JPS5884006A - 半透膜、その製造方法および用途 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 この発明は架橋ポリマーからなる半透膜、その製造方法
および、特に逆浸透または限外濾過における用途に関す
る。

半透膜を、逆浸透（ハイＡ−濾過ともいう。）および限
外濾過のような分離法に使用することは周知のことであ
る。膜を用いるこの分離法の本質的な特徴は膜の選択的
な浸透性、すなわち溶解している物質を保持し溶媒を通
すことである。

例えば海水や廃水からの飲料水の製造、下水処理、電気
メツキ槽の処理、並びに食品工業や薬品工業に用いられ
る合成材料の膜は、分離作用に関してだけでなく機械的
強度や化学的安定性の大きいことが要求される。主とし
てセルロースエステル、ポリアミｒ。またはアクリルニ
トリルポリマー製の膜が使用されているが、それらの膜
は分離性あるいは耐溶剤性に関して欠点がある。従って
これらの欠点を前記のポリマーの改良によって除く試み
がなされていないわけではない。ドイツ公開公報箱２，
９０６，３３４号には、例えば環状のβ−ケト酸、特に
スクシニロコハク酸テ修飾されたセルロースエステル誘
導体を膜の製造に使用することが提案されている。

本発明者等は膜の製造にエチレン性不飽和モノマーをペ
ースとする光架橋性コポリマーを使用すると、耐溶絢性
が良好で、透過性と保持性のよい半透膜が容易に得られ
ることを見出した。

従って、本発明の対象はエチレン性不寵和モノマーをペ
ースとする光架橋性コポリマーを含有する層に電磁波を
照射することによって得られる架橋ポリマーからなる半
透膜であって、前記の光架橋性コポリマーは分子量か１
０　〜１０７であり、ポリマー鎖に側鎖として式■ （式中、Ｒ１およびＲ２は各々メチル基を表わすか、ま
たはＲ７とＲ２はそれらが結合している炭素原子と一緒
になって５員もしくは６員のメチル基により置換されて
いてもよい炭素環式のリングを形成している。） で示されるマレインイミド基を少な（とも２個有し、コ
ポリマーの製造に用いられるコモノマーの総量に対して
少なくとも１０重量％のモノマーは酸性および／または
塩基性の基を有することを特徴とするものである。

本発明の膜の調製には、例えば式■のマレ怜ヲィミド基
を次式で示される分子鎖構成要素中に有する光架橋性コ
ポリマーが使用される。

ＣＯＯ−Ｙｌ−ＭＩ −ＣＨ２−ＣＲ３− １ ０００→０Ｈ２←ＣＨ−ＣＨ２−００Ｃ−Ｙ２−ＭＩ１ ０Ｈ（ｘ＝１または２） −ＣＨ２−ＣＲ３− Ｃ０ＮＲ４−Ｙ３−　ＭＩ −Ｃ−Ｃ− １ Ｒ６０−Ｙ４−ＭＩ −ＣＨ−ＣＨ− １ ＣＯＯＨＣｏｏ　−Ｙ５−　ＭＩ −ＣＨ−ＣＨ 式中、ＭＩは式Ｉのマレイ字イミド基を表わし、Ｙ２は
炭素原子総数がそれぞれ最大で１８の脂肪族、脂環式、
炭素環式芳香族、アル脂肪族（ａｒａｌｉｐｈａｔｉｃ
　）　、ペテロ環式脂肪族またはへテロ環式芳香族架橋
基を表わし、ＹｌはＹ２と同じ意味を表わすか、または
次式 で示される基を表わし、Ｙ３はＹ２と同じ意味を表わす
か、または−〇〇−Ｙ２基を表わし、Ｙ４はＹ２と同じ
意味を表わすか、または好ましくは脂肪族もしくは炭素
環式芳香族基を表わし、Ｙ５はＹ２と同じ意味を表わす
か、または次式 ％式％） で示される基を表わし、Ｙ６はＹ２と同じ意味を表わし
、Ｙ７はＹ２と同じ意味を表わし、好ましくはｑ＝Ｑで
あり、Ｒ３は水素またはアルキル基、好ましくはメチル
基を１表わし、Ｒ４は水素または炭素原子数が１〜６の
アルキル基を表わし、Ｒ５゜Ｒ６およびＲ７は互に独立
したものであって、水素、ハロゲン、シアン、アルキル
、アリール、アラルキル、好ましくは゛水素を表わし、
Ｒ８は水素、−Ｃ００Ｈまたは−０００（ＣＨ２）２Ｃ
Ｈ３（ｚ＝０〜１８）を表わし、Ｒ９は水素または炭素
原子数が１〜６のアルキル基を表わす。

