている。この第3の方式′を基
盤として本特許出願人は、さらに、−溶接電流範囲の小
電流域から大電流域に量るまで、適正な溶接電流の設定
が一元的に行えるように検討を加えた。
ここで、パルス”ナーク溶接における溶接電流の基本パ
ラメータの関係について1、時間の一経過【に対する溶
接電流の灰化を示す第1図を参照して、つぎのとおり定
義する。
ラメータの関係について1、時間の一経過【に対する溶
接電流の灰化を示す第1図を参照して、つぎのとおり定
義する。
Ib二ベース電流通電期間中の瞬時値(以下、ベース電
流値という) !P:パルス電流通電期間中の瞬時値(以下、パルス電
流値という) Ib:ベース電流の通電期間(以下、ベース電流期間と
いう) TP:パルス電流の通電期間(以下、パルス継続時間と
いう) T :パルスの繰り返し周期であってT=Tb十T4f
:パルス周波数であってf=17T溶接電流=(ベー
ス電疏)±(パルス電流)Ia=溶接電流の平均値 ”a = (lb−Tb十Ip −TP)/r−f、T
P(IP−1b)+lb ・・・・・・・・・・・・・
・・(1)上記(1)式において、パルス電流値1p1
パルス継続時間Tpおよびベース電流値1b を一定に
設定し、さらに、アーク電圧を設定値に維持するために
アーク電圧をフィードバックしてパルス周波数fを増減
させるように構成されている場合、Ibが一定であるた
めに、la はfに正比例せず、特に小電流域ではfを
かなり小さくシナければならないためにアークが不安定
になる。この小電流域でのアークの不安定をなくすため
に、Ib を比較的小さな一定値に設定してお(と、大
電流域ではfが過大となり、アーク音が高(、またアー
ク力も強大になるので、溶融池の不安定現象(パッカリ
ング)や、気孔の発生が生じやすい欠点が生じる。また
、上記のように使用する溶接電流の全電流範囲でIbが
一定値に設定されると、fはIaの値によって一義的に
定まってしまうために、希望する溶接結果を得るための
適切な周波数fを選定することができない。
流値という) !P:パルス電流通電期間中の瞬時値(以下、パルス電
流値という) Ib:ベース電流の通電期間(以下、ベース電流期間と
いう) TP:パルス電流の通電期間(以下、パルス継続時間と
いう) T :パルスの繰り返し周期であってT=Tb十T4f
:パルス周波数であってf=17T溶接電流=(ベー
ス電疏)±(パルス電流)Ia=溶接電流の平均値 ”a = (lb−Tb十Ip −TP)/r−f、T
P(IP−1b)+lb ・・・・・・・・・・・・・
・・(1)上記(1)式において、パルス電流値1p1
パルス継続時間Tpおよびベース電流値1b を一定に
設定し、さらに、アーク電圧を設定値に維持するために
アーク電圧をフィードバックしてパルス周波数fを増減
させるように構成されている場合、Ibが一定であるた
めに、la はfに正比例せず、特に小電流域ではfを
かなり小さくシナければならないためにアークが不安定
になる。この小電流域でのアークの不安定をなくすため
に、Ib を比較的小さな一定値に設定してお(と、大
電流域ではfが過大となり、アーク音が高(、またアー
ク力も強大になるので、溶融池の不安定現象(パッカリ
ング)や、気孔の発生が生じやすい欠点が生じる。また
、上記のように使用する溶接電流の全電流範囲でIbが
一定値に設定されると、fはIaの値によって一義的に
定まってしまうために、希望する溶接結果を得るための
適切な周波数fを選定することができない。
これらの関係について第2図を参照して説明する。同図
の実線は、パルス電流値IP=450〔A〕、パルス継
続時間TP= l (ms )として、ベース電流値I
bをパラメータ(0,100,200,300および4
00〔A〕)としたときの溶接電流の平均値1a(A〕
(横軸)とパルス周波数f(縦軸)との関係を示す線図
である。平均値1a(A)は、パルス電流値1.(A)
キベース電流値I・b(A)との間、すなわちI b(
I a。
の実線は、パルス電流値IP=450〔A〕、パルス継
続時間TP= l (ms )として、ベース電流値I
bをパラメータ(0,100,200,300および4
00〔A〕)としたときの溶接電流の平均値1a(A〕
(横軸)とパルス周波数f(縦軸)との関係を示す線図
である。平均値1a(A)は、パルス電流値1.(A)
キベース電流値I・b(A)との間、すなわちI b(
I a。
<IPの関係がある。したがって、Ib が大なるとき
、例えばIb=400[Alのとき、I、=450(A
)に設定されているのでIb<Ia<l、は、400<
I a<450となり、溶接電流の平均値Ia の可変
範囲は50[A)であって狭くなる。逆に、Ib が小
なるとぎ、例えば1b=100(A)のとき、同様に1
00<1 、< 450となり、Iaの可変範囲は35
0(A)であって広いが、Ia が大なるとき、例えば
I、 =400 (A)なるときパルス周波数f =i
= 850 (Hzlであって過大になって、前述した
ような欠点が生じる。
、例えばIb=400[Alのとき、I、=450(A
)に設定されているのでIb<Ia<l、は、400<
I a<450となり、溶接電流の平均値Ia の可変
範囲は50[A)であって狭くなる。逆に、Ib が小
なるとぎ、例えば1b=100(A)のとき、同様に1
00<1 、< 450となり、Iaの可変範囲は35
0(A)であって広いが、Ia が大なるとき、例えば
I、 =400 (A)なるときパルス周波数f =i
= 850 (Hzlであって過大になって、前述した
ような欠点が生じる。
同様にして、上記(1)式において、パルス電流値1、
、パルス周波Ifおよびベース電流値lbを一定に設定
し、さらに、アーク電圧をフィードバックしてパルス継
続時間Tpを増減させることにより、アーク電圧を設定
値に維持させるように構成されている場合においても、
以下のような欠点が生じる。すなわち、(1)式におい
て、、Ibとfとが一定であるために・1!−は1・と
ともに変化する・特に小電流域ではT、ほかなり小さく
なるので1回のパルスの力が不足なるために溶滴が移行
することができず、スプレー移行が得られなくなる。ま
た、小電流域でのアークの不安定をなくすために、Ib
