JPS588515A - ポリスルホン半透膜の製造方法 - Google Patents

ポリスルホン半透膜の製造方法

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JPS588515A
JPS588515A JP10659981A JP10659981A JPS588515A JP S588515 A JPS588515 A JP S588515A JP 10659981 A JP10659981 A JP 10659981A JP 10659981 A JP10659981 A JP 10659981A JP S588515 A JPS588515 A JP S588515A
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JP
Japan
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polysulfone
polyacrylamide
solvent
membrane
film
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JP10659981A
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JPH0141366B2 (ja
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Shinsuke Takegami
竹上 信介
Koji Fukuda
福田 紘二
Kazuto Hamada
浜田 一人
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Toyobo Co Ltd
Original Assignee
Toyobo Co Ltd
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  • Manufacture Of Porous Articles, And Recovery And Treatment Of Waste Products (AREA)
  • Artificial Filaments (AREA)
  • Separation Using Semi-Permeable Membranes (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、ポリスルホン系半透膜の製造方決に関するも
のである。更に詳しくは濾過効率に優れ、しかも透水速
度の大きい、異方性を有するポリスルホン半透膜の製造
方法Kll[するものである。更忙詳しくはポリスルホ
ン系重合体をポリアクリルアミドを含む非プロトン性溶
謀に溶解して製膜原液を作製せしめ、次いで該原液を所
望の形状の膜状物質を形成せしめたのち、凝固媒体と接
触させてポリスルホン重合体を凝固させて製膜すること
を特徴とするポリスルホン系分離膜の製造方法を提供す
る仁とにある。
近年、廃水処理、海水の淡水化1食品1栗あるいは医療
分野等の広範な用途分Uにおいて、半透膜を使用する各
種物質の分離技術が注目され、今後も更忙大きな発展が
期待されている・そ、のような膜分離技術として、水系
媒体中に浮遊1分散々いしは溶解している物質の大き7
さKJ6じて限外濾過、逆浸透等種々の手法が提案され
ている。すなわち、上記の各分離目的KF5じて膜に要
求される性能が異なることは言うまでもな−が亀共通的
に要求される性能として、水系媒体の透過速度が大きい
こと、各種物質の半透性に優れているこる1機械的強度
が大きく、耐熱性、耐薬品性に優れていることなどが挙
げられる。
従来、半透膜に使用されている素材として種々のものが
提案されており、中でも濾過性能が優れたものとしてア
セチルセルロース半透膜が着色である。しかし、アセチ
ルセルロース膜は特KN薬品性、耐熱性、耐黴生物性な
どに欠点を有して−るため必ずしも好適な膜とけいえな
い。
一方、ポリスルホン系半透膜、特に芳香族ポリスルホン
よりなる半透膜は機械的強度に優れ、耐化学薬品性、耐
熱性、耐微生物性などKも優れてかり、アセチルセルロ
ース半透膜では使用出来なかった分UKも用いられる可
能性があり注目されている。
ポリスルホン系半透膜については1種々の製膜方法が提
案されている。例えば米国特許第3615024号、特
開昭49−23183.特開昭51−129880など
である。これらの製膜方法はいずれも湿式製膜法が採用
されており、基本的にはポリスルホン系重合体を溶媒K
Wg解して製膜原液を作製せしめ。
次いで該原液をキャスティングした後、凝固浴に浸漬し
て、脱溶剤して膜を製造する方法である・前記特許では
上記の製膜方法において、良fg謀にポリスルホンを析
出させない程度に非溶媒を添加することが述べられてい
るが、これら先行文献に具体的に開示されている非溶媒
を用いた場合にけ製膜操作が困難であったり、膜性能が
劣っていたりするなど、不都合な点が多かった。
ここkおいて本発明者等は、上記の欠点を克服し、優れ
た膜性能を有するポリスルホン系半透膜の製造方法を鋭
意研究した結果、ポリスルホン系重合体の溶媒としてポ
リアクリルアミドを含有しポリアクリルアミドの添加量
を特定化するととKより1機械的強度に優れた異方性を
有するポリスルホン半透膜を製造し有る事実を見出し1
本発明に到達した。
すなわち1本発明の目的は透水速度が大きく。
濾過効果に優れた非対称性のポリスルホン系半透膜の製
造方法を提供することKあるO 本発明の他の目的は1イクロ濾過膜、限外濾過膜、逆浸
透膜用基材等の各種用途分野に応じ九分離性能の設計が
可能なポリスルホン系半透膜の製造方法を提供すること
にある。
上述し九本発明の目的はポリスルホン系重合体をポリア
クリルアミドを含有する非プリトン性極性溶媒に溶解し
て、製膜原液を作製せしめ1次いで該原液を所望の形状
の膜状物質に形成せしめた後、凝固媒体と接触させてポ
リスルホン系重合体を凝固させることを特徴とする製造
方法によって達成される。
本発明に係るポリスルホン系重合体としては芳n系のも
のが好ましく1例えば 5− υ アリールエーテルスルホンを代表例として挙けることが
できる。半透膜として好適なものは1重合度が40ない
し200の範囲に、ある。
上記ポリスルホンの溶媒としてはポリアクリルアミドを
含有する非プリトン性極性溶媒を用いる仁とが必須条件
である。
非プロトン性極性溶媒としては、 N、N−ジメチルホ
ルムアミド(DMF ) 、、 NtN−ジメチルアセ
)7tF(DMAC)、ジメチルスルホキリド。
N−メ′チルピロリドン(NMP)、スルホラン。
ヘキサメチルホスホンアミドなどを例示することが出来
るが、中でもN、N−ジメチルホルムアミド。
ポリアクリルアミドの分子量は500ないし100.0
00の範囲のものがよく、特に1000ないし60,0
00の範囲のものが好適である。
6− 分子量が小さいものを用いると透過水量が少なくなるが
%濾過効果は良くなる。又分子量が大きいものを用いる
と透過水量が多くなるが分子量の小さいものよりp過効
果が悪くなる。ポリアクリルアミドの分子量を調節する
ことによって濾過性能及び透水速度を好適な範囲に調整
し得る。一方ポリアクリルアミドの添加量はポリアクリ
ルアミドと非プロトン性極性溶媒全重量に対して、5な
いし30%の範囲にすべきである6ポリアクリルアミド
の添加量が少ないと充分な透水速度が得にくいし、添加
量が多すぎるとがリスルホン半透膜の機械的強度が小さ
くなる。好ましくはポリアクリルアミドの添加量を71
kいし15チの範囲に維持することである・ このようにlリスルホン系重合体を上述の混合陰謀に溶
解して作製した製膜原液を平板、エンドレスベルト、面
転ドラムなどの上に流延%またはスリット状、アニユラ
−状々どの口金を介して押し出しなどの方法により、平
膜、チューブ、中空繊維などの所望の膜状物質に形成す
る。
気に接瞼させるか、又は直接凝固媒体と接触させて凝固
させる。凝固媒体としては水、上記混合陰謀を含んだ水
溶液又は上記混合性溶媒と相溶性を有する水溶性物賀な
どいずれの凝固媒体でも採用することが出来る。
本発明の理解を更に良好にするため1次に本発明の代表
的な実施例を示すが1本発明はこれらの実施例の記載に
よってその範囲を何ら限定するものではhい。力お実施
例に示される百分率および部は特に断わりのない限り、
全て重量基準によるものである・ 実施例1゜ ボリアリールエーテルスルホン(商品名UDEL@P3
500.ユニオンカーバイト社製)20tを。
ジメチルホルムアミド101009Kf1表に示f&加
剤を加えた混合液に溶解させた。この溶液をガラス板上
にキャスティングして膜を作る。次−で25℃に保たれ
た水中に静かに浸漬し凝固させる01分間浸漬したのち
、水洗して水中に保存する。
得られた>l!について蒸留水透水量およびポリエチレ
ングリコール(平均分子量20,000)2000pp
mの水溶液を用いてポリエチレングリコール除去率を測
定した。その結果を第1表に示す。
なお、蒸留水透水量は、25℃圧力4kr/dにおいて
測定した。また、ポリエチレングリコールの濃度は水溶
液を絶乾した後重量法によって測定した。
第   1   表 9−