本発明の膜の調製に用いられる光架橋性コポリマーはド
イツ公開公報第２６２６７６９号により公知であり、そ
こに記載されている方法により、（１）反応性の側鎖基
、例えば−〇Ｈ、−８Ｈ。

−Ｎｌ２．ジカルゼン酸無水物またはエポキシＰ基を有
する既存のポリマー鎖に縮合反応もしくは付加反応によ
って感光性のマレ牟＃イミド基を導入するか、または（
１１）少なくともモノマーの１０重量％が感光性マレ→
−イミド基を有するコモノマーの混合物を共重合するか
することにより調製することができる。このようなマレ
本≠イミＰ基を有するモノマーはドイツ公開公報第２６
２６７９５号により公知である。

本発明の膜は、 （１１少なくとも式Ｉのマレ−ブイミド基を１個有する
アクリル（またはメタクリル）酸エステル−、アクリル
（またはメタクリル）酸アミド−またはビニルエーテル
誘導体、または式■ １ （式中、Ｒ，、Ｒ２，Ｙ２およびｎは前記と同じ意味を
表わし、ｎは１が好ましい。） で示される化合物、 （２）　　コモノマーの総量に対して少なくとも１０重
量％量の、酸性および（または）塩基性の基を有するエ
チレン性不飽和コモノマー、および所望により （３）　　少な（とも前記（１）および（２）とは異な
る他のエチレン性不飽和コモノマー から製造される光架橋性コポリマーを使用して得られる
架橋コポリマーからなることが好まし１、Ｘ。

前記のコモノマー（１）は次式■〜■ （式中、Ｒ１０は水素またはメチル基を表わし、Ｒは直
鎖状もしくは分岐状の炭素原子数１〜１２のアルキレン
基、または炭素原子数５もしくは６のシクロアルキレン
基を表わし、Ｒ１□は式 で示されるマレ−イミド基を表わし、Ｒ１□は水素また
は炭素原子数１〜６のアルキル基を表わし、Ｒ、Ｒおよ
びＲ１６はそれぞれ水素、１４　　　　１５ ハロゲン、シアンまたは炭素原子数１〜６のアルキル基
を表わす。） で示されるものが好ましい。

弐■および式■のコモノマー、特に次式で示される化合
物のような式Ｖの化合物がとりわけ好ましい。

架橋性コポリマー中におけるこれらのコモツマ−の含量
は光の作用で生成する網構造の架橋密度を規定する。コ
モノマーの含量が少なすぎると、架橋、従って膜の機械
的強度は不十分なものとなる。

コポリマーの１０〜９０重量％を占めることができる、
上記のマレイ宇イミド基を有する分子鎖構成要素に加え
て、コ、ｆ　ＩＪママ−酸性および（または）塩基性の
基並びに所望により更に他のマレｐイミド基を含まない
鎖構成要素を有する。

酸性の鎖構成要素は以下のコモノマー（２）から誘導さ
れる：α、β−不飽和カ不飽和カルケン酸アクリル酸、
メタクリル酸、マレイン酸、フマル酸、イタコン酸、ク
ロトン酸；スルホン酸基を有するモノマー、例えばビニ
ルスルホン酸およびその塩（Ｎａ塩、Ｋ塩等）、２−ス
ルホエチル−メタクリレート、スチロールスルホン酸、
または環状酸無水物（１ｍｏｌ　）とヒドロキシエチ、
←アクリレート（または−メタクリレート）（１ｍｏｌ
　）との反応、によって生ずる、カルゼキシル基を有ス
るモノマー、例えばフタル酸−モノ−β−アクリロキシ
（またはメタクリロキシ）エチルエステル。