を小電流値の一定値に設定しておくと、大電流域では
Tp が過大となり、1回のパルスで数個の溶滴が移行
するためアーク長が長(なりアーク力も強大となるので
、溶融池の不安定現象(パッカリング)や気孔の発生が
生じやすい欠点が生じる。また、上記のように使用する
溶接電流の全電流範囲一で11 が一定値に股、定され
ると、T、はl。
、パルス周波Ifおよびベース電流値lbを一定に設定
し、さらに、アーク電圧をフィードバックしてパルス継
続時間Tpを増減させることにより、アーク電圧を設定
値に維持させるように構成されている場合においても、
以下のような欠点が生じる。すなわち、(1)式におい
て、、Ibとfとが一定であるために・1!−は1・と
ともに変化する・特に小電流域ではT、ほかなり小さく
なるので1回のパルスの力が不足なるために溶滴が移行
することができず、スプレー移行が得られなくなる。ま
た、小電流域でのアークの不安定をなくすために、Ib
を小電流値の一定値に設定しておくと、大電流域では
Tp が過大となり、1回のパルスで数個の溶滴が移行
するためアーク長が長(なりアーク力も強大となるので
、溶融池の不安定現象(パッカリング)や気孔の発生が
生じやすい欠点が生じる。また、上記のように使用する
溶接電流の全電流範囲一で11 が一定値に股、定され
ると、T、はl。
の値によって一義的に定まってしまうために、希望する
溶接結果を得るための適切なパルス通電時間T、を選定
することができない。
溶接結果を得るための適切なパルス通電時間T、を選定
することができない。
これらの関係について第3図を参照して説明する。同図
の実線はパルス電流値1. = 450 (A)、パル
ス周波数f =200(H2)として、ベース電流値I
b をパラメータ(0,100,200,300および
400〔A〕)としたときの溶埠電流の平均値Ia〔A
〕(横軸)とパルス継続期間T、(縦軸)との関係を示
す線図である。平均値Ia〔A〕は、パルス電流値1.
[Alとベース電流値!′bCA〕との間、すなわちI
b〈■3(1,の関係がある。したがって、Ib が
大なるとき例えば1b=400〔A〕ノとき、I、=4
50(A) ニ設定されているので、Ib<Ia<IP
は、400<la<450となり、溶接電流の平均値■
3の可変範囲は5o(A)であって狭(なる。逆に、I
bが小なるとき例えば1b=100(A)のとき、同様
に100<la<450となり、1つの可変範囲は35
0[A)であって広いが、Iaが小なるとき、例えば1
a=150(A)ではT、 = Q、7 jams :
lとなりTpは過少となり、Iaが大なるとき例えばI
a= 400 (Alなるとき、Tp =4[ms]で
あって過大になって、前述したような欠点が生じる。
の実線はパルス電流値1. = 450 (A)、パル
ス周波数f =200(H2)として、ベース電流値I
b をパラメータ(0,100,200,300および
400〔A〕)としたときの溶埠電流の平均値Ia〔A
〕(横軸)とパルス継続期間T、(縦軸)との関係を示
す線図である。平均値Ia〔A〕は、パルス電流値1.
[Alとベース電流値!′bCA〕との間、すなわちI
b〈■3(1,の関係がある。したがって、Ib が
大なるとき例えば1b=400〔A〕ノとき、I、=4
50(A) ニ設定されているので、Ib<Ia<IP
は、400<la<450となり、溶接電流の平均値■
3の可変範囲は5o(A)であって狭(なる。逆に、I
bが小なるとき例えば1b=100(A)のとき、同様
に100<la<450となり、1つの可変範囲は35
0[A)であって広いが、Iaが小なるとき、例えば1
a=150(A)ではT、 = Q、7 jams :
lとなりTpは過少となり、Iaが大なるとき例えばI
a= 400 (Alなるとき、Tp =4[ms]で
あって過大になって、前述したような欠点が生じる。
上記のような欠点を防ぐために、パルス周波数fをIa
に比例的に増加させるようにプリセットする方法が
ある。第3図の点線は、I、=450(A)一定とし、
f=a−1a(a=l、Q /A) (7)関係ヲ満
足する場合に、ベーオ電流Ib′をパラメータ(0,1
00゜200、300および400(Al)として1つ
とT、の関係を示す線図である。図に見るように、この
場合Iaが大電流域では、T、はほぼ一定となるが、小
電流ではT、が過少となって前述と同様の欠点が生じる
。
に比例的に増加させるようにプリセットする方法が
ある。第3図の点線は、I、=450(A)一定とし、
f=a−1a(a=l、Q /A) (7)関係ヲ満
足する場合に、ベーオ電流Ib′をパラメータ(0,1
00゜200、300および400(Al)として1つ
とT、の関係を示す線図である。図に見るように、この
場合Iaが大電流域では、T、はほぼ一定となるが、小
電流ではT、が過少となって前述と同様の欠点が生じる
。
以下、本発明のパルスアーク溶接方法および装置につい
て説明する。まず、本出願の第1の発明は、ワイヤを予
め設定した略一定速度で送給し、設定した略一定尖頭値
のパルス電流と定電流特性のベース電流とから成る溶接
電流をワイヤに通電すること、検出したアーク電圧に相
当する信号とアーク電圧設定信号とを比較してその差の
信号に応じて溶接電流の平均値Ia を制御すること、
およびワイヤ送給速度に相当する信号■f′に対応させ
てベース電流値Ibを連続的又は段階的に変化させるこ
とによって、広範囲に溶接電流を変化させても全電流範
囲にわたって安定したアークおよび適切なアーク力を得
ることができるパルスアーク溶接方法を提案したもので
ある。
て説明する。まず、本出願の第1の発明は、ワイヤを予
め設定した略一定速度で送給し、設定した略一定尖頭値
のパルス電流と定電流特性のベース電流とから成る溶接
電流をワイヤに通電すること、検出したアーク電圧に相
当する信号とアーク電圧設定信号とを比較してその差の
信号に応じて溶接電流の平均値Ia を制御すること、
およびワイヤ送給速度に相当する信号■f′に対応させ
てベース電流値Ibを連続的又は段階的に変化させるこ
とによって、広範囲に溶接電流を変化させても全電流範
囲にわたって安定したアークおよび適切なアーク力を得
ることができるパルスアーク溶接方法を提案したもので
