JPS5883846A - 金属画像形成材料 - Google Patents
金属画像形成材料Info
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- JPS5883846A JPS5883846A JP56181747A JP18174781A JPS5883846A JP S5883846 A JPS5883846 A JP S5883846A JP 56181747 A JP56181747 A JP 56181747A JP 18174781 A JP18174781 A JP 18174781A JP S5883846 A JPS5883846 A JP S5883846A
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- photosensitive resin
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- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F1/00—Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
- G03F1/54—Absorbers, e.g. of opaque materials
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23F—NON-MECHANICAL REMOVAL OF METALLIC MATERIAL FROM SURFACE; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL; MULTI-STEP PROCESSES FOR SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL INVOLVING AT LEAST ONE PROCESS PROVIDED FOR IN CLASS C23 AND AT LEAST ONE PROCESS COVERED BY SUBCLASS C21D OR C22F OR CLASS C25
- C23F1/00—Etching metallic material by chemical means
- C23F1/02—Local etching
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F1/00—Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
- G03F1/50—Mask blanks not covered by G03F1/20 - G03F1/34; Preparation thereof
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/0047—Photosensitive materials characterised by additives for obtaining a metallic or ceramic pattern, e.g. by firing
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- G—PHYSICS
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- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/26—Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
- G03F7/30—Imagewise removal using liquid means
- G03F7/32—Liquid compositions therefor, e.g. developers
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
１発−は、金属勇健を形成させ、るための材料に−し、
＠にハイプントラストの画像形成能を有し。
＠にハイプントラストの画像形成能を有し。
ラインワーク、網点用に適した金属画像形成材料に関す
る。
る。
金属■ｌＩ形虞材料においては、一般に金属薄層（蒸着
層中う１ネー）箔層など）を用いた壜台の欠点として、
レジス）が浸されないＳ＊の弱いエツチング箪で社エツ
チングされにく−ことが拳ぜられる。そのため、通常エ
ツチング時間が長くかかり、したがりてレジスジとして
紘耐蝕性の極めて強いものを用いなければならず、しか
も鮮鋭な ゛画像が得に（〈、さらにｉｗ＊のエ
ッヂの区れを生する欠点がみられる。
層中う１ネー）箔層など）を用いた壜台の欠点として、
レジス）が浸されないＳ＊の弱いエツチング箪で社エツ
チングされにく−ことが拳ぜられる。そのため、通常エ
ツチング時間が長くかかり、したがりてレジスジとして
紘耐蝕性の極めて強いものを用いなければならず、しか
も鮮鋭な ゛画像が得に（〈、さらにｉｗ＊のエ
ッヂの区れを生する欠点がみられる。
一方、これを改良する手段として特−＠５Ｓ−９７３６
号公報に１アル１品ウムと蒸着可能な有機物質とｉＩｘ
楓寵する蒸着層１６Ｉｌｌｌ示されている。しかし、こ
こに開示された有機物質社、レジストを浸さない１１変
の弱い現像諌を用いたのでは、いまだ十分短かいエツチ
ング時間でエツチングすることができず集用的でない。
号公報に１アル１品ウムと蒸着可能な有機物質とｉＩｘ
楓寵する蒸着層１６Ｉｌｌｌ示されている。しかし、こ
こに開示された有機物質社、レジストを浸さない１１変
の弱い現像諌を用いたのでは、いまだ十分短かいエツチ
ング時間でエツチングすることができず集用的でない。
そこで１本！＆明の目釣紘、金属薄層を短時間にエツチ
ングするための強力な纂ツチンダ液を使用するまでもな
く％短時間に金属薄層をエツチングすることが可能であ
り、しかも鮮鋭なｉａ＊を得ることができる金属−ＩＩ
拳虞材料を提供するにある。
ングするための強力な纂ツチンダ液を使用するまでもな
く％短時間に金属薄層をエツチングすることが可能であ
り、しかも鮮鋭なｉａ＊を得ることができる金属−ＩＩ
