JPS5889966A - 塗布装置 - Google Patents
塗布装置Info
- Publication number
- JPS5889966A JPS5889966A JP18704681A JP18704681A JPS5889966A JP S5889966 A JPS5889966 A JP S5889966A JP 18704681 A JP18704681 A JP 18704681A JP 18704681 A JP18704681 A JP 18704681A JP S5889966 A JPS5889966 A JP S5889966A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- spinner
- nozzle
- cup
- coating
- photoresist
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05C—APPARATUS FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05C11/00—Component parts, details or accessories not specifically provided for in groups B05C1/00 - B05C9/00
- B05C11/02—Apparatus for spreading or distributing liquids or other fluent materials already applied to a surface ; Controlling means therefor; Control of the thickness of a coating by spreading or distributing liquids or other fluent materials already applied to the coated surface
- B05C11/08—Spreading liquid or other fluent material by manipulating the work, e.g. tilting
Landscapes
- Coating Apparatus (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発鴫ｒｉ皇布装置に関する。
半導体装置の製造ニーの一つく、ウニへと呼ぶ牛専体博
軟の、主面に７オトレジストｔｍ布する１柳がめる。こ
の重布工程では従来第１図に示すようなｌ１１］Ｔｏ装
倉が用いられている。この金布！１１は上カップｌと下
カップ２とによって形作った密閉した勤布璽３の中央に
中エバ４１上由に真空吸着して回転する円像状のスピン
ナ５が配設されている。このスピンナ５Ｆｉ下面管下カ
ップ２ｔ−貫通して同転−に連結される（口）転軸６で
支えられている。
軟の、主面に７オトレジストｔｍ布する１柳がめる。こ
の重布工程では従来第１図に示すようなｌ１１］Ｔｏ装
倉が用いられている。この金布！１１は上カップｌと下
カップ２とによって形作った密閉した勤布璽３の中央に
中エバ４１上由に真空吸着して回転する円像状のスピン
ナ５が配設されている。このスピンナ５Ｆｉ下面管下カ
ップ２ｔ−貫通して同転−に連結される（口）転軸６で
支えられている。
スピンナ５０−転中心に対応する上カップ１の天井部に
は塗布１１１７會スピンナ５上のり工へＨＣ滴下するノ
ズル８が配設されている。ノズル８はタンク９内の塗布
［１７ｇｒ１（ロ）に数ＣＣゆ工へ番に滴下するように
なっている。温布ｍａｔ形作る上カップｌは固定構造と
なっているが、下カップ２は移動榊造となって下峰し、
スピンナ５へのウェハ４の搬出入を行なうようになって
いる。１危、下カップ２の［Ｋは＊＊ＶｔＯが接続され