ある。
本出願の第2の発明は、ワイヤを予め設定した略一定速
度■fで送給するワイヤ送給装置7と、設定した略一定
尖頭値1p のパルス電流および定電流特性のベース電
流とをワイヤに通電する浴接電源1および2と、アーク
電圧に相当する信号Eaとアーク電圧設定信号Eb と
を比較してその差の信号に応じてパルス電流のパルス周
波数′f又はパルス継続時間T、を制御するためのパル
ス電流制御回路20と、ワイヤ送給速度に相当する信号
vQに対応させてベース電流値1bを制御するためのベ
ース電流制御回路14とを備えて、広範囲に溶接電流を
変化させても全電流範囲にわたって安定したアークおよ
び適切なアーク力を得ることができるパルスアーク溶接
装置を提供したものである。
度■fで送給するワイヤ送給装置7と、設定した略一定
尖頭値1p のパルス電流および定電流特性のベース電
流とをワイヤに通電する浴接電源1および2と、アーク
電圧に相当する信号Eaとアーク電圧設定信号Eb と
を比較してその差の信号に応じてパルス電流のパルス周
波数′f又はパルス継続時間T、を制御するためのパル
ス電流制御回路20と、ワイヤ送給速度に相当する信号
vQに対応させてベース電流値1bを制御するためのベ
ース電流制御回路14とを備えて、広範囲に溶接電流を
変化させても全電流範囲にわたって安定したアークおよ
び適切なアーク力を得ることができるパルスアーク溶接
装置を提供したものである。
以下、本発明の溶接方法について説明する。前述した第
2図において、溶接電流の平均値la(横軸)とパルス
周波数f(縦軸)との関係において、Ia の変化に対
応するfの変化を小さくし、かつIa が小なる範囲ま
で変化可能なようにすれば、Ia が大きく変化しても
fの変化を小さくすることができ、Ia が小電流であ
っても安定したアークが得られるとともに、Ia が大
電流になってもアーク力が過大とならない。すなわち、
同図において、Ia の変化に対する!の変化を、例え
ば、一点鎖線のa=2.a=1又はa=0.5 とする
ことによって、Ia が大きく変化してもfの変化を抑
えることが可能である。例えば、■3 に対するfの関
係を、同図の一点鎖線が示すように、任意の比例定数a
で定まる正比例関係を有するようにするためには、前述
した+1)式、すなわち Ia=f、TP(IP−1b)+lb および f = aΦ1 ・叩・
・・・(2)の両式を満足する式、すなわち Ib=Ia(1−a、T、−1,)/(1−a、TP、
1a)・・・・・・・・・(3) が成立することが必要である。
2図において、溶接電流の平均値la(横軸)とパルス
周波数f(縦軸)との関係において、Ia の変化に対
応するfの変化を小さくし、かつIa が小なる範囲ま
で変化可能なようにすれば、Ia が大きく変化しても
fの変化を小さくすることができ、Ia が小電流であ
っても安定したアークが得られるとともに、Ia が大
電流になってもアーク力が過大とならない。すなわち、
同図において、Ia の変化に対する!の変化を、例え
ば、一点鎖線のa=2.a=1又はa=0.5 とする
ことによって、Ia が大きく変化してもfの変化を抑
えることが可能である。例えば、■3 に対するfの関
係を、同図の一点鎖線が示すように、任意の比例定数a
で定まる正比例関係を有するようにするためには、前述
した+1)式、すなわち Ia=f、TP(IP−1b)+lb および f = aΦ1 ・叩・
・・・(2)の両式を満足する式、すなわち Ib=Ia(1−a、T、−1,)/(1−a、TP、
1a)・・・・・・・・・(3) が成立することが必要である。
上記(3)式が成立する場合において、I、=450[
A] 、T、 −1(m8 )およびa=0.5 、1
又は2としたとぎの溶接電流の平均値1a(A)(横軸
)とベース電流値1b(A)との関係を9J4図に示す
。同図におい′ては、■3 とIbとは、(3)式にお
いてT、およびI、を一定にすると、 Ib=Ia(” aKl)/(1−a−に21a)
・・・・・・・+41=F(Ia、a) すなわち、IbはIaとaとを変数とする関数Fで表わ
される。
A] 、T、 −1(m8 )およびa=0.5 、1
又は2としたとぎの溶接電流の平均値1a(A)(横軸
)とベース電流値1b(A)との関係を9J4図に示す
。同図におい′ては、■3 とIbとは、(3)式にお
いてT、およびI、を一定にすると、 Ib=Ia(” aKl)/(1−a−に21a)
・・・・・・・+41=F(Ia、a) すなわち、IbはIaとaとを変数とする関数Fで表わ
される。
また、通常、ワイヤ溶融速度Vmは、溶接電流の平均値
la に略比例し、他方、略一定のアーク長を維持させ
るためには、ワイヤ溶融速度Vmに対応させたワイヤ送
給速度■f でワイヤが送給される。したがって、 vm=vE=KoIa ・・・・・曲・曲
・・開・・・曲(5)(Koは定数) なる関係がある。この(5)式のIa=V(/に0を後
述するワイヤ送給速度に相当する信号■f′として(4
)式に代入すると、 Ib−■f’(1−a lt)/(1−a −に2−V
O−・・・・・−・(6)= F (V’t 、 a
) なる関係が成立する。この(6)式は、ワイヤ送給速度
■f、すなわちワイヤ送給速度設定、信号V、、、ワイ
ヤ送給速度検出信号■f2等のワイヤ送給速度に相当す
る信号■iに対応させてベース電流値Ib を変化させ
る本発明のパルスアーク溶接方法の根拠を示すものであ
る。また、ワイヤ先端からの溶滴の移行が、パルスに同
期して行なわれるとすれば、単位時間(例えば1秒)当
りに、ワイヤ先端から離脱して移行した溶滴の総体積■
d は、(7)式に示されるように、単位時間内に送給
されるワイヤ送ただし、Dmは、ワイヤ先端から移行す
る1個の溶滴の直径。
la に略比例し、他方、略一定のアーク長を維持させ
るためには、ワイヤ溶融速度Vmに対応させたワイヤ送
給速度■f でワイヤが送給される。したがって、 vm=vE=KoIa ・・・・・曲・曲
・・開・・・曲(5)(Koは定数) なる関係がある。この(5)式のIa=V(/に0を後
述するワイヤ送給速度に相当する信号■f′として(4
)式に代入すると、 Ib−■f’(1−a lt)/(1−a −に2−V