拳虞材料を提供するにある。
本発明の上記目的紘、支持体上に金属薄層を有し、その
上に感光性樹脂・層を有する金属ＩＩ像形成材料におい
て、支持体上の前部金属薄層以外の少なくとも一層に４
属キレート化剤を會有破しめたことを特徴とする金属間
１１＊成材料によって達成される。
上に感光性樹脂・層を有する金属ＩＩ像形成材料におい
て、支持体上の前部金属薄層以外の少なくとも一層に４
属キレート化剤を會有破しめたことを特徴とする金属間
１１＊成材料によって達成される。
以下、１発＠に、ついて詳述する。
本発明に係る金属−１ｉｉ＊＊威材料の層構成の具体例
としては、支持体上に金属薄層が設けられ、その上に感
光性樹脂層が敷けられてなるものｔあるが、上記構成に
他の付加釣梼威要素をもたせた態様、たとえば支持体と
金属薄層または、金属薄層と感光性樹脂層との間など支
持体上に敗けられている各種の層の間に１下引層中中閾
層−黴けられた態様、さらに感光性樹脂層上にたとえば
保一層が設けられた態様などがあり、零尭−の金属画像
形成材料はきわめて多種多様な態様め層構成とす５こと
かで自るものである。
としては、支持体上に金属薄層が設けられ、その上に感
光性樹脂層が敷けられてなるものｔあるが、上記構成に
他の付加釣梼威要素をもたせた態様、たとえば支持体と
金属薄層または、金属薄層と感光性樹脂層との間など支
持体上に敗けられている各種の層の間に１下引層中中閾
層−黴けられた態様、さらに感光性樹脂層上にたとえば
保一層が設けられた態様などがあり、零尭−の金属画像
形成材料はきわめて多種多様な態様め層構成とす５こと
かで自るものである。
本発明の金属画像形成材料に用いられる金属薄−の金属
は、・従来全知のエッチ゛ンダ４６１１１１１によって
エツチングされ得る金属によりで形成された層であり、
該金属としてはたとえば特開１１１２１０−１３９７１
０号会報ＫＩ５鳴されているアル１ニウムを主体とする
金属中骨−１１４８−１５書２１号、同４８−６１ｓ９
２８号、同５Ｇ−２４１！！ＩＪ）及び同６０−１４１
６１号の各公報に記載されているごときテルル、モリブ
テン、ボーニウム−、コバルト、亜鉛、銅、ニッケル、
鉄、錫、バナジウム、ゲルマニウム、鎖及び鎖エマルジ
曹ンなどを挙げることができる。この金属薄層の厚さ紘
得られる画像に６１ｐＨな光学濃度によって決まりてく
るが、両者はほぼ比例関係にあり、たとえば画像が線画
や網点の場合は比較的高濃度が必要であって少なくと４
光学濃度で２．０以上、 ４１１に本発明の材料なＰＳ
印刺ＩＥＫ焼き付けを行なうためのマスクとして用いる
場合Ｋａ少なくとも３．０の光学ａｍが必要であるので
、それに相応した厚さに決めるのである。この金属薄層
の厚さと光学ａｍとの関係性、金属薄層を形成させる方
法、たとえば真空蒸着の条件によって多少異なることは
あるが大体においてｆｉＶ同様である。所望の光学＃１
度を得るために金属薄層の厚さを必要以上にすることは
臀に禁止されることはないが、金属薄層の素材の浪費や
後述するごとき画像形成のためのエツチングに過大な時
間が要するととＫなるのｔ望ましいことではない、さら
に過大なエツチング時間のためにレジストを劣化させる
ことがあることを考慮すれば金属薄層の必要以上砂厚Ｓ
はむしろ避けるぺ自で島る。
は、・従来全知のエッチ゛ンダ４６１１１１１によって
エツチングされ得る金属によりで形成された層であり、
該金属としてはたとえば特開１１１２１０−１３９７１
０号会報ＫＩ５鳴されているアル１ニウムを主体とする
金属中骨−１１４８−１５書２１号、同４８−６１ｓ９
２８号、同５Ｇ−２４１！！ＩＪ）及び同６０−１４１
６１号の各公報に記載されているごときテルル、モリブ
テン、ボーニウム−、コバルト、亜鉛、銅、ニッケル、
鉄、錫、バナジウム、ゲルマニウム、鎖及び鎖エマルジ
曹ンなどを挙げることができる。この金属薄層の厚さ紘
得られる画像に６１ｐＨな光学濃度によって決まりてく
るが、両者はほぼ比例関係にあり、たとえば画像が線画
や網点の場合は比較的高濃度が必要であって少なくと４
光学濃度で２．０以上、 ４１１に本発明の材料なＰＳ
印刺ＩＥＫ焼き付けを行なうためのマスクとして用いる
場合Ｋａ少なくとも３．０の光学ａｍが必要であるので
、それに相応した厚さに決めるのである。この金属薄層
の厚さと光学ａｍとの関係性、金属薄層を形成させる方
法、たとえば真空蒸着の条件によって多少異なることは
あるが大体においてｆｉＶ同様である。所望の光学＃１
度を得るために金属薄層の厚さを必要以上にすることは
臀に禁止されることはないが、金属薄層の素材の浪費や
後述するごとき画像形成のためのエツチングに過大な時
間が要するととＫなるのｔ望ましいことではない、さら
に過大なエツチング時間のためにレジストを劣化させる
ことがあることを考慮すれば金属薄層の必要以上砂厚Ｓ
はむしろ避けるぺ自で島る。
本発明の金属画像形成材料ＫＭいられる金属薄層が設け
られる支持体紘、その上ｘ＊＊ｇ＋あるいは間接（他の
層を介しＯｋ設けられる画像形成層としての金属薄層を
保持するものであって、しかも１員１１になる金属画像
形成材料の目的とする用途を考慮して各種の形態のもの
とすることかで龜る。ｌｉりて通常のｉｗ＊廖成材料の
形層かもして１発−の金属ｔｉｉ＊形成材料の場合もシ
ート状、フィルム状あるいは板状といりた形態とするこ
都が好ましく、その用途にようて逓−なもの、半透−の
ものあるいは不透明のものとすることがで自る。
られる支持体紘、その上ｘ＊＊ｇ＋あるいは間接（他の
層を介しＯｋ設けられる画像形成層としての金属薄層を
保持するものであって、しかも１員１１になる金属画像
形成材料の目的とする用途を考慮して各種の形態のもの
とすることかで龜る。ｌｉりて通常のｉｗ＊廖成材料の
形層かもして１発−の金属ｔｉｉ＊形成材料の場合もシ
ート状、フィルム状あるいは板状といりた形態とするこ
都が好ましく、その用途にようて逓−なもの、半透−の
ものあるいは不透明のものとすることがで自る。
セし【支持体は金属薄層を腐蝕さ姥るエツチング箪Ｋ１
１ｌされず、かつエツチングｉｌＫよりその上に設置す
られ【いる層が剥離し中すくなうたりするようなもので
あってはならない、支持体゛の素材としては従来全知の
多くのものが用〜られ、例えば陶磁器、無定形ガラス、
結晶性ガラス、金属、合金、プラスチック及びこれらの
