JPS58174943A - 放射線感受性ネガチブ作用組成物 - Google Patents
放射線感受性ネガチブ作用組成物Info
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- JPS58174943A JPS58174943A JP58011230A JP1123083A JPS58174943A JP S58174943 A JPS58174943 A JP S58174943A JP 58011230 A JP58011230 A JP 58011230A JP 1123083 A JP1123083 A JP 1123083A JP S58174943 A JPS58174943 A JP S58174943A
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- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
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- G03F7/021—Macromolecular diazonium compounds; Macromolecular additives, e.g. binders
- G03F7/0212—Macromolecular diazonium compounds; Macromolecular additives, e.g. binders characterised by the polymeric binder or the macromolecular additives other than the diazo resins or the polymeric diazonium compounds
- G03F7/0217—Polyurethanes; Epoxy resins
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- G—PHYSICS
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- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/008—Azides
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明はネガチプ作用放射線感受性組成物に関する。更
に詳しくは本発明は、ネガチプ作用平版印刷版の製造に
有用な画像性要素の調製に使用することができるネガチ
プ作用放射線感受性組成物および上記要素、並びに該要
素から製造される平版印刷版に関する。
に詳しくは本発明は、ネガチプ作用平版印刷版の製造に
有用な画像性要素の調製に使用することができるネガチ
プ作用放射線感受性組成物および上記要素、並びに該要
素から製造される平版印刷版に関する。
平版印刷の技術は、油と水の不混和性、@g!!都によ
る油性画叡形成物質の優先保留、2よび非画像部による
水性湿潤液体の類似保留に左右される。
る油性画叡形成物質の優先保留、2よび非画像部による
水性湿潤液体の類似保留に左右される。
油性N像を過当な表面に捺印しく 1rnprinす、
次いで全表面を水溶液で加湿する時、画像部は水をはじ
き、非画像部は水を保留するだろう。次に油性インキを
適用すると、画像部はインキを保留するが、加湿非画像
部はインキをはじく。次いで画葭部のインキは、鏡輩印
刷を防止するのに必要な媒介体、いわゆるオフセットま
たはブランケットシリンダーを介して、紙、布、その他
などの=懺を複写(再現)すべき物質の表面に転写され
る。
次いで全表面を水溶液で加湿する時、画像部は水をはじ
き、非画像部は水を保留するだろう。次に油性インキを
適用すると、画像部はインキを保留するが、加湿非画像
部はインキをはじく。次いで画葭部のインキは、鏡輩印
刷を防止するのに必要な媒介体、いわゆるオフセットま
たはブランケットシリンダーを介して、紙、布、その他
などの=懺を複写(再現)すべき物質の表面に転写され
る。
本発明が関連するタイプの平版印刷版は、平版印刷」に
適当な支持材料の少なくとも1つの面に放射線感受性組
成物の被膜を付着したことから成る筐たは ワイプオン
版 と指称されるもので、これらはそれぞれ被膜が製造
