JPH0372385B2

JPH0372385B2 -

Info

Publication number: JPH0372385B2
Application number: JP19313581A
Authority: JP
Inventors: Hideyuki Yamamoto
Original assignee: Daihen Corp
Current assignee: Daihen Corp
Priority date: 1981-11-30
Filing date: 1981-11-30
Publication date: 1991-11-18
Also published as: JPS5893574A

Description

【発明の詳細な説明】本発明は消耗性電極（以下、ワイヤという）を
予め定めた略一定速度で送給して溶接するパルス
アーク溶接方法および溶接装置に関するものであ
る。

ワイヤを設定した略一定速度で送給して溶接す
るパルスアーク溶接方法は、一般に溶融したワイ
ヤ先端から離脱する溶滴を細粒化して円滑に移行
させ、かつ、アーク長を一定に維持することによ
つて、安定したアークを発生させて均一な溶接結
果を得るとともにスパツタの発生の少ない溶接物
を得ようとするものである。この場合、ワイヤが
設定した略一定速度で送給されているので、変動
するアーク長を略一定値に保つために、従来か
ら、ベース電源を定電圧特性とパルス電源を定電
流特性又は多少の傾斜を有する垂下特性とする第
１の方式と、逆にベース電源を定電流特性としパ
ルス電源を定電圧特性とする第２の方式とが広く
採用されている。しかし、両者にはそれぞれ得失
がある。そこで、アーク長が変動しても溶接電流
の変化を小さくして均一な溶接結果を得るととも
に、小電流域で溶接するためにベース電流値を小
電流に設定した場合であつてもアーク切れを生じ
ることのないようにした第３の方式が、本特許出
願人によつて提案された。この第３の方式におい
ては、パルス電流値を略一定にするとともに、ベ
ース電源を定電流特性とし、かつ検出したアーク
電圧に相当する信号とアーク電圧設定信号とを比
較してその差の信号に応じて溶接電流の平均値を
制御することによつてアーク長を増減させてアー
ク電圧を略一定値に維持するように構成されてい
る。この第３の方式を基盤として本特許出願人
は、さらに、溶接電流範囲の小電流域から大電流
域に至るまで、適正な溶接電流の設定が一元的に
行えるように検討を加えた。

ここで、パルスアーク溶接における溶接電流の
基本パラメータの関係について、時間の経過ｔに
対する溶接電流の変化を示す第１図を参照して、
つぎのとおり定義する。

I_b：ベース電流通電期間中の瞬時値（以下、ベー
ス電流値という） I_p：パルス電流通電期間中の瞬時値（以下、パル
ス電流値という） T_b：ベース電流の通電期間（以下、ベース電流
期間という） T_p：パルス電流の通電期間（以下、パルス継続
時間という）Ｔ：パルスの繰り返し周期であつてＴ＝T_b＋T_p ｆ：パルス周波数であつてｆ＝１／Ｔ溶接電流＝（ベース電流）＋（パルス電流） I_a：溶接電流の平均値 I_a＝（I_b・T_b＋I_b・T_b）／Ｔ＝ｆ・T_p（I_p−I_b）＋I_b …(1) 上記(1)式において、パルス電流値I_p、パルス継
続時間T_pおよびベース電流値I_bを一定に設定し、
さらに、アーク電圧を設定値に維持するためにア
ーク電圧をフイードバツクしてパルス周波数ｆを
増減させるように構成されている場合、I_bが一定
であるために、I_aはｆに正比例せず、特に小電流
域ではｆをかなり小さくしなければならないため
にアークが不安定になる。この小電流域でのアー
クの不安定をなくすために、I_bを比較的小さな一
定値に設定しておくと、大電流域ではｆが過大と
なり、アーク音が高く、またアーク力も強大にな
るので、溶融池の不安定現象（パツカリング）
や、気孔の発生が生じやすい欠点が生じる。ま
た、上記のように使用する溶接電流の全電流範囲
でI_bが一定値に設定されると、ｆはI_aの値によつ
て一義的に定まつてしまうために、希望する溶接
結果を得るための適切な周波数ｆを選定すること
ができない。