複合材料などを挙けることができる。これらの素材は不
透明なもの中透明なものがあるが、必１ＩＩｋｃよりて
社透明なものに着色剤や不透明化剤を加えて、牛透明化
あるいは不透明化させることができる。しかしながら考
えられる多くの用途の分野状、本発明のｍｓ形成材料に
金属層による画像を形成せしめ、金属層がなくて支持体
が１ｉｉｉｉＫ露出している非画線部分に党を透化せし
め、ｉＩｉｇ１１部分線金属部分上金属層を連断するい
わゆる透過層の応用分野であり、そのような分１ＦＫ用
いられるｉｊ會影形成材料場合はその支持体が透明であ
ることが必要である。他方形成された画像を反射光によ
って認識する応用分、野に適用されるものにありて轄、
その支持体は透明であることを要しない。
１ｌされず、かつエツチングｉｌＫよりその上に設置す
られ【いる層が剥離し中すくなうたりするようなもので
あってはならない、支持体゛の素材としては従来全知の
多くのものが用〜られ、例えば陶磁器、無定形ガラス、
結晶性ガラス、金属、合金、プラスチック及びこれらの
複合材料などを挙けることができる。これらの素材は不
透明なもの中透明なものがあるが、必１ＩＩｋｃよりて
社透明なものに着色剤や不透明化剤を加えて、牛透明化
あるいは不透明化させることができる。しかしながら考
えられる多くの用途の分野状、本発明のｍｓ形成材料に
金属層による画像を形成せしめ、金属層がなくて支持体
が１ｉｉｉｉＫ露出している非画線部分に党を透化せし
め、ｉＩｉｇ１１部分線金属部分上金属層を連断するい
わゆる透過層の応用分野であり、そのような分１ＦＫ用
いられるｉｊ會影形成材料場合はその支持体が透明であ
ることが必要である。他方形成された画像を反射光によ
って認識する応用分、野に適用されるものにありて轄、
その支持体は透明であることを要しない。
本発明に係る金属ｊ１ｍ形成材料の感光性樹脂層の素材
である感光性樹脂としては、■オルトキノンジアジドー
とノボラッタ樹脂とを組合せた感光性樹脂、・ジアゾ樹
脂と水Ｓ＊樹脂あるいはアルカリ可溶樹脂とを組合４た
感光性樹脂、・アジド化合物と、天然ゴム、脅威ゴム又
紘それらの濃化ゴムとを組合せたゴ２ムーアジド系感光
性樹脂、Φ７ジド基を分子の中に組み入れた感光性樹脂
、０桂皮酸系感光性樹脂、０工チレン性不飽和二貢結合
を有する光重合系感光性樹脂などのフォトエツチング用
レジストとして用いられる４）種の感光性樹脂を挙げる
ことがで龜る。
である感光性樹脂としては、■オルトキノンジアジドー
とノボラッタ樹脂とを組合せた感光性樹脂、・ジアゾ樹
脂と水Ｓ＊樹脂あるいはアルカリ可溶樹脂とを組合４た
感光性樹脂、・アジド化合物と、天然ゴム、脅威ゴム又
紘それらの濃化ゴムとを組合せたゴ２ムーアジド系感光
性樹脂、Φ７ジド基を分子の中に組み入れた感光性樹脂
、０桂皮酸系感光性樹脂、０工チレン性不飽和二貢結合
を有する光重合系感光性樹脂などのフォトエツチング用
レジストとして用いられる４）種の感光性樹脂を挙げる
ことがで龜る。
以下、これらの感光性樹脂を詳細に述べる。
前記、■オルトキノンジアジド類とノボラック樹脂と、
を組合せた感光性樹脂としては、２，３．４−）リオ中
シペン、シフエノンービス−ξす７ト中ノン−１，２−
ジアジド−８，５−スルホン駿エステル〕、２−〔ナフ
トキノン−１，２−ジアジド−５−スルホニルオキシ〕
−ヒトｐキシ−７−ナフタリン、ナフトキノン−１，２
−ジアジド−５−スルフアシリド、ナ７）キノン−１，
２−ジアジド−５−スルホン駿ノボラックエステルなど
のオルトキノンジアジド鋼をノボラック樹脂と組合せた
感光性樹脂な挙けることかで龜る。このオルト命ノンジ
アジドＩＩ紘光を受けるとアルカリ可溶性になるのでポ
ジ・ワーク用素材として重要である。
を組合せた感光性樹脂としては、２，３．４−）リオ中
シペン、シフエノンービス−ξす７ト中ノン−１，２−
ジアジド−８，５−スルホン駿エステル〕、２−〔ナフ
トキノン−１，２−ジアジド−５−スルホニルオキシ〕
−ヒトｐキシ−７−ナフタリン、ナフトキノン−１，２
−ジアジド−５−スルフアシリド、ナ７）キノン−１，
２−ジアジド−５−スルホン駿ノボラックエステルなど
のオルトキノンジアジド鋼をノボラック樹脂と組合せた
感光性樹脂な挙けることかで龜る。このオルト命ノンジ
アジドＩＩ紘光を受けるとアルカリ可溶性になるのでポ
ジ・ワーク用素材として重要である。
前記０ジアゾ樹脂と水幡性樹脂あるい昧アルカリ可溶性
樹脂とを組み合せた感光楓樹脂としては、芳書族ジアゾ
ニウム−と活性カルボニル含有化合物１、殊にアルデヒ
ド傾例えばホルムアルデヒドとを酸性媒体中で細合した
水溶性ジアゾ樹脂、あるいれ前記水溶性ジアゾ樹脂のア
ニオン成分をＢＰ；。
樹脂とを組み合せた感光楓樹脂としては、芳書族ジアゾ
ニウム−と活性カルボニル含有化合物１、殊にアルデヒ
ド傾例えばホルムアルデヒドとを酸性媒体中で細合した
水溶性ジアゾ樹脂、あるいれ前記水溶性ジアゾ樹脂のア
ニオン成分をＢＰ；。
ＰＦ、−１８１Ｆ、−１８ｂＦ、−１ＢｅＰ、−１ＩＯ
４−また紘有概スルホン酸塩で置換した油濤性ジアゾ樹
脂とゼラチン１ポリビニルアルコール、部分ケン化ポリ
酢酸ビニル、メチルセルロース、ヒドロｄＦシエチルセ
ルーース、ヒドロ中シブ−ピルメチルセルロース、カル
ボ中ジメチルセルρ−ス、ポリエチレングリコール、ポ
リビニルビーリドン等の水＊＊樹樹脂入スチレンメチル
メタクリレート％２ニヒドーキシエチルメタクリレート
、ダリシジルメタタリレートとアクリル酸メタクリル酸
との共重合体等のアルカリ可溶性樹脂を挙けることがで
きる。
４−また紘有概スルホン酸塩で置換した油濤性ジアゾ樹
脂とゼラチン１ポリビニルアルコール、部分ケン化ポリ
酢酸ビニル、メチルセルロース、ヒドロｄＦシエチルセ
ルーース、ヒドロ中シブ−ピルメチルセルロース、カル
ボ中ジメチルセルρ−ス、ポリエチレングリコール、ポ
リビニルビーリドン等の水＊＊樹樹脂入スチレンメチル
メタクリレート％２ニヒドーキシエチルメタクリレート
、ダリシジルメタタリレートとアクリル酸メタクリル酸
との共重合体等のアルカリ可溶性樹脂を挙けることがで
きる。
前記０ゴム−アジド系感光性樹脂としては、ｐ−７エニ
レンビスアジＦ ｓ ９−アジドベンゾフェノン、４．
４’−−、’アジドベンゾフェノン、４．４’−ジアジ
ドフェニル２メタン、４．４’−ジアジドスチルベン、