塩基性の基を有する鎖構成要素は、コモノマーとして好
ましくはジアルキルアミノ基もしくはアルキルアリール
アミノ基を有するカルぎン酸誘導体、α、β−不飽和カ
ルデン酸または窒素へテロ環式ビニル化合物を単独もし
くは混合して用いてコポリマーに導入される。塩基性コ
モノマーとしては、例えば２−ビニルピリジン、４−ビ
ニルピリジンのようなビニルピリジン化合物系のコモノ
マー；例えばジメチルアミノエチルメタクリ（またはア
クリ）レート、ジエチルアミノエチルメタクリ（または
アクリ）レート、ジメチルアミノプロピルメタクリ（ま
たはアクリ）レート、ジエチルアミンゾロビルメタクリ
（またはアクリ）レート、ジエチルアミノプロビルメタ
クリレートまたはジエチルアミノプロビルメタクリレー
トのような塩基性の置換基を有する（ジアルキルアミノ
基を有する）アクリルエステルまたはアミＰ系のコモノ
マーが挙げられる。

塩基性の基は、ビニルピリジンまたはＮ、Ｎ−ジアルキ
ルアミノ−もしくはＮ、Ｎ−アルキルアリールアミノア
クリル（またはメタクリル）酸アルキルエステル、特に
Ｎ、Ｎ−ジアルキルアミノアクリル（またはメタクリル
）酸アルキルエステルのものが好ましい。

所望により光架橋性コポリマー製造の際に使用される、
酸性もしくｉアルカリ性の基を有さないコモノマー′１
３）は例えば下記のコモノマーに由来するものであるニ
オレフイン特にアルケン；ビニルハライド、例えばビニ
ルケトンｒ、ビニルケトンｒ１　ビニルフルオリド、ビ
ニリデンハライド、例えばビニリデンクロ、リド；α、
β−不飽和酸のニトリル、例えばアクリロ（またはメタ
クリ口）ニトリルシα、β−不飽和酸（アクリル酸およ
びメタクリル酸）のエステル、例えばメチルメタクリレ
−・ト、エチルアクリレート、プロピルアクリレート、
ブチルアクリレート、オクチルアクリレート、２−エチ
ル−ヘキシルアクリレート、メチルメタクリレート、エ
チルメタクリレート、イソプロピルメタクリレート、ブ
チルメタクリレート、グリシジルアクリレート、グリシ
ジルメタクリレ−ト、クロルメチルメタクリレート；α
、β−不飽和カルゼン酸アミＦ％およびその誘導体、例
えばアクリルアミド、メタクリルアミｒ；芳香族ビニル
化合物、例エバスチレン、メチルスチレン、ビニルトル
エン、α−クロルスチレン；ビニルケトン、例えばメチ
ルビニルケトン；ビニルエステル、例えばビニルアセテ
ート；ヘテロ環式ビニに化合物、例えばビニルピリジン
、ピニルカルノ々ゾール、またはビニルエーテル。

コポリマーはコモノマー（３）として、アルケン、ビニ
ル−またはビニリデンハライド、アクリロ（またはメタ
クリ口）ニトリル、α、β−不飽和酸のエステルもしく
はアミ？、芳香族もしくはヘテロ環式ビニル４ｉ合物、
ビニルエステルもしくは一エーテルまたはビニルケトン
、特にアクリル（またはメタクリル）酸アルキル−もし
くバーヒドロキシルアルキルエステル、おヨヒ特にアク
リル（またはメタクリル）酸アルキルエステルを含むこ
とが好ましい。光架橋性コポ遼マーは、コモノマー（３
）に由来する繰返し構成単位なＯ〜８０重量％有するこ
とができる。

