JPS589069B2 - セラミツク組成物の製造方法 - Google Patents

セラミツク組成物の製造方法

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JPS589069B2
JPS589069B2 JP49085298A JP8529874A JPS589069B2 JP S589069 B2 JPS589069 B2 JP S589069B2 JP 49085298 A JP49085298 A JP 49085298A JP 8529874 A JP8529874 A JP 8529874A JP S589069 B2 JPS589069 B2 JP S589069B2
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JP
Japan
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powder
ceramic composition
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whitebait
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JP49085298A
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JPS5113818A (ja
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曳野禎
三小田真彬
小川誠
早川茂
多木宏光
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Panasonic Holdings Corp
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Matsushita Electric Industrial Co Ltd
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  • Inorganic Insulating Materials (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 本発明はセラミック組成物、特に耐熱性がよく、熱膨張
係数が小さく、高周波損失の良好なセラミック組成物の
製造方法に関するものである。
従来からセラミック材料として、BeOやAl203な
どが知られている。
これらの材料は、毒性があったり、あるいは高価であっ
たりして、その用途が限られている。
近年になって、高周波電子部品用として、さらに集積回
路セラミック基板用としてBeOやAl203以外に、
フオルステライトやステアタイトなどの材料が使用され
るようになった。
ところが、これらはその種類によって一長一短があり、
特に耐熱性に問題があった。
本発明は、上記のような問題点の解消されたセラミック
組成物を得ることのできる製造方法を提案するもので、
熱膨張係数が小さく、耐熱性にすぐれ、絶縁抵抗値が大
きく、高周波領域における誘電工接が小さく、かつ軽量
で安価な電子部品用のセラミック組成物を提供すること
ができ、出発材料の主成分の一部にシラスを使用するこ
とを特徴とする。
シラスは南九州を中心に広く分布している酸性の火山噴
出物の一種であり、この人山灰質の灰白色堆積物の推定
埋蔵量は約6X10l0トンときわめて大量である。
シラスの化学成分は一般的に重量百分率でSs02約7
5係、Al203約14係、Na20約3係、K20約
2係、CaO約15係、Fe203約1係および水分約
3.5係である。
現在のところ、シラスの利用法としては、中空微小球体
(バルーン)、研磨材、タイルなどがあり、さらにその
応用範囲が研究されている。
発明者らは比較的安価で埋蔵量の豊富なシラスを電子部
品材料として使用することについて研究を進めた結果、
シラスに特定の無機化合物と金属酸化物を添加して焼成
すると、耐熱性と絶縁性にいちじるしくすぐれたセラミ
ック組成物の得られることが明らかになった。
本発明はこの結果にもとづくものである。
すなわち、本発明にかかるセラミック組成物の製造方法
は、シラス粉末64〜98重量係、フライアツシュ粉末
1〜12重量係およびCaSiOa粉末1〜24重量係
を含む混合粉末を焼成することを特徴としている。
出発材料の組成範囲を限定した理由は次のとおりである
出発材料においてシラス粉末が98重量係をこえると、
焼成温度がいちじるしく低下してガラス化しやすくなり
、緻密で良好なセラミック素体を得ることができなくな
る。
またそれが64重量係より少なくなると、耐熱衝撃性(
約500℃の温度から急冷)がいちじるしく低下してし
まう。
フライアッシュ粉末が12重量係より多いと、熱膨張係
数が大きくさらに緻密なセラミック素体が得られにくく
なる。
また1重量係より少ないと、高周波での誘電圧接が少さ
くなり、また耐熱特性がいちじるしく悪くなる。
CaSi03成分については、それが24重量係より多
くなると熱膨張係数が大きくなり、耐熱特性も劣化する
1重量係より少なくなると、高周波での誘電正接が大き
くなり、好ましくない,ここでCaSiO3成分は単一
固溶体を使用することによってセラミック素体の焼結性
がよくなり、絶縁抵抗が高くなるとともに、誘電率が小
さくなる。
さらに高周波での誘電正接が大きくなる。上記組成範囲
内で出発原料の成分比を変化させることによって、希望
するセラミック素体を得ることができる。
なお、シラスおよびフライアッシュは、性質上その組成
がある程度変動するが、出発原料の成分比が上記組成範
囲内であれは得られるセラミック組成物の性質はほとん
ど変化しない。
以下、本発明にかかるセラミック組成物の製造方法につ
いて実施例を用いて詳述する。
まず、シラスを水ひによって選別し、粒度1〜3μ前後
の粉末を準備するとともに、フライアツシュ粉末、Ca
CO3とSiO2の粉末を準備した。
そしてCaCO3とSi02を等モル調合し、1150
Cの温度で2時間仮焼成した。
この仮焼成を終えてから粉砕し、CaStO3の粉末を
作った。
なお、CaSiO3成分はX線回折によって単一固溶体
であることを確認した。
このようにして得たシラス粉末とCaSt03粉末をフ
ライアツシュ粉末とともに下表の組成比率になるよう、
ウレタン内張ポットミルを用いて湿式混合した。
この調合物を1050℃の温度で仮焼した。
それから粉砕し、得られた粉末を約700〜IO00k
g/crlの圧力で直径40mm,厚さ2llの円板状
に加圧成型した。
この成型体をSiC発熱体を使用した電気炉を用い、温
度上昇速度150℃/時、温度950〜1200℃、保
持時間2時間の条件で本焼成した。
得られたセラミック素体に銀電極を焼きつけて試料とし
、それぞれについて電気的特性を測定した。
その結果を次表に示す。
なお、表の誘電率εと誘電正接(tanδ)の値は周波
数IMHzで測定した。
熱膨張係数は巾3mm、長さ20mmの角棒状の試料を
用いて、温度30〜500℃で測定した。
絶縁抵抗は温度20C、直流印加電圧500Vの条件で
測定した。
また耐熱性は、焼結素体を温度400℃の溶融はんだに
浸漬し、それから取り出し、室温に保たれた水中に投入
した時の割れ状態を調べた。
ここで、はんだ槽中に浸漬したときに破損したものも含
めて表わしており、表中でたとえば3/10とは10個
の試料について試験したところ、そのうちの3個が破損
したことを示している。
上記表から明らかなように、本発明の方法によるセラミ
ック組成物は、比較例に比べて熱膨張係数や誘電正接が
小さく、また絶縁抵抗値が大きく、耐熱性にいちじるし
くすぐれている。
さらに絶縁耐力がいちじるしく良好である。
特に試料8は誘電正接が周波数IMHzで8、5X10
−4と、また熱膨張係数が28.4X10−7/Cと小
さい。
そして耐熱性試験においても破損するものがなくすぐれ
た性質を示す。
また絶縁耐力も高いものであった。
さらに、本発明の方法により得られるセラミック組成物
は再現性がよく、軽量にして安価であることからも電子
部品用としてすぐれたものである。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1 シラス粉末64〜98重量係、フライアツシュ粉末
    1〜12重量部およびCaSiO3粉末1〜24重量部
    を含む混合粉末を焼成することを特徴とするセラミック
    組成物の製造方法。
JP49085298A 1974-07-24 1974-07-24 セラミツク組成物の製造方法 Expired JPS589069B2 (ja)

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JPS5113818A JPS5113818A (ja) 1976-02-03
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