ａ、ａニージアジドカルコン、龜６−ジー（ａｌ、−ア
ジドベンザル）シターヘキすノン、Ｕ−ジー（４′−ア
ジドベ／ずル）−４−メチルジターへ命すノンなどのア
ジド化合物と、天然ゴム、合成ゴム又杜それらを種化し
たばムを組合せた感光性樹脂を挙げることがで自る。
レンビスアジＦ ｓ ９−アジドベンゾフェノン、４．
４’−−、’アジドベンゾフェノン、４．４’−ジアジ
ドフェニル２メタン、４．４’−ジアジドスチルベン、
ａ、ａニージアジドカルコン、龜６−ジー（ａｌ、−ア
ジドベンザル）シターヘキすノン、Ｕ−ジー（４′−ア
ジドベ／ずル）−４−メチルジターへ命すノンなどのア
ジド化合物と、天然ゴム、合成ゴム又杜それらを種化し
たばムを組合せた感光性樹脂を挙げることがで自る。
前記のアジド基を分子の中に組季入れた感光性樹脂とし
ては、ポリアジド安息香酸ビ呈ル％ポリアジドフタル酸
ビニル、ポリアジドスチレン、ポリピ品ルアシトベンザ
ルア七り−ル％ポリビニルアジドナフチルアセタール、
アジドベンズアルデヒド７！ノール樹脂、アジドフエ鼠
ルア４ン・ホルマリン縮合重合体ポリビニルアルコール
のアジド高分子、部分的に加水分解されたセルレースア
セテートの７ジドフタレートのどと龜セルロースのアジ
ド高分子、及びイブチン中カイインのアジド高分子など
を挙げることがで自る。
ては、ポリアジド安息香酸ビ呈ル％ポリアジドフタル酸
ビニル、ポリアジドスチレン、ポリピ品ルアシトベンザ
ルア七り−ル％ポリビニルアジドナフチルアセタール、
アジドベンズアルデヒド７！ノール樹脂、アジドフエ鼠
ルア４ン・ホルマリン縮合重合体ポリビニルアルコール
のアジド高分子、部分的に加水分解されたセルレースア
セテートの７ジドフタレートのどと龜セルロースのアジ
ド高分子、及びイブチン中カイインのアジド高分子など
を挙げることがで自る。
前記・桂皮酸系感光性樹脂としては、ポリ植皮酸ビニル
、ポジ（ｍ −＝ ） ｌ’槍皮酸ビニル）、ポリーα
−シアノ植皮酸ビニル、ポリーα−二）−植皮酸ビニル
、ポリーＩ−二ト１＋１植皮蒙ビニル、ポリ−α−りｐ
ｐＩｌ！１１１Ｌ蒙ビニル、ポリーＩ−クーｐ植皮酸ビ
ニル、ポリシンナミリデン酢酸ビニル、ポリビニルオキ
シエチルシンナメート、ポリビニルチオエチルシンナメ
ート、ポリ（２−シソナモイルオキシエチルアクリレー
））、ポリ（２−シソナモイルオキシエチルメタアクリ
レート）、ポリ（シンナ毫イルオキシ酢酸ビニル）、ポ
リ（ｐ−シンナモイルオキシビニルベンゼン）、ポリ（
ｐ−シンナ毫イルスチレン）等のビニル重合体；これら
と倫の重合体との共電金体；ポリ植皮酸グリオキシラン
濃の開票重合体；側鎖にノ＼−ゲン化アルキルを會む重
合体に感光基を有するカルボン酸塩を非プロトン性極性
溶媒中で、高分子反応を行って全部ある。いは部分的に
感光基な導入した重合体、例えばポリクールエチルビニ
ルエーテル、ポリクール酢酸ビニル、ポリ（／−タール
エチルアクリル蒙エステル）、（ポリエピクｖｚ ｋ
ｋ−ピレン、ポリエビプームεｔリン４ＩＫ１ｍ！ＩＬ
瞭若しくはその誘導体の塩を反応させて得た重金゛体；
ビニルエーテルＩＩＩＩ）カチオン重合体、例えばポリ
ビニロキシエチルシンナメートなどを挙げることかで龜
、る。
、ポジ（ｍ −＝ ） ｌ’槍皮酸ビニル）、ポリーα
−シアノ植皮酸ビニル、ポリーα−二）−植皮酸ビニル
、ポリーＩ−二ト１＋１植皮蒙ビニル、ポリ−α−りｐ
ｐＩｌ！１１１Ｌ蒙ビニル、ポリーＩ−クーｐ植皮酸ビ
ニル、ポリシンナミリデン酢酸ビニル、ポリビニルオキ
シエチルシンナメート、ポリビニルチオエチルシンナメ
ート、ポリ（２−シソナモイルオキシエチルアクリレー
））、ポリ（２−シソナモイルオキシエチルメタアクリ
レート）、ポリ（シンナ毫イルオキシ酢酸ビニル）、ポ
リ（ｐ−シンナモイルオキシビニルベンゼン）、ポリ（
ｐ−シンナ毫イルスチレン）等のビニル重合体；これら
と倫の重合体との共電金体；ポリ植皮酸グリオキシラン
濃の開票重合体；側鎖にノ＼−ゲン化アルキルを會む重
合体に感光基を有するカルボン酸塩を非プロトン性極性
溶媒中で、高分子反応を行って全部ある。いは部分的に
感光基な導入した重合体、例えばポリクールエチルビニ
ルエーテル、ポリクール酢酸ビニル、ポリ（／−タール
エチルアクリル蒙エステル）、（ポリエピクｖｚ ｋ
ｋ−ピレン、ポリエビプームεｔリン４ＩＫ１ｍ！ＩＬ
瞭若しくはその誘導体の塩を反応させて得た重金゛体；
ビニルエーテルＩＩＩＩ）カチオン重合体、例えばポリ
ビニロキシエチルシンナメートなどを挙げることかで龜
、る。
植皮酸系感光性樹脂のうち、米−４１ＶＩＰ第３．０３
０．２Ｇ−号明細書に記載されている不飽和感光性ボ替
エステル化舎物と下記の化学構造式によって表わされる
感光性樹脂との汎舎物紘きわめて好適なものである。後
者の感光性樹脂は、 〔ム〕 一〇ち−ｏａｌｏα刀−００＋Ｃ？几、冒ＯＨ七５−（
ＯＨ−ＯＨ九Ｒ４（式中、Ｒ１は水素原子、ハ田ゲン原
子、ニシリル基、又は低級アルキル基、−は２領の脂肪
族基、Ｒ，は水素原子又はニドシル基、Ｒ４は芳番核、
１及びｂ紘Ｏ又は１で、かりａ＋ｂは１又は８であ−及
び（Ｂ）アク替ル酸又はメタクリル酸を単位とする重合
物である。
０．２Ｇ−号明細書に記載されている不飽和感光性ボ替
エステル化舎物と下記の化学構造式によって表わされる
感光性樹脂との汎舎物紘きわめて好適なものである。後
者の感光性樹脂は、 〔ム〕 一〇ち−ｏａｌｏα刀−００＋Ｃ？几、冒ＯＨ七５−（
ＯＨ−ＯＨ九Ｒ４（式中、Ｒ１は水素原子、ハ田ゲン原
子、ニシリル基、又は低級アルキル基、−は２領の脂肪
族基、Ｒ，は水素原子又はニドシル基、Ｒ４は芳番核、
１及びｂ紘Ｏ又は１で、かりａ＋ｂは１又は８であ−及
び（Ｂ）アク替ル酸又はメタクリル酸を単位とする重合
物である。
前記のエチレン性不飽和二重結合を有する光重金層の感
光性樹脂の例としては、七ノｉ−とその重金性結合体に
関して米−特許第２７１１０８８号および第１０６０（
１６号明細書などに詳述されているが、七ツマ−の一例
として多価アルコールの７（クリル酸エステル及びメタ
クリル酸エステルが適轟であり、たとえばエチレングリ
コール、トリエチレングリコール、テトラエチレングリ
フール、ブーピレングリコール、トリメチ−−ルプーパ
ン、ペンタエリスリトール、ネオペンチルグリプール等
のアクリル酸あるいはメタクリル酸エステルを例−とし