るとともに。
は塗布１１１７會スピンナ５上のり工へＨＣ滴下するノ
ズル８が配設されている。ノズル８はタンク９内の塗布
［１７ｇｒ１（ロ）に数ＣＣゆ工へ番に滴下するように
なっている。温布ｍａｔ形作る上カップｌは固定構造と
なっているが、下カップ２は移動榊造となって下峰し、
スピンナ５へのウェハ４の搬出入を行なうようになって
いる。１危、下カップ２の［Ｋは＊＊ＶｔＯが接続され
るとともに。
この＃液１ｉ１０のＴｍには排液タンク１１の案内管１
２が！ｍ勧町鉗に僚會している。
２が！ｍ勧町鉗に僚會している。
このような画布装置では、スピンナ５上にウニへ４ｔ−
板層保憎した壷に、下カップ２を上昇嘔せて密閉し皮脂
布ｍ３に形作り、スピンナ５を馬連で回転ａせなからノ
ズル８〃・ら１布ｆ＆７【ウェハ県上ＶＣ滴下芒せ、ス
ピンナ５０回転音利用してウニ・・４上に塗布１１１１
−均一に塗布する。
板層保憎した壷に、下カップ２を上昇嘔せて密閉し皮脂
布ｍ３に形作り、スピンナ５を馬連で回転ａせなからノ
ズル８〃・ら１布ｆ＆７【ウェハ県上ＶＣ滴下芒せ、ス
ピンナ５０回転音利用してウニ・・４上に塗布１１１１
−均一に塗布する。
しかし、このような塗布装置ではつぎのような欠点があ
る。
る。
（１）、ノズル８からの塗布液７の滴下の間隔が数十分
にも及ぶと、ノズル８の先端の塗布液が乾燥して硬化す
るため滴下口が細くなり１次の滴下時の滴下量が少なく
なったりして均一な塗布が不可能になったり、Ｔｏるい
は塗布液の硬化物が％Ｆしてウニ八番上に付着したりす
る。硬化物は異物となり１ｍｍ液液おるフォトレジスト
の境儂時に脱賂するため、ピンホールが発生してしまい
、その後のウェハ処理工柳における製品不良の原因とな
る。
にも及ぶと、ノズル８の先端の塗布液が乾燥して硬化す
るため滴下口が細くなり１次の滴下時の滴下量が少なく
なったりして均一な塗布が不可能になったり、Ｔｏるい
は塗布液の硬化物が％Ｆしてウニ八番上に付着したりす
る。硬化物は異物となり１ｍｍ液液おるフォトレジスト
の境儂時に脱賂するため、ピンホールが発生してしまい
、その後のウェハ処理工柳における製品不良の原因とな
る。
（２）、スピンナ５０回転によって飛散し次フォトレジ
スト７はカップの内饋に当たって跳ね返り。
スト７はカップの内饋に当たって跳ね返り。
栴び９エム番上に付着するため、塗布液層の均一化が困
峻となる。
峻となる。
（３）、 飛散したフォトレジスト７はカップの内−に
付着して硬化する。この硬化したフオトレジスに乗って
栴びウエノＳ４に付着することもおり、前述のような製
品不良の原因となる。また、フォトレジスト７１：を図
で示すようＫ、排液管１０および案内管１２の内−ｒｋ
ＵＫも付着するため、下カップ、２の下降が行なえなく
なり１作業を停止して付着したフォトレジストの除去作
業を行なうＩＪｌ！費も生じ、稼動率が低くなる。
付着して硬化する。この硬化したフオトレジスに乗って
栴びウエノＳ４に付着することもおり、前述のような製
品不良の原因となる。また、フォトレジスト７１：を図
で示すようＫ、排液管１０および案内管１２の内−ｒｋ
ＵＫも付着するため、下カップ、２の下降が行なえなく
なり１作業を停止して付着したフォトレジストの除去作
業を行なうＩＪｌ！費も生じ、稼動率が低くなる。
したがって１本発明の目的は、均一な塗布が行なえる６
布鉄ｌＩｔ提供することＫめる。
布鉄ｌＩｔ提供することＫめる。
１次、本発明の池の目的Ｆｉ硬化した塗布物の付着の防
止ｋｍることＫるる。
止ｋｍることＫるる。
このような目的を達成するために本発明は、普ｍ布Ｗｔ
上向に真空散着して回転するスピンナと。
上向に真空散着して回転するスピンナと。
このスピンナの真上に配設されスピンナ上に塗布１ｌＦ
ｔｌｌｉｌＩ下するノズルと、ノズルを支持するとと−
にスピンナの上方を藝う上カップと、紡Ｉじスピンナの
回転軸に摺動自在に一縫されるとともに前記上カップに