O−・・・・・−・(6)= F (V’t 、 a
) なる関係が成立する。この(6)式は、ワイヤ送給速度
■f、すなわちワイヤ送給速度設定、信号V、、、ワイ
ヤ送給速度検出信号■f2等のワイヤ送給速度に相当す
る信号■iに対応させてベース電流値Ib を変化させ
る本発明のパルスアーク溶接方法の根拠を示すものであ
る。また、ワイヤ先端からの溶滴の移行が、パルスに同
期して行なわれるとすれば、単位時間(例えば1秒)当
りに、ワイヤ先端から離脱して移行した溶滴の総体積■
d は、(7)式に示されるように、単位時間内に送給
されるワイヤ送ただし、Dmは、ワイヤ先端から移行す
る1個の溶滴の直径。
fは、単位時間内(例えば1秒)のパ
ルス数、すなわちパルス周波数、
Df は、送給するワイヤの直径
V、は、ワイヤ送給速度、
を示す。(7)式より、
Dm= 3/2・(’10”DI2−=−−−(71’
なる関係が得られるが、一方、本発明の溶接方法におい
ては、(2)式および(5)式より(=、ta*a、(
V(/に0) (ただしK。は定数) V (/ f −i−K o/ a
・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・
・・・・・・(8)(7)および(8)式より Dm””K2・D(/a (K2は定数) ・・・・・
・・・・・・・・・・・・・(9)なる関係が成立する
。この(9)式は、本発明の溶接方法の効果の一つを示
すものであって、ワイヤ先端から移行する一個の溶滴の
直径Dmが、設定した溶接電流の平均値1a に無関係
になり、溶接電流値の全範囲にわたってパルスに同期し
て略均−な大きさの溶滴移行が行われるので、溶滴の粗
大化による移行時の過渡的な短絡を防止して安定なアー
クが得られる。つぎに、これらの溶接電流の平均値Ia
と溶滴の直径Dmとの関係について実験により求め
た結果を第5図に示す。同図には、直径D(= 1.6
(mlのアルミワイヤを用いて、パルス電流値1.
=450 [A]、パルス継続時間Tp =−1(m=
3とした場合の溶接電流の平均値Ia(横軸)と溶滴の
直径DIn(縦軸)との関係力、イ示されている。
なる関係が得られるが、一方、本発明の溶接方法におい
ては、(2)式および(5)式より(=、ta*a、(
V(/に0) (ただしK。は定数) V (/ f −i−K o/ a
・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・
・・・・・・(8)(7)および(8)式より Dm””K2・D(/a (K2は定数) ・・・・・
・・・・・・・・・・・・・(9)なる関係が成立する
。この(9)式は、本発明の溶接方法の効果の一つを示
すものであって、ワイヤ先端から移行する一個の溶滴の
直径Dmが、設定した溶接電流の平均値1a に無関係
になり、溶接電流値の全範囲にわたってパルスに同期し
て略均−な大きさの溶滴移行が行われるので、溶滴の粗
大化による移行時の過渡的な短絡を防止して安定なアー
クが得られる。つぎに、これらの溶接電流の平均値Ia
と溶滴の直径Dmとの関係について実験により求め
た結果を第5図に示す。同図には、直径D(= 1.6
(mlのアルミワイヤを用いて、パルス電流値1.
=450 [A]、パルス継続時間Tp =−1(m=
3とした場合の溶接電流の平均値Ia(横軸)と溶滴の
直径DIn(縦軸)との関係力、イ示されている。
点線の曲線1b=100は、従来の溶接方法のようにベ
ース電流値lbを100 [A]の一定値に固定した場
合であって、この場合には、溶接電流の平均値Iaの減
少に伴って溶滴の直径Dmが増加しており、特にl、=
200 (A)以下では、溶滴の直径Dmか急激に増加
しているので、円滑なスプレー移行が妨げられる。これ
に対して、直線a=0.5.m=1およびm=2は、(
9)式においてa=0.511=1およびa−2とした
場合の溶接電流の平均値Iaと溶滴の直径Dmとの関係
を示すもので、溶接電流の平均値Iaのいかんにかかわ
らず溶滴の直径Dmは略一定であることを示している。
ース電流値lbを100 [A]の一定値に固定した場
合であって、この場合には、溶接電流の平均値Iaの減
少に伴って溶滴の直径Dmが増加しており、特にl、=
200 (A)以下では、溶滴の直径Dmか急激に増加
しているので、円滑なスプレー移行が妨げられる。これ
に対して、直線a=0.5.m=1およびm=2は、(
9)式においてa=0.511=1およびa−2とした
場合の溶接電流の平均値Iaと溶滴の直径Dmとの関係
を示すもので、溶接電流の平均値Iaのいかんにかかわ
らず溶滴の直径Dmは略一定であることを示している。
また: (91式において、パルス電流値I、およびパ
ルス継続時間T、を略一定値に設定しておいて、前述し
た定数aを変化させることによって、溶滴の直径Drn
、すなわち溶滴の大きさを任意に選定することもできる
。前述した第5図において、溶接電流の平均値Iaを3
00[A]とした場合、(9)式におイT a=0.5
1a−1およびa==2とすると、動作点は、それぞれ
A。、A1およびA2となるので、溶滴の、直径′Dm
CIIIII〕はそれぞれ略1.6 、1.3および1
.0となり、aの値を適宜に選定することによって、溶
滴の直径Dmを適切な値に制御することができることを
示している。
ルス継続時間T、を略一定値に設定しておいて、前述し
た定数aを変化させることによって、溶滴の直径Drn
、すなわち溶滴の大きさを任意に選定することもできる
。前述した第5図において、溶接電流の平均値Iaを3
00[A]とした場合、(9)式におイT a=0.5
1a−1およびa==2とすると、動作点は、それぞれ
A。、A1およびA2となるので、溶滴の、直径′Dm
CIIIII〕はそれぞれ略1.6 、1.3および1
.0となり、aの値を適宜に選定することによって、溶
滴の直径Dmを適切な値に制御することができることを
示している。
つぎに、本発明の溶接方法を実施するための装置の実施
例について、第6図を参照して説明する。
例について、第6図を参照して説明する。
同図において、1は略定電流特性を有しワイヤ送給速度
■f に応して設定した略一定のベース電流■bを送給
するベース電源、2は設定した略一定のパルス電流1.