て拳−げることがで龜る。ビスフェノールＡから変性誘
導されたアクリル酸、メタクリル酸のニススル、例えば
ビスフェノールムーエビクールヒピレン系エポキシ樹脂
プレポリマーとアクリル酸あるいはメタクリル酸との反
応生成物、ビスフェノール人のアル中しンオ中シト付加
体あるいはその水素添加愉のアクリル酸、メタクリル酸
エステル等を使用し得る。その他メチレンビスアクリル
アミド、エチレンビスアクリルアｌドならびにエチレン
ジアミン、ブーピレンシフ４ン。
光性樹脂の例としては、七ノｉ−とその重金性結合体に
関して米−特許第２７１１０８８号および第１０６０（
１６号明細書などに詳述されているが、七ツマ−の一例
として多価アルコールの７（クリル酸エステル及びメタ
クリル酸エステルが適轟であり、たとえばエチレングリ
コール、トリエチレングリコール、テトラエチレングリ
フール、ブーピレングリコール、トリメチ−−ルプーパ
ン、ペンタエリスリトール、ネオペンチルグリプール等
のアクリル酸あるいはメタクリル酸エステルを例−とし
て拳−げることがで龜る。ビスフェノールＡから変性誘
導されたアクリル酸、メタクリル酸のニススル、例えば
ビスフェノールムーエビクールヒピレン系エポキシ樹脂
プレポリマーとアクリル酸あるいはメタクリル酸との反
応生成物、ビスフェノール人のアル中しンオ中シト付加
体あるいはその水素添加愉のアクリル酸、メタクリル酸
エステル等を使用し得る。その他メチレンビスアクリル
アミド、エチレンビスアクリルアｌドならびにエチレン
ジアミン、ブーピレンシフ４ン。
ブチレンジアミン、ベジタメチレンジア１７％のジアミ
ンのビスアタリ・ルアミド叉はビスメタクリルアｌド、
ジオニル１ノアタリレ−）もしくはジオニル１ノアタリ
レートとジイソシアネートとの反応生成物、トリアＩリ
ルホ゛ルｉ−ル又はトリアリルシアヌＶ−）轡も１！屡
することが′Ｃ自る。
ンのビスアタリ・ルアミド叉はビスメタクリルアｌド、
ジオニル１ノアタリレ−）もしくはジオニル１ノアタリ
レートとジイソシアネートとの反応生成物、トリアＩリ
ルホ゛ルｉ−ル又はトリアリルシアヌＶ−）轡も１！屡
することが′Ｃ自る。
本発−の一饋形成材％に用いられる金属中レート化剤と
は支持体上ＫＩ１１すられた金属薄層の金属とエツチン
グ時に命し−Ｆ化舎゛物を作りうるものをいう、金属キ
レート化轡としては例えば「金属中レージ化合物」（ニ
ー・イー・マーチル、エム−カルピン著、共立出１［）
Ｋｌｅ載され【いるものを用いることがで龜る。
は支持体上ＫＩ１１すられた金属薄層の金属とエツチン
グ時に命し−Ｆ化舎゛物を作りうるものをいう、金属キ
レート化轡としては例えば「金属中レージ化合物」（ニ
ー・イー・マーチル、エム−カルピン著、共立出１［）
Ｋｌｅ載され【いるものを用いることがで龜る。
本発ｌＩＫ用いられる金属中レート化剤の代表的な具体
例として社、ｉ−ン酸、シ島つ酸、プへＩ職及びそれら
の塩等のカルボン酸（塩）ｓｉ、エチレンジアミン、ジ
エチレントリ、アミン、ブーピレンジアミン等の脂肪族
アミンＩＩＩ、 ２．ｒ−ジピリジル、フェナン）−
リン等の芳書窮アｉ ／１１１％アラニン、ア゛スパラ
ギン蒙、グリシン、ダルタ１ン駿、ブーリン及びそれら
の塩等の天然７１ノ酸及びペプチド類、イミノジ酢酸、
ニトリ−トリ酢ｍｔ”５−ジアミンシクロヘキサン−Ｎ
、ｆｆ−テトラ酢酸。
例として社、ｉ−ン酸、シ島つ酸、プへＩ職及びそれら
の塩等のカルボン酸（塩）ｓｉ、エチレンジアミン、ジ
エチレントリ、アミン、ブーピレンジアミン等の脂肪族
アミンＩＩＩ、 ２．ｒ−ジピリジル、フェナン）−
リン等の芳書窮アｉ ／１１１％アラニン、ア゛スパラ
ギン蒙、グリシン、ダルタ１ン駿、ブーリン及びそれら
の塩等の天然７１ノ酸及びペプチド類、イミノジ酢酸、
ニトリ−トリ酢ｍｔ”５−ジアミンシクロヘキサン−Ｎ
、ｆｆ−テトラ酢酸。
エチレンジアミンテトラ酢酸、トリメチレンシアｌンテ
トラ酢蒙及びそれらの塩等の７２ン酸類、クエン酸、酒
石酸及びそれらの塩等のオキシ酸類。
トラ酢蒙及びそれらの塩等の７２ン酸類、クエン酸、酒
石酸及びそれらの塩等のオキシ酸類。
ビーリン酸、トリリン酸等の縮合リン酸、二）口酢蒙、
Ｏ−二）−安息香酸及びそれらの塩等のニド−カルボン
酸類、サリチルアルデヒド、６−スルホすりチルアルデ
にド及びそれらの塩等のサリチルアルデヒド及び七の誘
導体類、アセチルアセトン、７−イルアセトン等の！−
ジケトン類、８−オキシ午ノリン、オルトオ命シキノリ
ン、龜４−ジオキシキノリン、５−５）−キノシン、５
−エト―−２−アミ／・フェノール、４−ニドｐ−２−
７ミノフエノール及びそれら９塩勢のフェノール誘導体
、λ３−ジしドー會シナフタレンー６−スルホン酸、１
−アミノ−２−ナフタレン・−４−スルホン酸、１−ニ
ド−ソー２−ヒトｐ中シナフタレンー３．６−ジスルホ
ン酸、１．２−ナフ）會ノソー４−スルホン酸及ｄそれ
らの塩等のナフタレン−導体、アリザリン、アリザリン
レッド８．アリザリンブルー８％′アリザリンサフ：イ
ーール８ｍ。
Ｏ−二）−安息香酸及びそれらの塩等のニド−カルボン
酸類、サリチルアルデヒド、６−スルホすりチルアルデ
にド及びそれらの塩等のサリチルアルデヒド及び七の誘
導体類、アセチルアセトン、７−イルアセトン等の！−
ジケトン類、８−オキシ午ノリン、オルトオ命シキノリ
ン、龜４−ジオキシキノリン、５−５）−キノシン、５
−エト―−２−アミ／・フェノール、４−ニドｐ−２−
７ミノフエノール及びそれら９塩勢のフェノール誘導体
、λ３−ジしドー會シナフタレンー６−スルホン酸、１
−アミノ−２−ナフタレン・−４−スルホン酸、１−ニ
ド−ソー２−ヒトｐ中シナフタレンー３．６−ジスルホ
ン酸、１．２−ナフ）會ノソー４−スルホン酸及ｄそれ
らの塩等のナフタレン−導体、アリザリン、アリザリン
レッド８．アリザリンブルー８％′アリザリンサフ：イ
ーール８ｍ。
モノソール７／シン８８％アリザνンボルＷ−、アント
ラキノン−α−スルホン酸、アントラ命ノンーＩ−スル
ホン駿、アンドツキノン−ｔ、ｑ−ジ・スルホン酸、ア
ントラ命ノンー１．１−ジスルホン酸、アントラキノン
−雪、６−ジスルホン酸、アントラ中ノンー２．７−ジ
スルホン酸及びそれらの塩等の、アントラ命ノン誘導体
、エリオタームプ？ツタＴ１エリオクームブラックＡ等
のオルト矛キシ７ゾ化会物がある。
ラキノン−α−スルホン酸、アントラ命ノンーＩ−スル