対地して配設され上昇して上カップと縫わ場ってａ閉し
７を働願呈を形作る下カップと、會有する塗布装置にお
いて、前記ノズルは二重管とし、内管は塗布液ｔＭ＋下
し、外管はノズル先端洗浄時に有機溶剤ｔ、 ｔａｔの
時間叫気体ケ噴射するように構成するとともに、下カツ
プ内向にはスピンナが通過できる孔管中央に有し底部に
Ｆｉ塗布液を収容する溜部を設けた着脱自在のカートリ
ッジ受皿會取り付けてなるものである。また、カートリ
ッジ受皿には塗布液の跳９返りｔ ｍ１ｌｌ止するブレ
ードが多数内周壁に設けられてなるものである。
ｔｌｌｉｌＩ下するノズルと、ノズルを支持するとと−
にスピンナの上方を藝う上カップと、紡Ｉじスピンナの
回転軸に摺動自在に一縫されるとともに前記上カップに
対地して配設され上昇して上カップと縫わ場ってａ閉し
７を働願呈を形作る下カップと、會有する塗布装置にお
いて、前記ノズルは二重管とし、内管は塗布液ｔＭ＋下
し、外管はノズル先端洗浄時に有機溶剤ｔ、 ｔａｔの
時間叫気体ケ噴射するように構成するとともに、下カツ
プ内向にはスピンナが通過できる孔管中央に有し底部に
Ｆｉ塗布液を収容する溜部を設けた着脱自在のカートリ
ッジ受皿會取り付けてなるものである。また、カートリ
ッジ受皿には塗布液の跳９返りｔ ｍ１ｌｌ止するブレ
ードが多数内周壁に設けられてなるものである。
以下、！ＩＩ！！施例により本発明ｔ−説明する。
第２図は本発明の一実施例による塗布装置の置部を示す
概要断面図、第３図は同じく下カップに取り付けるカー
トリッジ受皿の平面図である。この塗布装置は、従来構
造と同様に、固定式の上カップｌと昇降する移動式の下
カップ２とＫよって形作る塗布−：ｌＣ，回転軸６に支
持謬れて（ロ）転するスピンナ５を配し次構造となって
いる。スピンナ５はその上面に；Ｗｋ塗布智でめるウェ
ハ４を真空＠膚によって保持し、高速で（ロ）転する。
概要断面図、第３図は同じく下カップに取り付けるカー
トリッジ受皿の平面図である。この塗布装置は、従来構
造と同様に、固定式の上カップｌと昇降する移動式の下
カップ２とＫよって形作る塗布−：ｌＣ，回転軸６に支
持謬れて（ロ）転するスピンナ５を配し次構造となって
いる。スピンナ５はその上面に；Ｗｋ塗布智でめるウェ
ハ４を真空＠膚によって保持し、高速で（ロ）転する。
−万、上カップ１の中央に支持場れるノズル１３は二重
管構造となっている。内管１４は従来と同様にタンク９
内の塗布液（フォトレジスト）７にその先端からウエノ
・盛上Ｖｃ１＃ｊ４下する。外’１ｌＦ１５ｉ切換バル
ブ１６の切換によって窒素ガスタンク１７あるいはｖｓ
ｉｓ剤タンク１８からボン１１９の圧送で％１１嵩ガス
めるいは肩慣溶剤（ホトレジスト’２熔かす溶剤；たと
えばシンナー）ｔ＋の先端η・ら噴射する。ｉｉｔ＊ガ
スるるいはシンナーは内Ｖ１４の先ｙａ＆収り囲むよう
に環状となって噴出するとともに、シンナーは内管１４
の先ｍＫ付溜するフォトレジスト７’ｉ溶して洗浄する
ＷＡに噴射され。
管構造となっている。内管１４は従来と同様にタンク９
内の塗布液（フォトレジスト）７にその先端からウエノ
・盛上Ｖｃ１＃ｊ４下する。外’１ｌＦ１５ｉ切換バル
ブ１６の切換によって窒素ガスタンク１７あるいはｖｓ
ｉｓ剤タンク１８からボン１１９の圧送で％１１嵩ガス
めるいは肩慣溶剤（ホトレジスト’２熔かす溶剤；たと
えばシンナー）ｔ＋の先端η・ら噴射する。ｉｉｔ＊ガ
スるるいはシンナーは内Ｖ１４の先ｙａ＆収り囲むよう
に環状となって噴出するとともに、シンナーは内管１４
の先ｍＫ付溜するフォトレジスト７’ｉ溶して洗浄する
ＷＡに噴射され。
！Ｘガスは他の時間常時噴射されて内ｆ１４の先−に７
オトレジストが付着しにくいような作用ｔしている。
オトレジストが付着しにくいような作用ｔしている。
他方、下カップ２は従来のように掛＃雷は設けられない
。その代りに、纂３図で示すようなカートリッジ受皿２
０か下カツプ２内向に着脱自在に取り付けられる。この