を供給するパルス電源であって、これら両者で溶接電源
を構成する。3はベース電流lbとパルス電流!、とが
重畳された溶接電流Iaをワイヤ4に通電する溶接トー
チ内の給電チップ、5は被溶接物、6はアークであって
47!7至6が溶接負荷となる。7はワイヤ4を設定さ
れた略一定速度Vt で送給するワイヤ送給装置、8は
ワイヤ送給装置7を制御するワイヤ送給制御回路である
。
■f に応して設定した略一定のベース電流■bを送給
するベース電源、2は設定した略一定のパルス電流1.
を供給するパルス電源であって、これら両者で溶接電源
を構成する。3はベース電流lbとパルス電流!、とが
重畳された溶接電流Iaをワイヤ4に通電する溶接トー
チ内の給電チップ、5は被溶接物、6はアークであって
47!7至6が溶接負荷となる。7はワイヤ4を設定さ
れた略一定速度Vt で送給するワイヤ送給装置、8は
ワイヤ送給装置7を制御するワイヤ送給制御回路である
。
11はワイヤ送給速度設定回路であって、ワイヤ送給速
度設定信号vfユをワイヤ送給速度制御回路8に供給す
る。12はワイヤ送給速度設定信号V 1 、、ワイヤ
送給速度検出信号V (2等のワイヤ送給速度に相当す
る信号■:を大刀として、ベース電流設定信号Sbを演
算するベース電流演算回路である。この演算回路の出方
信号Sbと六方信号v;とは、溶接方法の説明中で述べ
たようにつぎの関係がある。ベース電流値■bとベース
電流設定信号Sbとは、Sb二に3・!b(K3は定数
)なる関係かあるので、(6)式より Sb=に3伊Ib −に3.■1(1−a−に1)/(1−a−に2・■1
)・・・・・・・・・uo なる関係がある。しかし、実用的には、近似式、例えば
、 Sb=”4 ・F(■ト” )=’4・(V (’
−・”−、Qll(ただし、K4. nは定数) で置換した式によって演算した信号を用いてもよい。ま
た、ワイヤ送給速度に相当する信号viに対して演算回
路12の出力信号Sbを段階的に変化させても略同様の
効果が得られる。第8図(a)は、上記01式において
n=1.2および3としたときの■f′(横軸)に対し
てSb(縦軸)を連続的に変化させた場合を示し、又第
8図(b)は、v i (横軸)に対してSb(縦軸
)を段階的に変化させるようにした場合を示している。
度設定信号vfユをワイヤ送給速度制御回路8に供給す
る。12はワイヤ送給速度設定信号V 1 、、ワイヤ
送給速度検出信号V (2等のワイヤ送給速度に相当す
る信号■:を大刀として、ベース電流設定信号Sbを演
算するベース電流演算回路である。この演算回路の出方
信号Sbと六方信号v;とは、溶接方法の説明中で述べ
たようにつぎの関係がある。ベース電流値■bとベース
電流設定信号Sbとは、Sb二に3・!b(K3は定数
)なる関係かあるので、(6)式より Sb=に3伊Ib −に3.■1(1−a−に1)/(1−a−に2・■1
)・・・・・・・・・uo なる関係がある。しかし、実用的には、近似式、例えば
、 Sb=”4 ・F(■ト” )=’4・(V (’
−・”−、Qll(ただし、K4. nは定数) で置換した式によって演算した信号を用いてもよい。ま
た、ワイヤ送給速度に相当する信号viに対して演算回
路12の出力信号Sbを段階的に変化させても略同様の
効果が得られる。第8図(a)は、上記01式において
n=1.2および3としたときの■f′(横軸)に対し
てSb(縦軸)を連続的に変化させた場合を示し、又第
8図(b)は、v i (横軸)に対してSb(縦軸
)を段階的に変化させるようにした場合を示している。
laは、前述した(9)式において定数aを任意に設定
することによって溶滴の直径Dmを制御する溶滴径制御
回路である。14は、演算回路12の出力信号Sbを入
力としてベース電源2の出力1bを設定するベース電流
設定回路である。20は、パルス電流制御回路であって
、パルス電流値Ipおよび継続時間T、の設定回路21
aとパルス周波数制御回路22aとから構成されている
。23は、アーク電圧設定回路であって、この回路に、
アーク電圧を単独に又はワイヤ送給速度に相当する信号
vl と連動させてアーク長を制御する。このアーク長
は、アーク電圧に相当する信号Eaとアーク電圧設定回
路の出力信号Ebとの差の信号が周波数制御回路22a
に供給される。この回路22aは、アーク長が大になっ
てアーク電圧が大になると、Ea−Ebが大となり、f
が小になるような信号をパルス電源2に供給する。その
結果、fが小すなわち、la が小になるので、溶融速
度が低下してアーク長が減少してアーク長が復帰する。
することによって溶滴の直径Dmを制御する溶滴径制御
回路である。14は、演算回路12の出力信号Sbを入
力としてベース電源2の出力1bを設定するベース電流
設定回路である。20は、パルス電流制御回路であって
、パルス電流値Ipおよび継続時間T、の設定回路21
aとパルス周波数制御回路22aとから構成されている
。23は、アーク電圧設定回路であって、この回路に、
アーク電圧を単独に又はワイヤ送給速度に相当する信号
vl と連動させてアーク長を制御する。このアーク長
は、アーク電圧に相当する信号Eaとアーク電圧設定回
路の出力信号Ebとの差の信号が周波数制御回路22a
に供給される。この回路22aは、アーク長が大になっ
てアーク電圧が大になると、Ea−Ebが大となり、f
が小になるような信号をパルス電源2に供給する。その
結果、fが小すなわち、la が小になるので、溶融速
度が低下してアーク長が減少してアーク長が復帰する。
逆に、アーク長が小になると上記の逆の動作によってア
−り長が増加して復帰する。
−り長が増加して復帰する。
つぎに、前記第6図の装置の動作について説明する。被
溶接物の板厚、材質、溶接姿勢等によって、ワイヤの材
質、直径、シールドガス成分、溶接電流等が定まると、
まず、ワイヤ送給速度設定回路11によって溶接電流の
平均値laに対応したワイヤ送給速度■f が得られる
よ、うにワイヤ送給速度設定回路11を設定する。つぎ
に、パルス電流値1pおよびパルス継続時間Tpをパル