コポリマーに関しては、遊離のカルゼン酸基を有するコ
モノマー、具体的にはメタクリル酸、アクリル酸、マレ
イン酸（無水マレイン酸）およびフタル酸−モノ−β−
メタクリロキシ−エチルエステルのようなα、β−不飽
和酸から製造されるものが好ましい。この場合、これら
の酸のポリマー中における含量は９０〜１０重量％、好
ましくは５０〜１５重量％の間で変えることができ喝。

本発明の膜を製造するに際しては、特に塩基性の基を有
し、コモノマーがビニルピリジンまたはＮ、Ｎ−ジアル
キルアミノ−もしくはＮ。

Ｎ−アルキルアリールアミノメタクリル（またはアクリ
ル）酸アルキルエステルで構成される光架橋性コポリマ
ーが使用される。そして好ましい実施態様に於ては塩基
性基中にある第三級Ｎ−原子を公知の方法で、例えばジ
メチル硫酸のような四級化剤を用いて四級化する。・酸
性および塩基性を有する光架橋性コポリマーから製造さ
れる膜も好ましい実施態様である。

光架橋性コポリマーは公知の方法に従って、例えばポリ
マーを溶かさない溶剤中に沈澱させ、次いで洗浄し、乾
燥することによって精製することができる。

光架橋性コポリマーの感光性は増感剤によって著しく高
められる。増感剤を適当に選択することによって、種々
の市販の複写用ランプ（例えば金属ハライドランプ）の
光に対して感光性が最大になるように調整される。

増感剤としては特に三重項増感剤が適当であり、これを
用いると架橋は励起した増感剤の三重項エネルギーの励
起していない式■のマレイン酸イミドエステルへの移動
によって起る；これについてはＮ、Ｊ、Ｔｕｒｒｏ、　
Ｍｏ１．　ＰｈｏｔｏｃｈｅｍｉｓＩｔｒｙ。

Ｗ、Ａ、Ｂｅｎｊａｍｉｎ　社（１９６５年）、１０７
頁を８照のこと。有効な増感の条件は、３００１ｍ以上
の領域で実際上十分な光吸収が起る最大吸収を三重項増
感剤が持ち、かつ三重項エネルギー移動が発熱的である
ことである。

４００〜４２０μｍの光（金属ハライｒ）に対しては、
例えば６−カルＩキシ−２−メチル−チオキサンのアル
キルエステルのような置換チオキサントンが特に適して
いる。増感剤はコポリマーの重量に対して０．１〜１０
重量％の量で使用するのが好ましい。多くの異なる増感
剤を組合せて使用することもできる。

材料の照射を行うには、増感剤の吸収帯領において有効
な照射が起る光源が適している。前記の増感剤の多くは
３．０Ｏｎｍ〜４５０ｎｍに吸収を有するので、この領
域において高い光線を放射する光源が好ましい。点光源
および面光源（カーペット状うンゾＬａｎｐｅｎ　ｔｅ
ｐｐｉｃｈｅ）が適当である。例えば、炭素アークラン
プ、キセノンアー　クランプ、所望により金属ノ・ライ
ｒをＰ−ゾした水銀蒸気ランプ（金属ハライドランプ）
、ＵＶ−光反射発光体を備えた蛍光ランプ、アルザン発
熱ランプ、電子閃光ランプおよび写真用照明ランプがあ
る。ランプと本発明の照射すべき材料との距離は使用目
的およびランプの種類乃至強度によって、例えば２ｃｍ
〜１５０儒の間で変えることができる。場合によっては
スペクトルの可視領域において感光性の光開始剤を用い
て可視光を照射することが好都合なことがある。このよ
うな場合、照射源は可視光の有効量を反射してしまうも
のである。

前記の多くの光源は可視光を必要量放出する。

増感剤を用いずにポリマーの架橋を行うことも可能であ
る、このためには、式（Ｉ）のマレイミド基の吸収帯領
域で、即ち約２００〜３５０ｎｍで光を放射する光源が
必要である。例えば低圧水銀−または中圧水銀蒸気ラン
プが適当である。