ホン駿、アンドツキノン−ｔ、ｑ−ジ・スルホン酸、ア
ントラ命ノンー１．１−ジスルホン酸、アントラキノン
−雪、６−ジスルホン酸、アントラ中ノンー２．７−ジ
スルホン酸及びそれらの塩等の、アントラ命ノン誘導体
、エリオタームプ？ツタＴ１エリオクームブラックＡ等
のオルト矛キシ７ゾ化会物がある。
前記金属中レート化剤を、前記金属薄層以外の少くとも
一層に含有せしめ◆態様は、金属薄層上に設電すられた
感光性樹脂層中に一人する場合、中間層（金属薄層と感
光ＩＩ！ｋｌｌＩ脂層９間）Ｗｃｉａ人する場合、下引
層（支持体と金属一層の間）Ｋｌｌ入する場合、感光性
樹脂層上に、軟げられる保一層に楓入する場合の４通り
の場合が代表的＾体例であるが、これらの２以上の親会
せの場合もあり、七の他具体的には、自わめて多種多様
な態様の層構成とすることかで自る。
一層に含有せしめ◆態様は、金属薄層上に設電すられた
感光性樹脂層中に一人する場合、中間層（金属薄層と感
光ＩＩ！ｋｌｌＩ脂層９間）Ｗｃｉａ人する場合、下引
層（支持体と金属一層の間）Ｋｌｌ入する場合、感光性
樹脂層上に、軟げられる保一層に楓入する場合の４通り
の場合が代表的＾体例であるが、これらの２以上の親会
せの場合もあり、七の他具体的には、自わめて多種多様
な態様の層構成とすることかで自る。
金属キレート化剤の添加ＩＫついては、前記層構成のそ
れぞれの場合により添加量は異なるが。
れぞれの場合により添加量は異なるが。
約０．００１ｆ／−以上、４１に好ましくは約Ｏ，ｏｔ
ｒ／−以上である。
ｒ／−以上である。
本発明に係る金属画儂形成材料を間開するには、まず特
定した支持体表１１Ｋｇ！！！蒸着法中スパッタリング
法、イオンプレーティンダ法、電着法、電気泳動法、気
相析出法、スプレー法など各種の方法によって所望の金
属層を形成せしめ、さらにその上Ｋ（必ｌＩＫ応じ中間
層を介して）感光性樹脂層そ必要に応じ保■層）を形成
せしめるととによって行なわれる。感光性樹脂層中に金
属層レート化剤を混入させる場合、感光性樹脂層を形成
せしめる塗布、ｗｌ、とじて杜、前述した６種の感光性
樹脂から選ばれたｌり又は複数個の樹脂と共に金属中レ
ート化剤を水あるいは有ＪＩＩＩｍＫよ２−Ｃ清液とす
る。必要に応じて設けられる感光！と金属薄層間の中間
層支持体と金属薄層め間の下勤層あるいは感光性樹脂層
上の保一層中に金属やレート化剤を混入する場合は、そ
れら令層ｋＩＭ層される材料と共に金属キレニド重剤を
水あるい唸有ＩＩＩＩＩＩＩ＆によりて５ｉｌｋとする
。このよ５ＫＬで調勇した朧布液は、たと１＋ｔａ−ツ
ー塗布法、エアナイフ塗布法、浸漬法、カーテン塗布法
、スプレー塗布法など公知の塗布両法によって前記の金
属層上Ｋｌｋ布し乾燥せしめることＫよりて感光性樹脂
層を形成せしめるのであ◆。感光性樹脂層のＳ燥犀さと
しては６．１〜１０μｍｍであればよい、薄す「る場合
にはレジスジ層として弱いものであり、厚す「る場合は
一ツチ／ダに過大な時間がかかり、＃ｔつ露光儂に対応
した正確な＠＠ｆ）Ｖシスト画儂が噴きなくなるという
問題を生ずることがある。金属キレーシ化剤の混入場所
の選定は、使用する感光性樹脂の種類、エツチング液あ
る−はエツチング方法（−浴か二浴か）等によって行な
うが、金属薄層のためのエツチング諌の供給時に非画會
郁に金属層レート化剤が存在しているとと一必喪である
。
定した支持体表１１Ｋｇ！！！蒸着法中スパッタリング
法、イオンプレーティンダ法、電着法、電気泳動法、気
相析出法、スプレー法など各種の方法によって所望の金
属層を形成せしめ、さらにその上Ｋ（必ｌＩＫ応じ中間
層を介して）感光性樹脂層そ必要に応じ保■層）を形成
せしめるととによって行なわれる。感光性樹脂層中に金
属層レート化剤を混入させる場合、感光性樹脂層を形成
せしめる塗布、ｗｌ、とじて杜、前述した６種の感光性
樹脂から選ばれたｌり又は複数個の樹脂と共に金属中レ
ート化剤を水あるいは有ＪＩＩＩｍＫよ２−Ｃ清液とす
る。必要に応じて設けられる感光！と金属薄層間の中間
層支持体と金属薄層め間の下勤層あるいは感光性樹脂層
上の保一層中に金属やレート化剤を混入する場合は、そ
れら令層ｋＩＭ層される材料と共に金属キレニド重剤を
水あるい唸有ＩＩＩＩＩＩＩ＆によりて５ｉｌｋとする
。このよ５ＫＬで調勇した朧布液は、たと１＋ｔａ−ツ
ー塗布法、エアナイフ塗布法、浸漬法、カーテン塗布法
、スプレー塗布法など公知の塗布両法によって前記の金
属層上Ｋｌｋ布し乾燥せしめることＫよりて感光性樹脂
層を形成せしめるのであ◆。感光性樹脂層のＳ燥犀さと
しては６．１〜１０μｍｍであればよい、薄す「る場合
にはレジスジ層として弱いものであり、厚す「る場合は
一ツチ／ダに過大な時間がかかり、＃ｔつ露光儂に対応
した正確な＠＠ｆ）Ｖシスト画儂が噴きなくなるという
問題を生ずることがある。金属キレーシ化剤の混入場所
の選定は、使用する感光性樹脂の種類、エツチング液あ
る−はエツチング方法（−浴か二浴か）等によって行な
うが、金属薄層のためのエツチング諌の供給時に非画會
郁に金属層レート化剤が存在しているとと一必喪である
。
上記の如くして調勇された金属−ｌＩ形成材料には、公
知の技術により感光性樹脂層に対し？＊露光を行ない、
エツチング処理液により感光性樹脂層を現像し、同時Ｋ
（１１法）又は次いで（２浴法）金属薄層のエツチング
を行ない、所望により感光性樹脂層によるレジストを除
去するととＫより、目的の金属画儂士得ることができる
。
知の技術により感光性樹脂層に対し？＊露光を行ない、
エツチング処理液により感光性樹脂層を現像し、同時Ｋ
（１１法）又は次いで（２浴法）金属薄層のエツチング
を行ない、所望により感光性樹脂層によるレジストを除
去するととＫより、目的の金属画儂士得ることができる
。
本発１１！に係る金属画儂形成材料は、支持体上の金属
薄層以外の少なくとも一層に金属キレート化剤を含有し
ているため、レジスジを浸さないＳｔの−いアルカリ、
酸、酸化剤水ｉｎｉ等の金属エツチング液を用いても充
分短時間のエツチングＩＩ＆臘が可能で作業時間が大巾
ＫＩ［縮される一方、工９ツチング部分のエッヂのシャ
ープネスが良好な画儂が得られる。
薄層以外の少なくとも一層に金属キレート化剤を含有し
ているため、レジスジを浸さないＳｔの−いアルカリ、
酸、酸化剤水ｉｎｉ等の金属エツチング液を用いても充