ス電流設定回路21aに設定する。また、必要に応じて
、溶滴径制御回路13によって適正な溶滴の直径曳が得
られるように定数aを任意に設定する。しかし、通常の
同種類の溶接を行うときは、I p 、Tpおよびaは
固定しておいてもよい。
溶接物の板厚、材質、溶接姿勢等によって、ワイヤの材
質、直径、シールドガス成分、溶接電流等が定まると、
まず、ワイヤ送給速度設定回路11によって溶接電流の
平均値laに対応したワイヤ送給速度■f が得られる
よ、うにワイヤ送給速度設定回路11を設定する。つぎ
に、パルス電流値1pおよびパルス継続時間Tpをパル
ス電流設定回路21aに設定する。また、必要に応じて
、溶滴径制御回路13によって適正な溶滴の直径曳が得
られるように定数aを任意に設定する。しかし、通常の
同種類の溶接を行うときは、I p 、Tpおよびaは
固定しておいてもよい。
アーク電圧設定回路23の設定値がワイヤ送給速度設定
回路11の設定値と連動していない場合には、適正なア
ーク・、;電圧になるように設定する。
回路11の設定値と連動していない場合には、適正なア
ーク・、;電圧になるように設定する。
□l1
以上の設定後に、ベース電源1およびパルス電源2から
ワイヤ4と被溶接物5に電圧を印加し、ワイヤ4を設定
した略一定速度で送給してアーク6を発生させて設定し
たベース電流値Ib1設定したパルス電流値1p およ
び設定したパルス継続時間T、で溶接を続行する。溶接
中のアーク長の反動に対しては、前述したように、パル
ス周波数fを制御してアーク長を略一定値になるように
維持させている。
ワイヤ4と被溶接物5に電圧を印加し、ワイヤ4を設定
した略一定速度で送給してアーク6を発生させて設定し
たベース電流値Ib1設定したパルス電流値1p およ
び設定したパルス継続時間T、で溶接を続行する。溶接
中のアーク長の反動に対しては、前述したように、パル
ス周波数fを制御してアーク長を略一定値になるように
維持させている。
第7図は、本発明の溶接装置の構成の他の実施例を示す
図である。第6図の実施例では、パルス電流値l とパ
ルス電流継続時間T、とを設定回路21aによって設定
し、アーク長が略一定値になるように、パルス周波数f
をパルス周波数制御回路22aによって制御するように
していたのに対して、第7図の実施例では、■、とfと
を各々の設定回路21aおよび2ICによって設定し、
さらにアーク長が略一定になるようにパルス継続時間T
pをパルス継続時間制御回路22bによって制御するよ
うにしたものである。したがって、溶接中にアーク長が
大きぐなり過ぎると、回路22bは、パルス継続時間T
pが小になるような信号をパルス電源2に供給し、その
結果、溶接電流の平均値Ia が小になり、ワイヤ溶融
速度が低下してアーク長が減少して復帰する。アーク長
が小さくなり過ぎると、上記の逆の動作によってアーク
長が増加して復帰する。この第7図の実施例において、
設定回路21Cによって設定するパルス周波数fを、こ
の回路21Cによって単独に設定してもよいし、またワ
イヤ送給速度設定回路11、溶滴径制御回路13または
これら両者の設定値と連動させて一元制御してもよい。
図である。第6図の実施例では、パルス電流値l とパ
ルス電流継続時間T、とを設定回路21aによって設定
し、アーク長が略一定値になるように、パルス周波数f
をパルス周波数制御回路22aによって制御するように
していたのに対して、第7図の実施例では、■、とfと
を各々の設定回路21aおよび2ICによって設定し、
さらにアーク長が略一定になるようにパルス継続時間T
pをパルス継続時間制御回路22bによって制御するよ
うにしたものである。したがって、溶接中にアーク長が
大きぐなり過ぎると、回路22bは、パルス継続時間T
pが小になるような信号をパルス電源2に供給し、その
結果、溶接電流の平均値Ia が小になり、ワイヤ溶融
速度が低下してアーク長が減少して復帰する。アーク長
が小さくなり過ぎると、上記の逆の動作によってアーク
長が増加して復帰する。この第7図の実施例において、
設定回路21Cによって設定するパルス周波数fを、こ
の回路21Cによって単独に設定してもよいし、またワ
イヤ送給速度設定回路11、溶滴径制御回路13または
これら両者の設定値と連動させて一元制御してもよい。
以上のように、本発明の溶接方法または溶接装置におい
ては、ワイヤを予め設定した略一定速度で送給し、設定
した略一定尖頭値のパルス電流と定電流特性のベース電
流とが用いられているので、アーク長の変動に対して溶
接電流の変化が小さく、溶接結果が均一になるという従
来の効果に加えて、溶接電流値la に対応するワイヤ
送給速度■、に対応させてベース電流値lb をも連続
的に又は段階的に変化させているので、ワイヤ送給速度
V。
ては、ワイヤを予め設定した略一定速度で送給し、設定
した略一定尖頭値のパルス電流と定電流特性のベース電
流とが用いられているので、アーク長の変動に対して溶
接電流の変化が小さく、溶接結果が均一になるという従
来の効果に加えて、溶接電流値la に対応するワイヤ
送給速度■、に対応させてベース電流値lb をも連続
的に又は段階的に変化させているので、ワイヤ送給速度
V。
に対応させてパルス周波数f又はパルス継続時間Tp
を大きく変化させる必要がない。したがって、本発明
の溶接方法では、小電流でも使用できるように、小電流
域でベース電流値を小さく設定しておいても、大電流で
は、ワイヤ送給速度の増加に伴なってベース電流値Ib
が太き(なるので、パルス周波数f又はパルス継続時間
Tp が過大となることがな(、したがって、アーク力
が強大となって溶融池に不安定現象を発生させることが
な(、広帷囲にわたって安定したアークおよび適切なア
ーク力が得られる。ま売、本発明の溶接方法または溶接
装置においては、広範囲の溶接電流にわたって溶滴の直
径を略均−にすることができると共に、必要に応じて、
溶滴の直径を適正値に選定することもできる。さらに、
本発明の溶接方法または溶接装置においては、被溶接物