業者または平版印刷者によって基材物質に過当されるか
どうかに左右される。便用する放射線感受性被膜の性質
に応じて、処理した要素を用い露光して画像全直接再現
してもよく(この場合、ボシチプ作用印刷版と呼ばれる
)、あるいは露光して一方を補助するIJ@像を形成し
てもよい(この場合、ネガチブ作用印刷版と呼ばれる)
。いずれの場合も、現像した印刷版の1!!!1塚部は
親油性で、非画像部は親水性でるる。
適当な支持材料の少なくとも1つの面に放射線感受性組
成物の被膜を付着したことから成る筐たは ワイプオン
版 と指称されるもので、これらはそれぞれ被膜が製造
業者または平版印刷者によって基材物質に過当されるか
どうかに左右される。便用する放射線感受性被膜の性質
に応じて、処理した要素を用い露光して画像全直接再現
してもよく(この場合、ボシチプ作用印刷版と呼ばれる
)、あるいは露光して一方を補助するIJ@像を形成し
てもよい(この場合、ネガチブ作用印刷版と呼ばれる)
。いずれの場合も、現像した印刷版の1!!!1塚部は
親油性で、非画像部は親水性でるる。
ネガチブ透明lJ@を介して露光されるネガチプ作用要
素の場合、放射線感受性物質(通常、ジアゾニワム化合
物)は硬化せしめられ、これによって放射線露光後に放
射線感受性被膜の放射機硬化しない(ネガチプによって
放射線から保護されているからノ部分全除去するため、
要素に適用される不感脂化(即ち、脱膜)組成物に不溶
となる。ネガチプ作用印刷版の硬化面は油性インキと相
溶する親油性面であって、これは 画像部 と呼ばれる
。不惑脂化剤で未硬化の放射線感受性物質を除去した而
は、油性インキに対してほとんど親和性を有さない親水
性面でるるか、またはこれに変換することができ、 非
画像部 と呼ばれる。
素の場合、放射線感受性物質(通常、ジアゾニワム化合
物)は硬化せしめられ、これによって放射線露光後に放
射線感受性被膜の放射機硬化しない(ネガチプによって
放射線から保護されているからノ部分全除去するため、
要素に適用される不感脂化(即ち、脱膜)組成物に不溶
となる。ネガチプ作用印刷版の硬化面は油性インキと相
溶する親油性面であって、これは 画像部 と呼ばれる
。不惑脂化剤で未硬化の放射線感受性物質を除去した而
は、油性インキに対してほとんど親和性を有さない親水
性面でるるか、またはこれに変換することができ、 非
画像部 と呼ばれる。
U、 S、特許第4171974号に3いて、ネガチブ
作用平版印刷光増W剤Bよびジアクリル化(ここで、ア
クリル化とはアクリル酸エステルまたはメタクリル酸エ
ステルのいずれをも指称するノビヌフェノールーAをベ
ースとするエボキ:z 樹脂力ら成るネガチプ作用放射
線感受性組成物が記載されている。U、S、特許第41
74307号に、ジアクリル化オリゴウレタン樹脂をベ
ースとスル類似放射線tt受性組成物が記載されている
。Iたオーストラリア特許第439241号には、ビス
フェノール類から誘導されるジェポキシ化合物のアクリ
ル酸およびメタクリル酸エステルおよび不飽和W 能1
m 3.3以下のフェノール−ホルムアルデヒドノボラ
ック樹脂から成る放射線感受性組成物が記載されている
。
作用平版印刷光増W剤Bよびジアクリル化(ここで、ア
クリル化とはアクリル酸エステルまたはメタクリル酸エ
ステルのいずれをも指称するノビヌフェノールーAをベ
ースとするエボキ:z 樹脂力ら成るネガチプ作用放射
線感受性組成物が記載されている。U、S、特許第41
74307号に、ジアクリル化オリゴウレタン樹脂をベ
ースとスル類似放射線tt受性組成物が記載されている
。Iたオーストラリア特許第439241号には、ビス
フェノール類から誘導されるジェポキシ化合物のアクリ
ル酸およびメタクリル酸エステルおよび不飽和W 能1
m 3.3以下のフェノール−ホルムアルデヒドノボラ
ック樹脂から成る放射線感受性組成物が記載されている
。
上述の組成物はそれらの低不飽和献に基づき、就中、短
い保存寿命や比較的に小さな放射線感受性ヶこうむり、
一方、該組成物か骨なる画像性要素から装造される平版
印刷版は、就中、l!S!i塚部と非=像部間の乏しい
コントラスト、!!!l像部の基材物質からの剥離、お
よび短いプレス(印刷)操業といった欠点を受けやすい
。
い保存寿命や比較的に小さな放射線感受性ヶこうむり、
一方、該組成物か骨なる画像性要素から装造される平版
印刷版は、就中、l!S!i塚部と非=像部間の乏しい
コントラスト、!!!l像部の基材物質からの剥離、お