カートリッジ受皿２０はポリエチレン寺Ｉ！Ｉ布液によ
って劣化しない＄１脂によって形成されてｉる。カート
リッジ受皿２０は中央部にスピンナ５が通過できるよう
な孔２１を有し、外縁は下カツプ２０周面上縁にまで立
ち上がる周！２２ｔ−有する皿構造となっている。また
。
。その代りに、纂３図で示すようなカートリッジ受皿２
０か下カツプ２内向に着脱自在に取り付けられる。この
カートリッジ受皿２０はポリエチレン寺Ｉ！Ｉ布液によ
って劣化しない＄１脂によって形成されてｉる。カート
リッジ受皿２０は中央部にスピンナ５が通過できるよう
な孔２１を有し、外縁は下カツプ２０周面上縁にまで立
ち上がる周！２２ｔ−有する皿構造となっている。また
。
このカートリッジ受皿２０はフォトレジストを収容する
ために、孔２１の周縁ｓ２３は上方に反り返って、底部
Ｋｊｊ状の溜部２４【形成している。
ために、孔２１の周縁ｓ２３は上方に反り返って、底部
Ｋｊｊ状の溜部２４【形成している。
また、このカートリッジ受皿２０の内胸壁にはそれぞれ
渦巻状に延在するブレード２５が多数配設され、スピン
ナの回転によって飛び散ったホトレジストの内周賑やブ
レードでの跳ね返りｔブレードの内周１１に対面するｔ
ｈＴ−で通るようになっている。
渦巻状に延在するブレード２５が多数配設され、スピン
ナの回転によって飛び散ったホトレジストの内周賑やブ
レードでの跳ね返りｔブレードの内周１１に対面するｔ
ｈＴ−で通るようになっている。
このような塗布装置では、下カップ２にカートリッジ受
皿２０１装着した後、スピンナ５にウニ八番を保持式せ
て下カップ２を閉じて迦布室３を形作る。この間、ノズ
ル１３の外管１５からは輩累ガスが噴射嘔れている。り
き′Ｋ、スピンナ５ｔ−回転寧せながらノズル１３の内
ｔｔａからフォトレジスト７を所定ｉ１１滴下して９１
８１面に均一にフォトレジスト７を勤布する。ｂ布時お
よび烏有し、内管１４の先為にフォトレジスト７が付着
シないように作用１−でいる。
皿２０１装着した後、スピンナ５にウニ八番を保持式せ
て下カップ２を閉じて迦布室３を形作る。この間、ノズ
ル１３の外管１５からは輩累ガスが噴射嘔れている。り
き′Ｋ、スピンナ５ｔ−回転寧せながらノズル１３の内
ｔｔａからフォトレジスト７を所定ｉ１１滴下して９１
８１面に均一にフォトレジスト７を勤布する。ｂ布時お
よび烏有し、内管１４の先為にフォトレジスト７が付着
シないように作用１−でいる。
つキニ、スピンナ５が停止すると、下カップ２が降下【
−、スピンナ５からウェハ４が飯田される。
−、スピンナ５からウェハ４が飯田される。
すると、切換バルブ１６が動作してノズル１３の外１１
１１ｓからはシンナーが噴射式れてノズル１３の内ｔ１
４に付着するフォトレジストを解融して吹き流す。この
洗浄ｔｉ数秒から数十秒行なわれ。
１１ｓからはシンナーが噴射式れてノズル１３の内ｔ１
４に付着するフォトレジストを解融して吹き流す。この
洗浄ｔｉ数秒から数十秒行なわれ。
七〇Ｍ再び切換パルプ１６が作動し、外管１５からはシ
ンナーに代って窒素ガスが噴＃Ｊ−ｇれる。そこで、再
び會なウニ八番がスピンナ５に保持されて再びつぎの曽
布作架が行なわれる。この虜布作桑時１周囲に飛散した
フォトレジスト７はブレード２５によって跳ね返りｔ防
止式れ、カートリッジ受皿２０の底の榴邪２４に麺る。
ンナーに代って窒素ガスが噴＃Ｊ−ｇれる。そこで、再
び會なウニ八番がスピンナ５に保持されて再びつぎの曽
布作架が行なわれる。この虜布作桑時１周囲に飛散した
フォトレジスト７はブレード２５によって跳ね返りｔ防
止式れ、カートリッジ受皿２０の底の榴邪２４に麺る。
そこで、所定処境！Ｘ数毎にカートリッジ受皿２０１取
り換えて自布作桑ｔ−続打する。
り換えて自布作桑ｔ−続打する。
このような重布ｆ７＆首ではつ龜のような効来を奏する
。
。
（１）、ノズルはフォトレジストが残貿付着しないよう