によって定まる溶接電流が適正値になるようにワイヤ送
給速度を設定するだけで、広範囲の溶接電流に対して、
ベース電流値およびパルス電流の各条件を個々に設定す
る必要がないので、溶接作業が谷筋となり、信頼性およ
び再現性も向上する。 □
を大きく変化させる必要がない。したがって、本発明
の溶接方法では、小電流でも使用できるように、小電流
域でベース電流値を小さく設定しておいても、大電流で
は、ワイヤ送給速度の増加に伴なってベース電流値Ib
が太き(なるので、パルス周波数f又はパルス継続時間
Tp が過大となることがな(、したがって、アーク力
が強大となって溶融池に不安定現象を発生させることが
な(、広帷囲にわたって安定したアークおよび適切なア
ーク力が得られる。ま売、本発明の溶接方法または溶接
装置においては、広範囲の溶接電流にわたって溶滴の直
径を略均−にすることができると共に、必要に応じて、
溶滴の直径を適正値に選定することもできる。さらに、
本発明の溶接方法または溶接装置においては、被溶接物
によって定まる溶接電流が適正値になるようにワイヤ送
給速度を設定するだけで、広範囲の溶接電流に対して、
ベース電流値およびパルス電流の各条件を個々に設定す
る必要がないので、溶接作業が谷筋となり、信頼性およ
び再現性も向上する。 □
第1図は、消耗性電極パルスアーク溶接方法によって溶
接したときの時間tに対する溶接電流の変化を示す図、 第2図は、パルス電流値1pおよびパルス継続時間T
を略一定値に設定しておいてベース電流値■、をパラメ
ータとして溶接電流の平均値la(横軸)とパルス周波
数f(縦軸)との関係を示す線図、 第3図は、パルス電流値ip およびパルス周波数fを
略一定値に設定しておくか、又はパルス電流値I を略
一定値に設定しておき周波数1を溶接電流の平均値Ia
と連動させておいてベース電流値lb をパラメータ
として溶接電流の平均値Ia(横軸)とパルス継続時間
T、 (縦軸)との関係を示す図、 第4図は、本発明の溶接方法において、1=450(A
)、T =1(ms)’mよび定数a = 0.5.1
又は2としたときの溶接電流の平均値Ia(横軸)とベ
ース電流値I、 (縦軸)との関係を示す線図、第5
図は、第4図と同じ条件における溶接電流の平均値Ia
(横軸)とワイヤ先端から離脱する溶滴−個の直径Dm
との関係を示す線図、第6図は、本発明の溶接方法を実
施するための装置の構成の実施例を示す図であって、ア
ーク電圧をフィードバックしてパルス周波数fを制御す
る方式を示す図、 第7蓼は、本発明の溶接方法を実施するための他の装置
の構成の実施例を示す図であって、アーク電圧をフィー
ドバックしてパルス継続時間Tpを制御する方式を示す
図、 第8図(a)および(b)は、それぞれワイヤ送給速度
に相当する信号■;を変化させてベース電流値Ibの設
定信号Sb を連続的又は段階的に変化させた場合の両
信号の関係を示す線図である。 ■i ・・・ワイヤ送給速度番こ相当する信号Ip・・
・パルス電流値、Ib・・・ベース電流値、Tp・・・
パルス継続時間、 Ia ・・・溶接電流の平均値、Ea・・・アーク電圧
に相当する信号、Eh ・・・アーク電圧設定信号、l
および2・・・溶接電源(1・・・ベース電源、2・・
・パルス電源)、11・・・ワイヤ送給速度設定回路、
14・・・ベース電流設定回路、20・・・7Nll
ルス電流卸制御回路(21a・・・I、およびT、の設
定回路、22a・・・パルス周波数制御回路、21b・
・・l、の設定回路、21 ・・・fの設定回路、2
2b・・・パルス継続時間制御回路) 代理人 弁理士 中 井 宏−I@φ) −にひ) 第8図(4) 第8図(1)) Vf’ Vl’手 続
補 正 書 (自発) 昭和56年12月28日 特許庁長官殿 1、事件の表示 特願昭 56−193135 号 2 発明の名称 パルスアーク溶接方法および溶接装置 1 補正する者 事件との関係 特許出願人 (026)大阪変圧器株式会社 生代理人 住 所 〒532大阪市淀川区田用2丁目1番11号
「図面」 6 補正の内容 別紙の通り」 「図面の浄書(内容に変更なし月
接したときの時間tに対する溶接電流の変化を示す図、 第2図は、パルス電流値1pおよびパルス継続時間T
を略一定値に設定しておいてベース電流値■、をパラメ
ータとして溶接電流の平均値la(横軸)とパルス周波
数f(縦軸)との関係を示す線図、 第3図は、パルス電流値ip およびパルス周波数fを
略一定値に設定しておくか、又はパルス電流値I を略
一定値に設定しておき周波数1を溶接電流の平均値Ia
と連動させておいてベース電流値lb をパラメータ
として溶接電流の平均値Ia(横軸)とパルス継続時間
T、 (縦軸)との関係を示す図、 第4図は、本発明の溶接方法において、1=450(A
)、T =1(ms)’mよび定数a = 0.5.1
又は2としたときの溶接電流の平均値Ia(横軸)とベ
ース電流値I、 (縦軸)との関係を示す線図、第5
図は、第4図と同じ条件における溶接電流の平均値Ia
(横軸)とワイヤ先端から離脱する溶滴−個の直径Dm
との関係を示す線図、第6図は、本発明の溶接方法を実
施するための装置の構成の実施例を示す図であって、ア
ーク電圧をフィードバックしてパルス周波数fを制御す
る方式を示す図、 第7蓼は、本発明の溶接方法を実施するための他の装置
の構成の実施例を示す図であって、アーク電圧をフィー
ドバックしてパルス継続時間Tpを制御する方式を示す
図、 第8図(a)および(b)は、それぞれワイヤ送給速度
に相当する信号■;を変化させてベース電流値Ibの設
定信号Sb を連続的又は段階的に変化させた場合の両
信号の関係を示す線図である。 ■i ・・・ワイヤ送給速度番こ相当する信号Ip・・
・パルス電流値、Ib・・・ベース電流値、Tp・・・
パルス継続時間、 Ia ・・・溶接電流の平均値、Ea・・・アーク電圧
に相当する信号、Eh ・・・アーク電圧設定信号、l
および2・・・溶接電源(1・・・ベース電源、2・・
・パルス電源)、11・・・ワイヤ送給速度設定回路、