分短時間のエツチングＩＩ＆臘が可能で作業時間が大巾
ＫＩ［縮される一方、工９ツチング部分のエッヂのシャ
ープネスが良好な画儂が得られる。
以下、実施例を挙げて本発明を例証するが、本発明ｑ）
ｌＫ施態様は、これらＫ１１ｌ定されない。
ｌＫ施態様は、これらＫ１１ｌ定されない。
実施例Ｉ
Ｕ約４００１１ｆを真空蒸着義置内に配置されている紅
、０．ボート中に入れ、厚さ１００ｊｉのポリエチレン
デレ７タレートフィルム（支持体）を、上記ｍ弗源から
の距離が約８０ ａｍ Ｋなるように真空蒸着装置内に
配置し一真空直５ Ｘ １０−” Ｔａｒｔのもとで厚
さ８００＾のＭ蒸着膜を得た。この蒸着膜上に下記の感
光性樹脂組成物を乾燥後の膜厚がＬＢｓとなるようにホ
ヮラー塗布し、１００′ｃ＠燥−中で６分間乾燥した。
、０．ボート中に入れ、厚さ１００ｊｉのポリエチレン
デレ７タレートフィルム（支持体）を、上記ｍ弗源から
の距離が約８０ ａｍ Ｋなるように真空蒸着装置内に
配置し一真空直５ Ｘ １０−” Ｔａｒｔのもとで厚
さ８００＾のＭ蒸着膜を得た。この蒸着膜上に下記の感
光性樹脂組成物を乾燥後の膜厚がＬＢｓとなるようにホ
ヮラー塗布し、１００′ｃ＠燥−中で６分間乾燥した。
このようにして得られた金属画像形成材料の試料を―電
プリンターＵｐ−６（ＩＩＮメタルハライドランプ、上
野化学展）を行い、綱点鳳稿を通して！Ｏ参間パターン
露光し、０．ＩＮの水酸化ナトシウム水Ｓ液中に、液Ｉ
Ｉ３・Ｓ℃で３０参鴎浸漬した。
プリンターＵｐ−６（ＩＩＮメタルハライドランプ、上
野化学展）を行い、綱点鳳稿を通して！Ｏ参間パターン
露光し、０．ＩＮの水酸化ナトシウム水Ｓ液中に、液Ｉ
Ｉ３・Ｓ℃で３０参鴎浸漬した。
未露光部の一金属薄層は完全Ｋｌｋ、去される一方、露
光部の金属薄層線原稿とはぼ完全Ｋ１１ｌｌが逆転し。
光部の金属薄層線原稿とはぼ完全Ｋ１１ｌｌが逆転し。
網点のエッヂのシャープネスも嵐好であることが確認さ
れた。
れた。
これに対し、上記感光性樹脂組成物中からアントラキノ
ン−λ６−ジスルホン酸を除いた感光性樹脂組成物で同
様に金属画會形成材料を作成し。
ン−λ６−ジスルホン酸を除いた感光性樹脂組成物で同
様に金属画會形成材料を作成し。
上記エツチング液で処理したところ、エツチング時間も
３分間の置時間を要し、出来上がつた網点画像のエッチ
のシャープネスが悪いことが確認された。
３分間の置時間を要し、出来上がつた網点画像のエッチ
のシャープネスが悪いことが確認された。
１！柳例２
Ａｔ！Ｆｅ舎金の適量を真空蒸着装置内に配置されてい
るＭ、０．ボーシ中に入れ、厚さ１００μのポリエチレ
ンテレフタレートフィルム（支持体）ヲ、上記蒸発源か
らのｉｍｉ＊が約３０５１になるよ５に真空蒸着装置内
Ｋｆ！ｔＬ、真空度！！ Ｘ １０−’Ｔｏｒｒのもと
で厚さ８００Ａのアルミニつ五−鉄合金フィルムを得た
。この蒸着膜上に下記の感光性樹脂組成物を乾燥後の膜
厚１０ｓの厚さにホワラー塗布した。
るＭ、０．ボーシ中に入れ、厚さ１００μのポリエチレ
ンテレフタレートフィルム（支持体）ヲ、上記蒸発源か
らのｉｍｉ＊が約３０５１になるよ５に真空蒸着装置内
Ｋｆ！ｔＬ、真空度！！ Ｘ １０−’Ｔｏｒｒのもと
で厚さ８００Ａのアルミニつ五−鉄合金フィルムを得た
。この蒸着膜上に下記の感光性樹脂組成物を乾燥後の膜
厚１０ｓの厚さにホワラー塗布した。
次いで、その上に、保一層として、下記の保■組成物を
２．０μの犀さにホワラー塗布した。
２．０μの犀さにホワラー塗布した。
この上５ｅＣして得られた試料を実施例１と同様に露光
し、０． Ｉ Ｎ水酸化すＦリウム水＊＊中Ｋｆｆｌ潰
したところ、９％２Ｂ’Ｃ，、扱潰時間ｊＯ験において
未露光部の金属薄層紘兜会に除去される一方、露光部の
金属薄層は原稿と＃を埋完全に＠暗が逆転し、網点のエ
ッヂのシャープネスの嵐好であることが親御された。
し、０． Ｉ Ｎ水酸化すＦリウム水＊＊中Ｋｆｆｌ潰
したところ、９％２Ｂ’Ｃ，、扱潰時間ｊＯ験において
未露光部の金属薄層紘兜会に除去される一方、露光部の
金属薄層は原稿と＃を埋完全に＠暗が逆転し、網点のエ
ッヂのシャープネスの嵐好であることが親御された。
実施例３
ＩＩｌ施例１と同様にし１作成したＵ蒸着膜上に、下記
の親戚で接着層（中間層）を乾燥後の膜厚１μの犀さに
ホヮラー塗布した。
の親戚で接着層（中間層）を乾燥後の膜厚１μの犀さに
ホヮラー塗布した。
次いで、その上に下記の感光性樹脂組成物を乾燥後の膜
厚２．０μの厚さにホワラー塗布した。
厚２．０μの厚さにホワラー塗布した。
このよ５Ｋｔ、て得られた試料をｌｌ！膣例１と同様に
露光し、水道水で１０秒間′ｇＡＩＩシた０次いで、こ
の試料を１００℃で５分間熱処理した後、０．ＩＮの水
酸化ナトリウム水Ｓ＊中に浸漬したところ、液温２５℃
、浸漬時間３０秒において未露光部の金属薄層は完全に
除去される一方、露光部の金属薄層は原稿とはぼ完全に
明暗が逆転し、網点のエッヂのシャープネスの嵐好であ
ることが確認された。
露光し、水道水で１０秒間′ｇＡＩＩシた０次いで、こ
の試料を１００℃で５分間熱処理した後、０．ＩＮの水
酸化ナトリウム水Ｓ＊中に浸漬したところ、液温２５℃
、浸漬時間３０秒において未露光部の金属薄層は完全に
除去される一方、露光部の金属薄層は原稿とはぼ完全に
明暗が逆転し、網点のエッヂのシャープネスの嵐好であ
ることが確認された。
貴論儒４
厚さ１００μのポリエチレンテレフタレージフィルム（
支持体）士に１下記の組成で、下引層を乾ｍｓの膜厚ｌ
μになるように塗布した。
支持体）士に１下記の組成で、下引層を乾ｍｓの膜厚ｌ
μになるように塗布した。
次に、この上に実施例！とｐｉＩ＠に、Ａｔ１１着膜を
設け、さらＫその上に下記組成の感光性樹脂層を乾燥後
の膜厚２．５μになるようＫＩｋ布した。
設け、さらＫその上に下記組成の感光性樹脂層を乾燥後
の膜厚２．５μになるようＫＩｋ布した。
このようにして得られた感光材料の試料を実施例１と同
様に露光し、構会したととろ、液温２ｓ℃、浸漬時間３
５秒において露光部の金属薄層は完全に除去される一方
、未露光部の金属薄層は原稿とはは完全Ｋ１１ｌｌが対
応し、網点のエッヂのシャープ卑ス良好な画像が得られ
た。
様に露光し、構会したととろ、液温２ｓ℃、浸漬時間３
５秒において露光部の金属薄層は完全に除去される一方
、未露光部の金属薄層は原稿とはは完全Ｋ１１ｌｌが対
