JPS589101A - 反射鏡の製造方法 - Google Patents
反射鏡の製造方法Info
- Publication number
- JPS589101A JPS589101A JP10779981A JP10779981A JPS589101A JP S589101 A JPS589101 A JP S589101A JP 10779981 A JP10779981 A JP 10779981A JP 10779981 A JP10779981 A JP 10779981A JP S589101 A JPS589101 A JP S589101A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- film
- reflecting mirror
- base material
- manufacturing
- substrate
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/08—Mirrors
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Optical Elements Other Than Lenses (AREA)
- Mechanical Optical Scanning Systems (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は反射鏡の製造方法に関するものであり、特に画
像読取装置等に用いられる回転多面鏡の製造に適した反
射鏡の製造方法に関するものである。
像読取装置等に用いられる回転多面鏡の製造に適した反
射鏡の製造方法に関するものである。
画像読取装置等に使用される回転多面鏡は、その鏡面が
精度°よ〈仕上げられていることが必要であることは勿
論、高速で回転するために高度の耐久性が要求される。
精度°よ〈仕上げられていることが必要であることは勿
論、高速で回転するために高度の耐久性が要求される。
かかる回転多面鏡の従来の製造工程の例が第１図に示さ
れている。第１図において、アルミニウム又はアルミニ
ウム合金でなる基材１は旋削工程２、及びフライス切削
工程３によって所望の形状に加工され、熱処理工程４で
熱処理され、これ・にメッキ、工程５においてクロム又
はニッケルメッキ □が施される。次に、側面研削
゛６、側面ラップ７、平行度及び平面度検査８、反射面
研削９、面精度及び角度精度検査ｌＯ１研磨による鏡面
仕上１１、面精度及び角度精度検査１２、修正１３の各
機械加工及び砥粒加工工程を経たのち、Ａｔ蒸着工程１
４において上記鍾面仕上面に反射膜が形成され、反射率
検査工程１５において反射率がチェックされ、ＳｉＯ蒸
着工程１６においてＳｉＯ保護膜が形成され、反射率検
査工程１７を経、さらに総合検査工程１８を経るととＫ
よって完成品１９となる。
れている。第１図において、アルミニウム又はアルミニ
ウム合金でなる基材１は旋削工程２、及びフライス切削
工程３によって所望の形状に加工され、熱処理工程４で
熱処理され、これ・にメッキ、工程５においてクロム又
はニッケルメッキ □が施される。次に、側面研削
゛６、側面ラップ７、平行度及び平面度検査８、反射面
研削９、面精度及び角度精度検査ｌＯ１研磨による鏡面
仕上１１、面精度及び角度精度検査１２、修正１３の各
機械加工及び砥粒加工工程を経たのち、Ａｔ蒸着工程１
４において上記鍾面仕上面に反射膜が形成され、反射率
検査工程１５において反射率がチェックされ、ＳｉＯ蒸
着工程１６においてＳｉＯ保護膜が形成され、反射率検
査工程１７を経、さらに総合検査工程１８を経るととＫ
よって完成品１９となる。
上記の説明で明らかな通り、従来の反射鏡の製造方法に
よれば、工稈数が多いばかシでなく、精度ないしは品質
に対して相反する工程が存在している。即ち、ブランク
製作工程では寸法及び角度等の精度は無理なく出すこと
が、できるが、面精度を出すのに限界がある。また、砥
粒加工工程では’ｔ、＃￥ｒ−９１０： 鏡面仕上げは簡単であるが、寸法及び角度等の精度は出
しにくい。そのため、工程数が多く複雑となり、各工程
ともに熟練を要し、よって製造コストが嵩んで高価とな
シ、この種の反射鏡の普及を妨げているのが現状である
。
よれば、工稈数が多いばかシでなく、精度ないしは品質
に対して相反する工程が存在している。即ち、ブランク
製作工程では寸法及び角度等の精度は無理なく出すこと
が、できるが、面精度を出すのに限界がある。また、砥
粒加工工程では’ｔ、＃￥ｒ−９１０： 鏡面仕上げは簡単であるが、寸法及び角度等の精度は出
しにくい。そのため、工程数が多く複雑となり、各工程
ともに熟練を要し、よって製造コストが嵩んで高価とな
シ、この種の反射鏡の普及を妨げているのが現状である
。
また、上記の欠点を補うために各種の加工機械が考案さ
れているが、まだ高価なものばかシで、この種反射鏡の
生産コストを低減するまでには至っていない。
れているが、まだ高価なものばかシで、この種反射鏡の
生産コストを低減するまでには至っていない。
本発明の目的は、熟練を要せずして、かつ、少ない工程
数で反射鏡を製造することができ、もって反射鏡の製造
コストの低減を図ることができる反射鏡の製造方法を提
供することにある。
数で反射鏡を製造することができ、もって反射鏡の製造
コストの低減を図ることができる反射鏡の製造方法を提
供することにある。
以下、第２図乃至第５図を参照しながら本発明を説明す
る。