に＠Ｋｆｊｉ素ガスが吹き付けられているとともに、１
回の塗布作業毎にシンナーで洗浄される。
に＠Ｋｆｊｉ素ガスが吹き付けられているとともに、１
回の塗布作業毎にシンナーで洗浄される。
このため、ノズル先端部からの硬化フォトレジストの落
下は起きず、ウェハＶＣ硬化フォトレジスト塊が付着す
ることはない。このす工・・への硬化フォトレジストの
付着はブレードによる跳ね返り防止効果によるカートリ
ッジ受皿に付着した硬化フォトレジスト塊の付Ｍｔ−も
防止するため、従来発生していた境儂時の硬化フォトレ
ジスト塊脱落によるビンホール不良の発生が防止できる
。
下は起きず、ウェハＶＣ硬化フォトレジスト塊が付着す
ることはない。このす工・・への硬化フォトレジストの
付着はブレードによる跳ね返り防止効果によるカートリ
ッジ受皿に付着した硬化フォトレジスト塊の付Ｍｔ−も
防止するため、従来発生していた境儂時の硬化フォトレ
ジスト塊脱落によるビンホール不良の発生が防止できる
。
（２）、スピンナ回転時に周’ＩＭＫ飛散したフォトレ
ジストはブレードによって跳ね返り會防止されるため、
ウェハ表面に再付潜することＦｉなくなる。
ジストはブレードによって跳ね返り會防止されるため、
ウェハ表面に再付潜することＦｉなくなる。
このため、３Ｎ！布鍵は均一となり、塗布むらは生じな
くなる。
くなる。
（３）、排液（フォトレジストおよびシンナー）はカー
トリッジ受皿の変換によって簡塾力・つ迅速に行なえる
ため、従来のような下カップの移動不能などは発生しな
くなり、稼動率が向上する。
トリッジ受皿の変換によって簡塾力・つ迅速に行なえる
ため、従来のような下カップの移動不能などは発生しな
くなり、稼動率が向上する。
なお、本発明は前ｆ′実施例に限定されるものではなく
５本発明の技術思想に基いて変形可能である。
５本発明の技術思想に基いて変形可能である。
以上のように１本発明によれば、Ａ物付潰、塗布むらが
発生しない高精度かつ高能率の画布ｖｔ電に＆！供する
ことができる。
発生しない高精度かつ高能率の画布ｖｔ電に＆！供する
ことができる。
皐１図は従来の伽布装置を示す要部の概略軌帥凶、雛２
図は本発明の一実施一による塗布装置を本丁費都の概略
断面図、第３図は同じくカートリッジ式受皿を示す平面
図でらる。 監・・・上カップ、２・・・下カップ、３・・・−布呈
、１・・・ウェハ、５・・・スピンナ、７・・・塗布液
、１３・・・ノズル、１４・・・内管、１５・・・外管
、１７・・・窒素ガスタンク、１８・・・４に機溶剤タ
ンク、２０・・・カートリッジ受皿、２４・・・＠＠、
２５・・・ブレード。
図は本発明の一実施一による塗布装置を本丁費都の概略
断面図、第３図は同じくカートリッジ式受皿を示す平面
図でらる。 監・・・上カップ、２・・・下カップ、３・・・−布呈
、１・・・ウェハ、５・・・スピンナ、７・・・塗布液
、１３・・・ノズル、１４・・・内管、１５・・・外管
、１７・・・窒素ガスタンク、１８・・・４に機溶剤タ
ンク、２０・・・カートリッジ受皿、２４・・・＠＠、
２５・・・ブレード。
Claims (1)
- １、被効布物を上ｒｋｉＫ真空＠Ｍ（、て回転するスピ
ンナと、このスピンナの真上に配役でれスピンナ上に塗
布ａｔ−ｍ下するノズルと、ノズルを支持するとともに
スピンナの上方ｔ−被う上カップと、前記スピンナの回
転軸に摺動自在に＊＊されるとともに前記上カップに対
応して起設され上昇して上カップときわさって密閉した
塗布ｍｔ−形作る下カップと、を庸する麹布装＠におい
て、前記ノズルは二璽管とし、門前は塾布液を關下し、
外管はノズル先端洗浄時に有慎溶剤１ｒ他の時間は気体
を噴射するように構成し良ことｔ％体とする重布Ｗ＆雪