これらの関係について第２図を参照して説明す
る。同図の実線は、パルス電流値I_p＝450〔Ａ〕、
パルス継続時間T_p＝１〔ms〕として、ベース電
流値I_bをパラメータ（０，100，200，300および
400〔Ａ〕）としたときの溶接電流の平均値I_a〔Ａ〕
（横軸）とパルス周波数ｆ（縦軸）との関係を示す
線図である。平均値I_a〔Ａ〕は、パルス電流値I_p
〔Ａ〕とベース電流値I_b〔Ａ〕との間、すなわちI_b
＜I_a＜I_pの関係がある。したがつて、I_bが大なる
とき、例えばI_b＝400〔Ａ〕のとき、I_p＝450〔Ａ〕
に設定されているのでI_b＜I_a＜I_pは、400＜I_a＜
450となり、溶接電流の平均値I_aの可変範囲は50
〔Ａ〕であつて狭くなる。逆に、I_bが小なるとき、
例えば、I_b＝100〔Ａ〕のとき、同様に100＜I_b＜
450となり、I_aの可変範囲は350〔Ａ〕であつて広
いが、I_aが大なるとき、例えばI_a＝400〔Ａ〕なる
ときパルス周波数ｆ≒850〔Hz〕であつて過大に
なつて、前述したような欠点が生じる。

同様にして、上記(1)式において、パルス電流値
I_p、パルス周波数ｆおよびベース電流値I_bを一定
に設定し、さらに、アーク電圧をフイードバツク
してパルス継続時間T_pを増減させることにより、
アーク電圧を設定値に維持させるように構成され
ている場合においても、以下のような欠点が生じ
る。すなわち、(1)式において、I_bとｆとが一定で
あるために、T_pはI_aとともに変化する。特に小電
流域ではT_pはかなり小さくなるので１回のパル
スの力が不足するために溶滴が移行することがで
きず、スプレー移行が得られなくなる。また、小
電流域でのアークの不安定をなくすために、I_bを
小電流値の一定値に設定しておくと、大電流域で
はT_pが過大となり、１回のパルスで数個の溶滴
が移行するためアーク長が長くなりアーク力も強
大となるので、溶融池の不安定現象（パツカリン
グ）や気孔の発生が生じやすい欠点が生じる。ま
た、上記のように使用する溶接電流の全電流範囲
でI_bが一定値に設定されると、T_pはI_aの値によつ
て一義的に定まつてしまうために、希望する溶接
結果を得るための適切なパルス通電時間T_pを選
定することができない。

これらの関係について第３図を参照して説明す
る。同図の実線はパルス電流値I_p＝450〔Ａ〕、パ
ルス周波数ｆ＝200〔Hz〕として、ベース電流値
I_bをパラメータ（０，100，200，300および400
〔Ａ〕）としたときの溶接電流の平均値I_a〔Ａ〕（横
軸）とパルス継続期間T_p（縦軸）との関係を示す
線図である。平均値I_a〔Ａ〕は、パルス電流値I_p
〔Ａ〕とベース電流値I_b〔Ａ〕との間、すなわちI_b
＜I_a＜I_pの関係がある。したがつて、I_bが大なる
とき例えばI_b＝400〔Ａ〕のとき、I_pは450〔Ａ〕に
設定されているので、I_b＜I_a＜I_pは、400＜I_a＜
450となり、溶接電流の平均値I_aの可変範囲は50
〔Ａ〕であつて狭くなる。逆に、I_bが小なるとき
例えばI_b＝100〔Ａ〕のとき、同様に100＜I_a＜450
となり、I_aの可変範囲は350〔Ａ〕であつて広い
が、I_aが小なるとき、例えばI_a＝150〔Ａ〕ではT_p
＝0.7〔ms〕となりT_pは過少となり、I_aが大なる
とき例えばI_a＝400〔Ａ〕なるとき、T_p＝４〔ms〕
であつて過大になつて、前述したような欠点が生
じる。