る。
本発明の反射鏡の製造方法では、まず、第１図及び第２
図に示されているように、基材１としてアルミニウム又
はアルミニウム合金を用い、これを旋盤加工、フライス
加工等によって正１２角形の板状に加工する。また、中
心部に軸孔２２を形成する。周囲の１２面は反射面２３
をなす。次に、上記基材２１の表面に、ウェットコーテ
ィング法によって第４図に示されているように珪酸皮膜
２４を付着させて平滑な面とする。珪酸皮膜２４は透明
なガラス状を呈している。・そしてさらにその上に真空
蒸着法によって反射膜２５及び保護膜２６を形成して完
成品とする。
図に示されているように、基材１としてアルミニウム又
はアルミニウム合金を用い、これを旋盤加工、フライス
加工等によって正１２角形の板状に加工する。また、中
心部に軸孔２２を形成する。周囲の１２面は反射面２３
をなす。次に、上記基材２１の表面に、ウェットコーテ
ィング法によって第４図に示されているように珪酸皮膜
２４を付着させて平滑な面とする。珪酸皮膜２４は透明
なガラス状を呈している。・そしてさらにその上に真空
蒸着法によって反射膜２５及び保護膜２６を形成して完
成品とする。
基材１け一般には前述のようなアルミニウム又はアルミ
ニウム合金が考えられるが、そのほかの金属材料を用い
ても差し支えない。ブランク製作工程では、表面粗さ０
．１μｍ程度に仕上げれば充分で、そのためには前述の
ように旋盤加工工程と７ライス切削工程だけで充分であ
る。因に表面粗さを０．１μｍ程度に仕上げるには、ダ
イヤモンドバイトを用いればよい。上記のように、ブラ
ンク製作工程での基材の表面粗さが０．１μｍ程度であ
ったとしても、基材２１を珪酸塩溶液中に浸漬し、かつ
これを引き上げることによって行なわれる前述の皮膜形
成工程を経ることによシ、第５図に示されているように
、切削によって形成された基材２１の凹部が珪酸塩溶液
の表面張力により埋められて珪酸皮膜２４が形成され、
表面粗さが０．０１μｍ程度となり、面精度がきわめて
良好なものとなる。従って、そのあとは特別の加工を施
すことなく直接反射膜を形成すればよいことになる。珪
酸皮膜２４ｏ′主成分は５ｉｏｔであり、かつ、非結晶
そあるため、反射膜２５及び保護膜２６の作製は一般の
反射−の場合と同様に、真空蒸着法で充分である。
ニウム合金が考えられるが、そのほかの金属材料を用い
ても差し支えない。ブランク製作工程では、表面粗さ０
．１μｍ程度に仕上げれば充分で、そのためには前述の
ように旋盤加工工程と７ライス切削工程だけで充分であ
る。因に表面粗さを０．１μｍ程度に仕上げるには、ダ
イヤモンドバイトを用いればよい。上記のように、ブラ
ンク製作工程での基材の表面粗さが０．１μｍ程度であ
ったとしても、基材２１を珪酸塩溶液中に浸漬し、かつ
これを引き上げることによって行なわれる前述の皮膜形
成工程を経ることによシ、第５図に示されているように
、切削によって形成された基材２１の凹部が珪酸塩溶液
の表面張力により埋められて珪酸皮膜２４が形成され、
表面粗さが０．０１μｍ程度となり、面精度がきわめて
良好なものとなる。従って、そのあとは特別の加工を施
すことなく直接反射膜を形成すればよいことになる。珪
酸皮膜２４ｏ′主成分は５ｉｏｔであり、かつ、非結晶
そあるため、反射膜２５及び保護膜２６の作製は一般の
反射−の場合と同様に、真空蒸着法で充分である。
このように、本発明によれば、ブランク製作工程の後に
ウェットコーティングによる珪酸皮膜形成工程を設けた
から、ブランク製作時における基材の表面粗さが比較的
粗いものであっても、珪酸皮膜の形成によって表面粗さ
をきわめて良好なものとすることができ、この上に直接
反射膜等を形成することができるから、製造工程を簡略
化することができると共に、各工程は精度を出すための
さほど厳格な作業を要求されないから熟練を必要とせず
、よって、精度の良い反射鏡を安価に提供することがで
きる。
ウェットコーティングによる珪酸皮膜形成工程を設けた
から、ブランク製作時における基材の表面粗さが比較的
粗いものであっても、珪酸皮膜の形成によって表面粗さ
をきわめて良好なものとすることができ、この上に直接
反射膜等を形成することができるから、製造工程を簡略
化することができると共に、各工程は精度を出すための
さほど厳格な作業を要求されないから熟練を必要とせず
、よって、精度の良い反射鏡を安価に提供することがで
きる。
第１図は従来の反射鏡の製奈方法の例を示す工程図、第
２図は本発明によって製造される反射鏡の例を示す正面
図、第３図は同上側面図、第４図は同上反射鏡の表面部
の拡大断面図、第５図は皮膜形成工程終了後の基材の表
面部を示す拡大断面図である。 ２１・・・基材、２２・・・軸孔、２３・・・反射面、
２４・・・珪酸皮膜、２５・・・反射膜、２６・・・保
護膜。
２図は本発明によって製造される反射鏡の例を示す正面
図、第３図は同上側面図、第４図は同上反射鏡の表面部
の拡大断面図、第５図は皮膜形成工程終了後の基材の表
面部を示す拡大断面図である。 ２１・・・基材、２２・・・軸孔、２３・・・反射面、
２４・・・珪酸皮膜、２５・・・反射膜、２６・・・保
護膜。
Claims (1)
- ｌ、 アルミニウム又はアルミニウム合金等の基材の表
面に機械切削を施して平滑な切削面を形成する切削工程
と、上記切削面に、ウェットコーティングによってガラ
ス状の珪酸皮膜を形成する皮膜形成工程とを有し、上記
皮膜形成工程により基材表面の鏡面性を向上せしめるこ