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 (1)  ポリスルホン系重合体をポリアクリルアミド
    を含む非プロトン性極性溶謀I/c溶解tて、製膜原液
    を作製せしめ1次いで該原液を所望の形状の膜状物質に
    形成せしめた後、凝固媒体と接触させてポリスルホン系
    重合体を凝固させて製膜することを特徴とするポリスル
    ホン半透膜の製造方法。 −メチルピロリドンである特許請求の範囲第(1)項記
    載の方法・ (3)非プロトン性極性溶媒1002当り、ポリアクリ
    ルアミドが5ないし30tの割合で用いる特許請求の範
    囲第(1)項記載の方法。
JP10659981A 1981-07-08 1981-07-08 ポリスルホン半透膜の製造方法 Granted JPS588515A (ja)

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JP10659981A JPS588515A (ja) 1981-07-08 1981-07-08 ポリスルホン半透膜の製造方法

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JP10659981A JPS588515A (ja) 1981-07-08 1981-07-08 ポリスルホン半透膜の製造方法

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JPS588515A true JPS588515A (ja) 1983-01-18
JPH0141366B2 JPH0141366B2 (ja) 1989-09-05

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ID=14437602

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JP10659981A Granted JPS588515A (ja) 1981-07-08 1981-07-08 ポリスルホン半透膜の製造方法

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4763554A (en) * 1985-12-30 1988-08-16 Nippon Gakki Seizo Kabushiki Kaisha Automatic rhythm performing apparatus for electronic musical instrument

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4763554A (en) * 1985-12-30 1988-08-16 Nippon Gakki Seizo Kabushiki Kaisha Automatic rhythm performing apparatus for electronic musical instrument

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JPH0141366B2 (ja) 1989-09-05

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