14・・・ベース電流設定回路、20・・・7Nll
ルス電流卸制御回路(21a・・・I、およびT、の設
定回路、22a・・・パルス周波数制御回路、21b・
・・l、の設定回路、21 ・・・fの設定回路、2
2b・・・パルス継続時間制御回路) 代理人 弁理士 中 井 宏−I@φ) −にひ) 第8図(4) 第8図(1)) Vf’ Vl’手 続
補 正 書 (自発) 昭和56年12月28日 特許庁長官殿 1、事件の表示 特願昭 56−193135 号 2 発明の名称 パルスアーク溶接方法および溶接装置 1 補正する者 事件との関係 特許出願人 (026)大阪変圧器株式会社 生代理人 住 所 〒532大阪市淀川区田用2丁目1番11号
「図面」 6 補正の内容 別紙の通り」 「図面の浄書(内容に変更なし月
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、設定した略一定速度で消耗性電極を送給して溶接す
るパルスアーク溶接方法において、設定した略一定尖頭
値のパルス電流と定電流特性のベース電流・とから成る
溶接電流を消耗性電極に通電し、前記消耗性電極の送給
速度に相当する信号に対応させてベース電流値を連続的
に又は段階的に変化させるとともに、検出したアーク電
圧に相当する信号とアーク電圧設定信号とを比較してそ
の差の信号に応じて溶接電流の平均値を制御することに
よってアーク長を増減してアーク電圧を略一定値に維持
するパルスアーク溶接方法。 2 前記溶接電流の平均値を、パルス電流の周波数を変
化させることによって制御する特許請求の範囲第1項に
記載のパルスアーク溶接方法。 3、前記溶接電流の平均値を、パルス電流の継続時間を
変化させることによって制御する特許請求の範囲第1項
に記載のパルスアーク溶接方法。 4、 消耗性電極を送給して溶接するパルスアーク溶接
装置において、消耗性電極を予め設定した略一定速度で
送給するワイヤ送給装置と、設定した略一定尖頭値のパ
ルス電流および定電流特性のベース電流とを消耗性電極
に通電する溶接電源と、ア・−り電圧に相当する信号と
アーク電圧設定信号とを比較してその差の信号に応じて
パルス電流を制御するためのパルス電流制御回路と、ワ
イヤ送給速度に相当する信号に対応させてベース電流値
を設定するためのベース電流設定回路とを備えたパルス
アーク溶接装置。 5、前記パルス電流制御回路は、パルス周波数を制御す
るパルス周波数制御回路である特許請求の範囲gJ4項
に記載のパルスアーク溶接装置。 6、前記パルス電流制御回路は、パルス継続時・間を制
御するパルス継続時間制御回路である特許請求の範囲第
4項に記載のパルスアーク溶接
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP19313581A JPS5893574A (ja) | 1981-11-30 | 1981-11-30 | パルスア−ク溶接方法および溶接装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP19313581A JPS5893574A (ja) | 1981-11-30 | 1981-11-30 | パルスア−ク溶接方法および溶接装置 |
Related Child Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP21095290A Division JPH03193269A (ja) | 1990-08-08 | 1990-08-08 | パルスアーク溶接装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS5893574A true JPS5893574A (ja) | 1983-06-03 |
JPH0372385B2 JPH0372385B2 (ja) | 1991-11-18 |
Family
ID=16302852
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP19313581A Granted JPS5893574A (ja) | 1981-11-30 | 1981-11-30 | パルスア−ク溶接方法および溶接装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS5893574A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH03193269A (ja) * | 1990-08-08 | 1991-08-23 | Daihen Corp | パルスアーク溶接装置 |
US10974338B2 (en) | 2016-03-29 | 2021-04-13 | Panasonic Intellectual Property Management Co., Ltd. | Arc welding control method |
-
1981
- 1981-11-30 JP JP19313581A patent/JPS5893574A/ja active Granted
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH03193269A (ja) * | 1990-08-08 | 1991-08-23 | Daihen Corp | パルスアーク溶接装置 |
US10974338B2 (en) | 2016-03-29 | 2021-04-13 | Panasonic Intellectual Property Management Co., Ltd. | Arc welding control method |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0372385B2 (ja) | 1991-11-18 |
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