上記のような欠点を防ぐために、パルス周波数
ｆをI_aに比例的に増加させるようにプリセツトす
る方法がある。第３図の点線は、I_p＝450〔Ａ〕一
定とし、ｆ＝ａ・I_a（ａ＝1.0Hz／Ａ）の関係を満
足する場合に、ベース電流I_bをパラメータ
（0100，200，300および400〔Ａ〕）としてI_aとT_pの
関係を示す線図である。図に見るように、この場
合I_aが大電流域では、T_pはほぼ一定となるが、小
電流ではT_pが過少となつて前述と同様の欠点点
が生じる。

以下、本発明のパルスアーク溶接方法および装
置について説明する。まず、本出願の第１の発明
は、ワイヤを予め設定した略一定速度で送給し、
設定した略一定尖頭値のパルス電流と定電流特性
のベース電流とから成る溶接電流をワイヤに通電
すること、検出したアーク電圧に相当する信号と
アーク電圧設定信号とを比較してその差の信号に
応じて溶接電流の平均値I_aを制御すること、およ
びワイヤ送給速度に相当する信号V_f′に対応させ
てベース電流値I_bを連続的又は段階的に変化させ
ることによつて、広範囲に溶接電流を変化させて
も全電流範囲にわたつて安定したアークおよび適
切なアーク力を得ることができるパルスアーク溶
接方法を提案したものである。

本出願の第２の発明は、ワイヤを予め設定した
略一定速度V_fで送給するワイヤ送給装置７と、
設定した略一定尖頭値I_pのパルス電流および定電
流特性のベース電流とをワイヤに通電する溶接電
源１および２と、アーク電圧に相当する信号E_a
とアーク電圧設定信号E_bとを比較してその差の
信号に応じてパルス電流のパルス周波数ｆ又はパ
ルス継続時間T_pを制御するためのパルス電流制
御回路２０と、ワイヤ送給速度に相当する信号
V′_fに対応させてベース電流値I_bを制御するため
のベース電流制御回路１４とを備えて、広範囲に
溶接電流を変化させても全電流範囲にわたつて安
定したアークおよび適切なアーク力を得ることが
できるパルスアーク溶接装置を提供したものであ
る。

以下、本発明の溶接方法について説明する。前
述した第２図において、溶接電流の平均値I_a（横
軸）とパルス周波数ｆ（縦軸）との関係において、
I_aの変化に対応するｆの変化を小さくし、かつI_a
が小なる範囲まで変化可能なようにすれば、I_aが
大きく変化してもｆの変化を小さくすることがで
き、I_aが小電流であつても安定したアークが得ら
れるとともに、I_aが大電流になつてもアーク力が
過大とならない。すなわち、同図において、I_aの
変化に対するｆの変化を、例えば、一点鎖線のａ
＝２、ａ＝１又はａ＝0.5とすることによつて、
I_aが大きく変化してもｆの変化を抑えることが可
能である。例えば、I_aに対するｆの関係を、同図
の一点鎖線が示すように、任意の比例定数ａで定
まる正比例関係を有するようにするためには、前
述した(1)式、すなわち I_a＝ｆ・T_p（I_p−I_b）＋I_b およびｆ＝ａ・I_a …(2) の両式を満足する式、すなわち I_b＝I_a（１−ａ・T_p・I_p）／（１−ａ・T_p・I_a） …(3) が成立することが必要である。

上記(3)式が成立する場合において、I_p＝450
〔Ａ〕、T_p＝１〔ms〕およびａ＝0.5、１又は２と
したときの溶接電流の平均値I_a〔Ａ〕（横軸）とベ
ース電流値I_b〔Ａ〕との関係を第４図に示す。同
図においては、I_aとI_bとは、(3)式においてT_pおよ
びI_pを一定にすると、 I_b＝I_a（１−ａ・K₁）／（１−ａ・K₂I_a）＝Ｆ（I_a，ａ） …(4) すなわち、I_bはI_aとａとを変数する関数Ｆで表
わされる。