。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18704681A JPS5889966A (ja) | 1981-11-24 | 1981-11-24 | 塗布装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18704681A JPS5889966A (ja) | 1981-11-24 | 1981-11-24 | 塗布装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5889966A true JPS5889966A (ja) | 1983-05-28 |
Family
ID=16199219
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP18704681A Pending JPS5889966A (ja) | 1981-11-24 | 1981-11-24 | 塗布装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5889966A (ja) |
Cited By (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6430671A (en) * | 1987-07-27 | 1989-02-01 | Toshiba Ceramics Co | Dispenser nozzle device |
| JPH01180272A (ja) * | 1988-01-08 | 1989-07-18 | Nordson Kk | ノズル部の皮張り防止方法及びその装置 |
| JPH01180271A (ja) * | 1988-01-06 | 1989-07-18 | Nordson Kk | ノズル部の皮張り防止方法及びその装置 |
| JPH01194973A (ja) * | 1988-01-29 | 1989-08-04 | Toshiba Emi Ltd | スピンコート用塗布装置 |
| JPH02164475A (ja) * | 1988-12-15 | 1990-06-25 | Pioneer Electron Corp | 流体供給処理装置 |
| JPH02218467A (ja) * | 1989-02-16 | 1990-08-31 | Tokyo Electron Ltd | レジスト処理装置及びレジスト処理方法 |
| JPH06254464A (ja) * | 1993-03-04 | 1994-09-13 | Seikosha Co Ltd | 液状物吐出装置 |
| KR100351988B1 (ko) * | 1999-12-31 | 2002-09-12 | 주식회사 하이닉스반도체 | 반도체 제조용 코팅액의 디스펜스 장치 |
| WO2005063409A1 (ja) * | 2003-12-25 | 2005-07-14 | Origin Electric Company, Limited | スピンコート装置 |
| WO2006001372A1 (ja) * | 2004-06-25 | 2006-01-05 | Yazaki Corporation | 着色ノズル |
-
1981
- 1981-11-24 JP JP18704681A patent/JPS5889966A/ja active Pending
Cited By (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| WO2005063409A1 (ja) * | 2003-12-25 | 2005-07-14 | Origin Electric Company, Limited | スピンコート装置 |
| WO2006001372A1 (ja) * | 2004-06-25 | 2006-01-05 | Yazaki Corporation | 着色ノズル |
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