本発明の半透膜の調製は、光架橋コポリマーを有機溶媒
の溶液状態門たは溶融状態で適当な基板上に薄層に塗布
し、所望により使用した溶剤を蒸発させ、得られたフィ
ルムを照射することにより周知の方法で行われる。具体
的な塗布層の望ましい厚さは、膜の個々の使用目的に依
る。好ましい層厚は０．１〜１００μｍ１特に０１〜５
０μｍである。

先罠述べたように、本発明の半透膜は特に溶剤安定性が
改善された点に特徴がある。従ってこの半透膜は、具体
的に言えばハイパー濾過または限外濾過のように物質の
分離に利用される。

以下の例により本発明を更に詳しく説明する。

光架橋性コポリマーの製造 例Ａ： 還流冷却器、攪拌器、窒素導入口および温度計を付した
スルホーン化フラスコに、２−（ジメチルマレイーンイ
ミド）−エチルメタクリレート８０重量部およびメタク
リル酸２０重量部をメチルエチルケトン（ＭＥＫ）−メ
チルセルソルブ（ＭＣ８）の１５％溶液（ＭＥＫ　：Ｍ
ｃｇ’−１＋　１．重量比）として入れる。フラスコは
数回脱気して、窒素置換し、次いで内容物を６５℃にし
てアゾ−ヒス−イソブチロニトリル（ＡＩＢＮ）　ヲモ
ノマーの総量に対して０．２重量％加える。４時間の間
隔をおいて、更に２回各々２重量％のＡＩＢＮを加える
。２４時間反応さ凝た後、コポリマーを１５倍過剰量の
エーテル中に沈澱させ、沈澱物を４０℃にて高真空下で
乾燥する。コポリマーが理論量の９゛４％の収率で得ら
れる。ＭＥＫおよびＭＣ８の等量からなる混合溶媒中で
２５℃にて測定した固有粘度（ηｉｎｈ　）は０．２１
　ｄｉ／１７である。

例Ｂ： 例Ａと同様にして２−（ジメチルマレ◆嚇イミド）−エ
チルメタクリレート５０重量部、メタクリル酸２５重量
部およびブチルメタクリレート２５重量部を共重合させ
る。収率−理論量の６８％；η、ｎｈ＝０．２２ｄｌ／
ｇ０例Ｃ： ２−（ジメチルマレ≠≠イミド）−エチルメタクリレー
ト８０重量部、Ｎ、Ｎ−ジメチルアミノエチルメタクリ
レート２０重量部およびモツマーの総量に対して１重量
％のドデシルメルカプタンを例Ａのスルホン化フラスコ
中でイソゾロ、Ｒノールに２５％溶液となるように溶か
す、溶液を＋１０℃に冷却し、Ｎ、Ｎ−ジメチルアミノ
エチルメタクリレートの量に対して等モル量のジメチル
硫酸を加える。次いで溶液を数回脱気して窒素置換し、
８０℃に昇温してモノマーの総量に対して１，５重量％
のＡＩＢＮを加える。

１５時間後、更に１重量％のＡＩＢＮを添加し、反応液
を２時間つづけて反応させる。沈澱を濾別し、４０℃に
て高真空乾燥する。コポリマーが９８８％の収率で得ら
れる。

ＭＥＫ／ＭＣＫ（１：　１　）中での２５℃におけるη
１ｎｈ＝　０．１３　ｄ／／　１１゜例　　１　： 増感剤としてチオキサントン−２−カルゼン酸メチルエ
ステル０．０７！ｌを含む、例Ａのコポリマ−１，４２
＃をジオキサン８．５　！ｉに溶かした溶液を平らな基
板上に一様に塗布し、−夜室温で乾燥し、ズいて２　ｋ
Ｗの中圧水銀ランプを用いて２時間照射して、厚さ１２
４μｍのフィルムを得る。

このフィルムをハイノミ−濾過試験で膜として使用する
。純水を用いると、１ｏｏノ々−ルの圧力での水速過量
は９８１／ｒｒＬ２ｄであり、同じ条件で０．　Ｉ　Ｎ
　　ＮａＣｌ溶液を用いた場合の水速過量は４．８　ｌ
　／　ｍ２ｄであり（ｌ−透過容量リットル。