また、通常、ワイヤ溶融速度Vmは、溶接電流
の平均値I_aに略比例し、他方、略一定のアーク長
を維持させるためには、ワイヤ溶融速度Vmに対
応させたワイヤ送給速度V_fでワイヤが送給され
る。したがつて、 Vm＝V_f＝K₀I_a …(5) （K₀は定数）なる関係がある。この(5)式のI_a＝V_f／K₀を後述
するワイヤ送給速度に相当する信号V_f′として(4)
式に代入すると、 I_b＝V_f′（１−ａ・K₁）／（１−ａ・K₂・V_f′）＝Ｆ（V′_f，ａ） …(6) なる関係が成立する。この(6)式は、ワイヤ送給速
度度V_f、すなわちワイヤ送給速度度設定信号
V_f1、ワイヤ送給速度検出信号V_f2等のワイヤ送給
速度に相当する信号V_f′に対応させてベース電流
値I_bを変化させる本発明のパルスアーク溶接方法
の根拠を示すものである。また、ワイヤ先端から
の溶滴の移行が、パルスに同期して行なわれると
すれば、単位時間（例えば１秒）当りに、ワイヤ
先端から離脱して移行した溶滴の総体積V_dは、
(7)式に示されるように、単位時間内に送給される
ワイヤ送給量に等しい。

V_d＝４／３π（D_n／２）³×ｆ＝π（D_f／２）²×V_f…
(7) ただし、D_nは、ワイヤ先端から移行する１個
の溶滴の直径、ｆは、単位時間内（例えば１秒）のパルス数、
すなわちパルス周波数、D_fは、送給するワイヤ
の直径V_fは、ワイヤ送給速度、を示す。(7)式より、 D_n ³＝３／２・（V_f／ｆ）・D_f ² …(7)′ なる関係が得られるが、一方、本発明の溶接方法
においては、(2)式および(5)式よりｆ＝ａ・I_a≒ａ・（V_f／K₀）（ただしK₀は定数） V_f／ｆ≒K₀／ａ …(8) (7)′および(8)式より D_n ³＝K₂・D_f ²／ａ（K₂は定数） …(9) なる関係が成立する。この(9)式は、本発明の溶接
方法の効果の一つを示すものであつて、ワイヤ先
端から移行する一個の溶滴の直径D_nが、設定し
た溶接電流の平均値I_aに無関係になり、溶接電流
値の全範囲にわたつてパルスに同期して略均一な
大きさの溶滴移行が行われるので、溶滴の粗大化
による移行時の過度的な短絡を防止して安定なア
ークが得られる。つぎに、これらの溶接電流の平
均値I_aと溶滴の直径D_nとの関係について実験に
より求めた結果を第５図に示す。同図には、直径
D_f＝1.6〔mm〕のアルミワイヤを用いて、パルス電
流値I_p＝450〔Ａ〕、パルス継続時間T_p＝１〔ms〕
とした場場合の溶接電流の平均値I_a（横軸）と溶
滴の直径D_n（縦軸）との関係が示されている。点
線の曲線I_b＝100は、従来の溶接方法のようにベ
ース電流値I_bを100〔Ａ〕の一定値に固定した場合
であつて、この場合には、溶接電流の平均値I_aの
減少に伴つて溶滴の直径D_nが増加しており、特
にI_a＝200〔Ａ〕以下では、溶滴の直径D_nが急激
に増加しているので、円滑なスプレー移行が妨げ
られる。これに対して、直線ａ＝0.5，ａ＝１お
よびａ＝２は、(9)式においてａ＝0.5、ａ＝１お
よびａ＝２とした場合の溶接電流の平均値I_aと溶
滴の直径D_nとの関係を示すもので、溶接電流の
平均値I_aのいかんにかかわらず溶滴の直径D_nは
略一定であることを示している。また、(9)式にお
いて、パルス電流値I_pおよびパルス継続時間T_pを
略一定値に設定しておいて、前述した定数ａを変
化させることによつて、溶滴の直径D_n、すなわ
ち溶滴の大きさを任意に選定することもできる。
前述した第５図において、溶接電流の平均値I_aを
300〔Ａ〕とした場合、(9)式においてａ＝0.5、ａ
＝１およびａ＝２とすると、動作点は、それぞれ
A₀，A₁およびA₂となるので、溶滴の直径D_n〔mm〕
はそれぞれ略1.6，1.3および1.0となり、ａの値を
適宜に選定することによつて、溶滴の直径D_nを
適切な値に制御することができることを示してい
る。