応し、網点のエッヂのシャープ卑ス良好な画像が得られ
た。
特許出願人 小函六零真工県株式金社
代通人弁履士 坂 口 儒 昭（ほか１名）
Claims (1)
- 支持体上に金属薄層を有し、その上に感光性樹脂層を有
する金属画像形成材料にお−１て、支持体上の前記金属
薄層以外の少なくとも一層に金属キレート化剤を含有せ
しめたことを特徴とする金属画像形成材料。
Priority Applications (6)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP56181747A JPS5883846A (ja) | 1981-11-14 | 1981-11-14 | 金属画像形成材料 |
| US06/439,427 US4455364A (en) | 1981-11-14 | 1982-11-05 | Process for forming metallic image, composite material for the same |
| GB08232192A GB2113152B (en) | 1981-11-14 | 1982-11-11 | Process for forming metallic image composite material for the same and treating solution for the same( |
| DE19823241980 DE3241980A1 (de) | 1981-11-14 | 1982-11-12 | Verfahren zur erzeugung eines metallischen bildes sowie verbundmaterial und behandlungsloesung dafuer |
| GB08428642A GB2155861A (en) | 1981-11-14 | 1984-11-13 | A treating solution for use in forming metallic images |
| GB8428641A GB2156088B (en) | 1981-11-14 | 1984-11-13 | A composite material for forming metallic images |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP56181747A JPS5883846A (ja) | 1981-11-14 | 1981-11-14 | 金属画像形成材料 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5883846A true JPS5883846A (ja) | 1983-05-19 |
| JPH0145896B2 JPH0145896B2 (ja) | 1989-10-05 |
Family
ID=16106171
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP56181747A Granted JPS5883846A (ja) | 1981-11-14 | 1981-11-14 | 金属画像形成材料 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5883846A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0450845A (ja) * | 1990-06-14 | 1992-02-19 | Toyo Ink Mfg Co Ltd | レリーフ樹脂印刷版 |
Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5095004A (ja) * | 1973-12-24 | 1975-07-29 | ||
| JPS50139720A (ja) * | 1974-04-25 | 1975-11-08 | ||
| GB1434894A (en) * | 1974-03-01 | 1976-05-05 | Pennwalt Corp | Aluminium etching |
| GB1562586A (en) * | 1978-05-12 | 1980-03-12 | Pennwalt Corp | Aluminium etching |
| JPS5538510A (en) * | 1978-09-11 | 1980-03-18 | Hitachi Ltd | Photosensitive composition |
-
1981
- 1981-11-14 JP JP56181747A patent/JPS5883846A/ja active Granted
Patent Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5095004A (ja) * | 1973-12-24 | 1975-07-29 | ||
| GB1434894A (en) * | 1974-03-01 | 1976-05-05 | Pennwalt Corp | Aluminium etching |
| JPS50139720A (ja) * | 1974-04-25 | 1975-11-08 | ||
| GB1562586A (en) * | 1978-05-12 | 1980-03-12 | Pennwalt Corp | Aluminium etching |
| JPS5538510A (en) * | 1978-09-11 | 1980-03-18 | Hitachi Ltd | Photosensitive composition |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0450845A (ja) * | 1990-06-14 | 1992-02-19 | Toyo Ink Mfg Co Ltd | レリーフ樹脂印刷版 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0145896B2 (ja) | 1989-10-05 |
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