ｒｎ２−膜面積、ｄ＝日）、塩の保持能は４３．３％で
ある。この膜は耐水性があり、アセトン、クロロホルム
、テトラヒドロフランおよびジメチルスルホキシドに不
溶性である。

例　　２　： 増感剤としてチオキサントン−２−カルヂン酸メチルエ
ステル０．０７５．！ｉ’を含む、例Ｂのコポリマ〜１
．４ｇをジオキサン８．５Ｉに溶かした溶液を平らな基
板に塗布し、−夜室温で溶剤を蒸発させ、次いで２　ｋ
Ｗの中圧水銀ランプを用いて０．５時間照射し、厚みが
２５μｍの安定なフィルムを得、これを膜として使用す
る。例１に従って実施したハイパー濾過試験は純水を用
いた場合水の透過量が１．６１　／　ｍ２ｄであり、０
．　Ｉ　ＮＮａＣ１溶液を用いた場合には水の透過量は
２．０１　／　ｍ２ｄであり、塩の保持能は６３．４％
である。

この膜は耐水性で、アセトン、クロロホルム、テトラヒ
ドロフランおよびジメチルスルホキシドに不溶性である
。

例３： 例ＣＫより得たコポリマー１．８４１９を、増感剤とし
てチオキサントン−２−力Ａ／　ｙｇ　ｙ　酸メチルエ
ステル０．１６Ｎを含有する等量のメチルエチルケトン
とエキレンゲリコールモノメチルエステルとからなる混
合溶媒９−に溶かし、平担な基板上に０．１酊の層厚に
塗布する。室温で４５分間溶剤を蒸発させ、次いで例１
と同様にして１５分間照射を行う。得ら、れた２ｏμｍ
厚のフィルムをハイパー濾過試験において膜として使用
する。例１と同じ条零で、純水の場合水の透過量は１　
’７４．　ｌ　／　ｍ”ｄであり、０．１　Ｎ　ＮａＣ
１−溶液の場合水の透過量は１５７．２１７ｍ”ｄで、
塩保持能は９３．９％である。