つぎに、本発明の溶接方法を実施するための装
置の実施例について、第６図を参照して説明す
る。同図において、１は略定電流特性を有しワイ
ヤ送給速度V_fに応じて設定した略一定のベース
電流I_bを送給するベース電源、２は設定した略一
定のパルス電流I_pを供給するパルス電源であつ
て、これら両者の溶接電源を構成する。３はベー
ス電流I_bとパルス電流I_pとが重畳された溶接電流
I_aをワイヤ４に通電する溶接トーチ内の給電チツ
プ、５は被溶接物、６はアークであつて４乃至６
が溶接負荷となる。７はワイヤ４を設定された略
一定速度V_fで送給するワイヤ送給装置、８はワ
イヤ送給装置７を制御するワイヤ送給制御回路で
ある。１１はワイヤ送給速度設定回路であつて、
ワイヤ送給速度設定信号V_f1をワイヤ送給速度制
御回路８に供給する。１２はワイヤ送給速度設定
信号V_f1、ワイヤ送給速度検出信号V_f2等のワイヤ
送給速度に相当する信号V′_fを入力として、ベー
ス電流設定信号S_bを演算するベース電流演算回路
である。この演算回路の出力信号S_bと入力信号号
V′_fとは、溶接方法の説明中で述べたようにつぎ
の関係がある。ベース電流値I_bとベース電流設定
信号S_bとは、S_b＝K₃・I_b（K₃は定数）なる関係が
あるので、(6)式より S_b＝K₃・I_b ＝K₃・V′_f（１−ａ・K₁）／（１−ａ・K₂・
V′_f） …(10) なる関係がある。しかし、実用的には、近似式、
例えば、 S_b＝K₄・Ｆ（V′_f，ａ）＝K₄・（V′_f）ⁿ …(11) （ただし、K₄，ｎは定数）で置換した式によつて演算した信号を用いてもよ
い。また、ワイヤ送給速度に相当する信号V′_fに
対して演算回路１２の出力信号S_bを段階的に変化
させても略同様の効果が得られる。第８図ａは、
上記(11)式においてｎ＝１，２および３としたとき
のV′_f（横軸）に対してS_b（縦軸）を連続的に変化
させた場合を示し、又第８図ｂは、V′_f（横軸）に
対してS_b（縦軸）を段階的に変化させるようにし
た場合を示している。

１３は、前述した(9)式において定数ａを任意に
設定することによつて溶滴の直径D_nを制御する
溶滴径制御回路である。１４は、演算回路１２の
出力信号S_bを入力としてベース電源２の出力I_bを
設定するベース電流設定回路である。２０は、パ
ルス電流制御回路であつて、パルス電流値I_pおよ
び継続時間T_pの設定回路２１ａとパルス周波数
制御回路２２ａから構成されている。２３は、ア
ーク電圧設定回路であつて、この回路に、アーク
電圧を単独に又はワイヤ送給速度に相当する信号
V′_fと連動させてアーク長を制御する。このアー
ク長は、アーク電圧に相当する信号E_aとアーク
電圧設定回路の出力信号E_bとの差の信号が周波
数制御回路２２ａに供給される。この回路２２ａ
は、アーク長が大になつてアーク電圧が大になる
と、E_a−E_bが大となり、ｆが小になるような信
号をパルス電源２に供給する。その結果、ｆが小
すなわち、I_aが小になるので、溶融速度が低下し
てアーク長が減少してアーク長が復帰する。逆
に、アーク長が小になると上記の逆の動作によつ
てアーク長が増加して復帰する。