とを特徴とする反射鏡の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10779981A JPS589101A (ja) | 1981-07-10 | 1981-07-10 | 反射鏡の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10779981A JPS589101A (ja) | 1981-07-10 | 1981-07-10 | 反射鏡の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS589101A true JPS589101A (ja) | 1983-01-19 |
Family
ID=14468320
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10779981A Pending JPS589101A (ja) | 1981-07-10 | 1981-07-10 | 反射鏡の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS589101A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61132920A (ja) * | 1984-12-01 | 1986-06-20 | Ricoh Co Ltd | 光偏向器 |
| JP2019116400A (ja) * | 2017-12-27 | 2019-07-18 | 富士通株式会社 | 筐体、電子機器及び筐体の製造方法 |
-
1981
- 1981-07-10 JP JP10779981A patent/JPS589101A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61132920A (ja) * | 1984-12-01 | 1986-06-20 | Ricoh Co Ltd | 光偏向器 |
| JPH071346B2 (ja) * | 1984-12-01 | 1995-01-11 | 株式会社リコー | 光偏向器 |
| JP2019116400A (ja) * | 2017-12-27 | 2019-07-18 | 富士通株式会社 | 筐体、電子機器及び筐体の製造方法 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| TWI462170B (zh) | Silicon wafer wiping device and silicon wafer manufacturing method and by etching silicon wafer | |
| EP1597614B1 (en) | High precision mirror, and a method of making it | |
| JP7253571B2 (ja) | 複合光学ミラーのミラー支持体およびその製造方法 | |
| JPS589101A (ja) | 反射鏡の製造方法 | |
| US4327606A (en) | Method of making a master replicating tool | |
| JP7035777B2 (ja) | 半導体用基板およびその製造方法 | |
| Suzuki et al. | Ultraprecision fabrication of glass ceramic aspherical mirrors by ELID-grinding with a nano-level positioning hydrostatic drive system | |
| JP2956109B2 (ja) | 精密金型の製造方法 | |
| JP2001310330A (ja) | 金型及びその成形品 | |
| JPS58132701A (ja) | 多面鏡の製造方法 | |
| JPS6126768A (ja) | 光学装置の反射鏡 | |
| JPH0798856A (ja) | 磁気ディスク用基板の製造方法 | |
| JP2727108B2 (ja) | レーザビーム走査用ポリゴンミラー | |
| JPH0895233A (ja) | フォトマスク用サファイヤ基板の製造方法 | |
| JP2671000B2 (ja) | アルミニウム合金ディスクブランクとその研削方法 | |
| Shore | Assessment of the precision and cost effectiveness of direct machining hybrid type optical surfaces for IR applications | |
| JPS57188675A (en) | Production of reflecting mirror | |
| JPS58202702A (ja) | 金属鏡面加工方法 | |
| JPH07262554A (ja) | 磁気ディスク基板の製造方法 | |
| JPH03154761A (ja) | 研磨工具 | |
| JPS6159414A (ja) | 回転多面鏡及びその製造方法 | |
| JPH0511104A (ja) | ポリゴンミラー | |
| JPH01166005A (ja) | 金属反射鏡の製造方法 | |
| JPS58114001A (ja) | 高精度反射鏡の製造方法 | |
| JPS62224565A (ja) | ダイヤモンドの研磨方法 |