この膜は耐水性で、アセトン、クロロポルム、テトラヒ
ドロフランおよびジメチルスルホキシドに不溶性である
。

特許出願人 チノ々−ガイギー　アクチェンゲゼルシャフト代理人

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １・　エチレン性不飽和モノマーをベースとスル光架橋
   性コポリマーを含有する層〔この光架橋性コポリマーは
   分子量が１０３〜１０７でありポリマー鎖に側鎖として
   式Ｉ １ （式中、Ｒ１およびＲ２は各々メチル基を表わすか、ま
   たはＲ１とＲ２はそれぞれ結合している炭素原子と一緒
   罠なって５員もしくは６員のメチル基により置換されて
   いてもよい炭素環式のリングを形成する。）で示される
   マレ中≠イミド基を少なくとも２個有ル、コポリマーの
   製造に用いられるコモノマーの総量に対して少なくとも
   モノマーの１０重量％は酸性および／または塩基性の基
   を有する。〕に電磁波を照射することによって得られる
   架橋ポリマ〜からなる半透膜。′ ２、光架橋性コポリマーが、 ＋１１　　少なくとも式（Ｉ）のマレ４ｙ′イミド基を
   有するアクリル酸（またはメタクリル酸）エステル、ア
   クリル酸（またはメタクリル酸）アミドまたはビニル誘
   導体、または式■１ （式中、Ｒ１およびＲ２は式Ｉの場合と同じ意味を表わ
   し、Ｙ２は炭素原子総数がそれぞれ最大で１８の脂肪族
   、脂環式、炭素環式芳香族、アル脂肪族、ヘテ巳環式脂
   肪族またはへテロ環式芳香族架橋基を表わし、ｎは１ま
   たは２である。） で示される化合物、 （２）　　コモノマーの総数に対して少なくとも１０重
   量％の量の酸性および（または）塩基性の基を有するエ
   チレン性不飽和コモノマー、および所望により （３）　　少なくとも前記ｆ１）および（２）とは異な
   る他のエチレン性不飽和コモノマー から製造されることを特徴とする特許請求の範囲第１項
   に′記載の半透膜。 ３、　光架橋性コポリマーが前記成分子１１１０〜９０
   重量％、成分（２１９０〜１０重量％および成分（３）
   ０〜８０重量％から製造されることを特徴とする特許請
   求の範囲第２項に記載の半透膜。 ４　光架橋性コポリマー中のコモノマー（１）が次式 ％式％ 〔式中、Ｒｌｏは水素またはメチル基を表わし、Ｒ１１
   は炭素原子数１〜１２の直鎖状もしくは分岐状アルキレ
   ン基または炭素原子数５もしくは６のシクロアルキレン
   基を表わし、Ｒ１゜は次式 で示されるマレーーーイミト基を表わし、貼は水素また
   は炭素原子数１〜６のアルキル基を表わし、Ｒ１４，Ｒ
   １５およびＲ１６は各々水素ハロゲン、シアノまたは炭
   素原子数１〜６のアルキル基を表わす。〕 で示されるものであることを特徴とする特許請求の範囲
   第２項に記載の半透膜。 ５　架橋性コポリマー中のコモノマー（２）がアクリル
   酸、メタクリル酸、クロトン酸、マレイン酸、フマル酸
   、イタコン酸、ビニルスルホン酸、スチレンスルホン酸
   またはフタル酸アクリル（またはメタクリル）半エステ
   ルであることを特徴とする特許請求の範囲第２項に記載
   の半透膜。 ６、　　架橋性コポリマー中のコモノマー（２）がビニ
   ルピリジンまたはＮ、Ｎ−ジアルキルアミノ−もしくは
   Ｎ、Ｎ−アルキルアリールアミノアクリル（またはメタ
   クリル）酸アルキルエステルであることを特徴とする特
   許請求の範囲第２項に記載の半透膜。 ７　コモノマ・−（２）が酸性または奢基性の基を有す
   ることを特徴とする特許請求の範囲第２項に記載の半透
   膜。 ８、　光架橋性コポリマー中のコモノマー（３）が、ア
   ルケン、ビニル−もしくはビニリデンハライド、アクリ
   ル（またはメタクリル）ニトリル、α、β−不飽和酸の
   エステルもしくはアミド、芳香族もしくはヘテロ環式ビ
   ニル化合物、ビニルエステル、ビニルエーテル、マタは
   ビニルケトンであることを特徴とする特許請求の範囲第
   ２項に記載の半透膜。 ９、　光架橋性コポリマー中のコモノマーがアクリル（
   またはメタクリル）酸アルキル−または−ヒドロキシア
   ルキルエステルであることを特徴とする特許請求の範囲
   第２項に記載の半透膜。 １０、　　光架橋性コポリマー中のコモノマーが等モル
   量までのジメチル硫酸により第四−級化された、２−（
   Ｎ−ジメチルマレ≠学イミド）−エチルメタクリレート
   およびＮ、Ｎ−ジメチルアミノエチルメタクリレートか
   らなることを特徴とする特許請求の範囲第１項に記載の
   半透膜。 １１　　エチレン性不飽和モノマーをペースとする光架
   橋性コポリマーを含有する層〔この光架橋性コポリマー
   は分子量が１０３〜１０７であって、ポリマー鎖に側鎖
   とｌ−て式Ｉ １ （式中、Ｒ１およびＲ２は各々メチル基を表わすか、ま
   たはＲ□とＲ２はそれらが結合している炭素原子と一緒
   になって５員もしくは６員のメチル基により置換されて
   いてもよい炭素環式のリングを形成する。）で示される
   マレインイミド基を少なくとも２個有し、コポリマーの
   製造に用いられるコモノマーの総量に対して少なくとも
   １０重量％のモノマーは酸性および／または塩基性の基
   を有する。〕に電磁波を照射することを特徴とする半透
   膜の製造方法。 １２、特許請求の範囲第１項に記載の半透膜を用いるこ
   とを特徴とするハイ・ぐ−濾過または限外濾過方法。