つぎに、前記第６図の装置の動作について説明
する。被溶接物の板厚、材質、溶接姿勢等によつ
て、ワイヤの材質、直径、シールドガス成分、溶
接電流等が定まると、まず、ワイヤ供給速度設定
回路１１によつて溶接電流の平均値I_aに対応した
ワイヤ送給度度V_fが得られるようにワイヤ送給
速度設定回路１１を設定する。つぎに、パルス電
流値I_pおよびパルス継続時間T_pをパルス電流設定
回路２１ａに設定する。また、必要に応じて、溶
滴径制御回路１３によつて適正な溶滴の直径D_n
が得られるように定数ａを任意に設定する。しか
し、通常の同種類の溶接を行うときは、I_p，T_pお
よびａは固定しておいてもよい。

アーク電圧設定回路２３の設定値がワイヤ送給
速度設定回路１１の設定値と連動していない場合
には、適正なアーク電圧になるように設定する。
以上の設定後に、ベース電源１およびパルス電源
２からワイヤ４と被溶接物５に電圧を印加し、ワ
イヤ４を設定した略一定速度で送給してアーク６
を発生させて設定したベース電流値I_b、設定した
パルス電流値I_pおよび設定したパルス継続時間T_p
で溶接を続行する。溶接中のアーク長の変動に対
しては、前述したように、パルス周波数ｆを制御
してアーク長を略一定値になるように維持させて
いる。

第７図は、本発明の溶接装置の構成の他の実施
例を示す図である。第６図の実施例では、パルス
電流値I_pとパルス電流継続時間T_pとを設定回路２
１ａによつて設定し、アーク長が略一定値になる
ように、パルス周波数ｆをパルス周波数制御回路
２２ａによつて制御するようにしていたのに対し
て、第７図の実施例では、I_pとｆとを各々の設定
回路２１ａおよび２１ｃによつて設定し、さらに
アーク長が略一定になるようにパルス継続時間
T_pをパルス継続時間制御回路２２ｂによつて制
御するようにしたものである。したがつて、溶接
中にアーク長が大きくなり過ぎると、回路２２ｂ
は、パルス継続時間T_pが小になるような信号を
パルス電源２に供給し、その結果、溶接電流の平
均値I_aが小になり、ワイヤ溶融速度が低下してア
ーク長が減少して復帰する。アーク長が小さくな
り過ぎると、上記の逆の動作によつてアーク長が
増加して復帰する。この第７図の実施例におい
て、設定回路２１ｃによつて設定するパルス周波
数ｆを、この回路２１ｃによつて単独に設定して
もよいし、またワイヤ送給速度設定回路１１、溶
滴径制御回路１３またはこれら両者の設定値と連
動させて一元制御してもよい。

以上のように、本発明の溶接方法または溶接装
置においては、ワイヤを予め設定した略一定速度
で送給し、設定した略一定尖頭値のパルス電流と
定電流特性のベース電流とが用いられているの
で、アーク長の変動に対して溶接電流の変化が小
さく、溶接結果が均一になるという従来の効果に
加えて、溶接電流値I_aに対応するワイヤ送給速度
V_fに対応させてベース電流値I_bをも連続的に又は
段階的に変化させているので、ワイヤ送給速度度
V_fに対応させてパルス周波数ｆ又はパルス継続
時間T_pを大きく変化させる必要がない。したが
つて、本発明の溶接方法では、小電流でも使用で
きるように、小電流域でベース電流値を小さく設
定しておいても、大電流では、ワイヤ送給速度の
増加に伴なつてベース電流値I_bが大きくなるの
で、パルス周波数ｆ又はパルス継続時間T_pが過
大となることがなく、したがつて、アーク力が強
大となつて溶融池に不安定現象を発生させること
がなく、広範囲にわたつて安定したアークおよび
適切なアーク力が得られる。また、本発明の溶接
方法または溶接装置においては、広範囲の溶接電
流にわたつて溶滴の直径を略均一にすることがで
きると共に、必要に応じて、溶滴の直径を適正値
に選定することもできる。さらに、本発明の溶接
方法または溶接接装置においては、被溶接物によ
つて定まる溶接電流が適正値になるようにワイヤ
送給速度を設定するだけで、広範囲の溶接電流に
対して、ベース電流値およびパルス電流の各条件
を個々に設定する必要がないので、溶接作業が容
易となり、信頼性および再現性も向上する。

【図面の簡単な説明】

第１図は、消耗性電極パルスアーク溶接方法に
よつて溶接したときの時間ｔに対する溶接電流の
変化を示す図、第２図は、パルス電流値I_pおよび
パルス継続時間T_pを略一定値に設定しておいて
ベース電流値I_pをパラメータとして溶接電流の平
均値I_a（横軸）とパルス周波数ｆ（縦軸）との関係
を示す線図、第３図は、パルス電流値I_pおよびパ
ルス周波数ｆを略一定値に設定しておくか、又は
パルス電流値I_pを略一定値に設定しておき周波数
ｆを溶接電流の平均値I_aと連動させておいてベー
ス電流値I_bをパラメータとして溶接電流の平均値
I_a（横軸）とパルス継続時間T_p（縦軸）との関係を
示す図、第４図は、本発明の溶接方法において、
I_p＝450〔Ａ〕、T_p＝１〔ms〕および定数ａ＝0.5、
１又は２としたときの溶接電流の平均値I_a（横軸）
とベース電流値I_p（縦軸）との関係を示す線図、
第５図は、第４図と同じ条件における溶接電流の
平均値I_a（横軸）とワイヤ先端から離脱する溶滴
一個の直径D_nとの関係を示す線図、第６図は、
本発明の溶接方法を実施するための装置の構成の
実施例を示す図であつて、アーク電圧をフイード
バツクしてパルス周波数ｆを制御する方式を示す
図、第７図は、本発明の溶接方法を実施するため
の他の装置の構成の実施例を示す図であつて、ア
ーク電圧をフイードバツクしてパルス継続時間
T_pを制御する方式を示す図、第８図ａおよびｂ
は、それぞれワイヤ送給速度に相当する信号V′_f
を変化させてベース電流値I_bの設定信号S_bを連続
的又は段階的に変化させた場合の両信号の関係を
示す線図である。 V′_f……ワイヤ送給速度に相当する信号、I_p…
…パルス電流値、I_b……ベース電流値、T_p……パ
ルス継続時間、I_a……溶接電流の平均値、E_a……
アーク電圧に相当する信号、E_b……アーク電圧
設定信号、１および２……溶接電源（１……ベー
ス電源、２……パルス電源）、１１……ワイヤ送
給速度設定回路、１４……ベース電流設定回路、
２０……パルス電流制御回路，２１ａ……I_pおよ
びT_pの設定回路、２２ａ……パルス周波数制御
回路、２１_b……I_pの設定回路、２１ｃ……ｆの
設定回路、２２ｂ……パルス継続時間制御回路。

Claims

【特許請求の範囲】１設定した一定速度で消耗性電極を送給して溶
接するパルスアーク溶接方法において、設定した
一定尖頭値のパルス電流と定電流特性のベース電
流とから成る溶接電流を消耗性電極に通電し、前
記消耗性電極の送給速度に相当する信号に対応さ
せてベース電流値を連続的に又は段階的に変化さ
せるとともに、検出したアーク電圧に相当する信
号とアーク電圧設定信号とを比較してその差の信
号に応じてパルス電流の周波数または継続時間を
制御することによつて溶接電流の全範囲にわたつ
てパルスに同期して均一な大きさの溶滴移行を行
わせるパルスアーク溶接方法。２消耗性電極を送給して溶接するパルスアーク
溶接装置において、消耗性電極を予め設定した一
定速度で送給するワイヤ送給装置と、アーク電圧
に相当する信号とアーク電圧設定信号とを比較し
てその差の信号に応じてパルス周波数またはパル
ス継続時間を制御するパルス電流制御回路と、ワ
イヤ送給速度の相当する信号に対応させてベース
電流値を設定するベース電流設定回路と、前記パ
ルス電流制御回路の出力信号を入力して一定尖頭
値のパルス電流を消耗性電極に通電するパルス電
源と、前記ベース電流設定回路の出力信号を入力
として定電流特性のベース電流を消耗性電極に通
電するベース電源とを備えたパルスアーク溶接装
置。