よび短いプレス(印刷)操業といった欠点を受けやすい
。
そこで本発明によれば、画像部と非I#像部間の高度な
コントラスト、画像部の支持材料に対する大きな旨盾力
Pよび長いプレス操業を持つ平版印刷版の製盾に有用な
、長M保存寿命Pよび入きな放射嫉愁受性を有するネガ
チブ作用放射線感受注要素を調製しうることがわかった
。また本発明の特別な実施態様によれば、水性アルカリ
脱膜性であるかおよび/またはIJE像部の親油性全増
大した組成物を1gl#l製しうることかわかった。
コントラスト、画像部の支持材料に対する大きな旨盾力
Pよび長いプレス操業を持つ平版印刷版の製盾に有用な
、長M保存寿命Pよび入きな放射嫉愁受性を有するネガ
チブ作用放射線感受注要素を調製しうることがわかった
。また本発明の特別な実施態様によれば、水性アルカリ
脱膜性であるかおよび/またはIJE像部の親油性全増
大した組成物を1gl#l製しうることかわかった。
本開明の目的は、長期の保存寿命および大きな放射#J
l感受性を持つネガチブ作用放射線感受注組成物ヲ提供
することである。
l感受性を持つネガチブ作用放射線感受注組成物ヲ提供
することである。
本発明の他の目的は、水性アルカリ感受注Pよび/また
は大きな親油性全付加的に有する上記組成物を提供する
ことである。
は大きな親油性全付加的に有する上記組成物を提供する
ことである。
更に他の目的は、必要に応じて水性アルカリ現像性であ
るかおよび/または大きな親油性を有することもめる、
高度な放射緑感受注2よび保存寿命を持つ画像性要素を
提供することでるる。
るかおよび/または大きな親油性を有することもめる、
高度な放射緑感受注2よび保存寿命を持つ画像性要素を
提供することでるる。
本発明の別の目的は、長期プレス寿命、基材物質と画像
間の艮好な密着性を持ち、必要に応じてl!!!l家部
の親油性を増大したネガチプ作用平版印ルリ版を提供す
ることである。
間の艮好な密着性を持ち、必要に応じてl!!!l家部
の親油性を増大したネガチプ作用平版印ルリ版を提供す
ることである。
本発明のこれらの目的および他の目的についてその一部
は上述の通シであり、Iた一部については好ましい実施
態様の、)f軸な説明を考直すれば明らかとなろう。
は上述の通シであり、Iた一部については好ましい実施
態様の、)f軸な説明を考直すれば明らかとなろう。
本発明に従って、長期の保存寿命および庭先速pJを持
つm塚性要素並びに長期プレス定行および艮好なコント
ラストを持つ平版印刷版の装逅に有用な、長期可使時間
を持つ放射板感受性ネガチブ作用組成物が提供きれる。
つm塚性要素並びに長期プレス定行および艮好なコント
ラストを持つ平版印刷版の装逅に有用な、長期可使時間
を持つ放射板感受性ネガチブ作用組成物が提供きれる。
即ち、本発明によれば、2つ以上の班台官能訓?!−持
つ放射線j匹受性不ガチプ作用樹脂が提供され、これU
O−エポキシアルキル化テトラキヌ(ヒドロキシフェニ
ルノアルカン樹脂または1当麓の0−エポキシアルキル
化樹脂と1当重以下の有機酸(該有恢酸は置換または非
置換エチレン性七〕Iたはポリ不飽和酸の少なくとも1
橿を包含する)の生成物であるエステルである。
つ放射線j匹受性不ガチプ作用樹脂が提供され、これU
O−エポキシアルキル化テトラキヌ(ヒドロキシフェニ
ルノアルカン樹脂または1当麓の0−エポキシアルキル
化樹脂と1当重以下の有機酸(該有恢酸は置換または非
置換エチレン性七〕Iたはポリ不飽和酸の少なくとも1
橿を包含する)の生成物であるエステルである。
テトフキスアル−カン樹刀aとしては、式:〔式中、m
ば0〜10、好1しくは0〜2の整数、n 2−よびP
はその合計が0〜lO1好”tL、<は0〜2となる整
数である。〕 のものが好lしい。敢も好萱しくは、m、n$iよびP
は0でめる。かかる樹脂は二重重合もしくは三電■介し
た形状でまたはそれらの各榎混会物として存在しうる。
ば0〜10、好1しくは0〜2の整数、n 2−よびP
はその合計が0〜lO1好”tL、<は0〜2となる整
数である。〕 のものが好lしい。敢も好萱しくは、m、n$iよびP
は0でめる。かかる樹脂は二重重合もしくは三電■介し
た形状でまたはそれらの各榎混会物として存在しうる。
かかる〇−エポキシアルキル化樹脂の1例は、商品名「
Epon1031J下で市販の麺業上入手しうる樹脂で
あるl、 1.2.2.−テトラキス[(2,8,−エ
ボキシグロボキシフフェニル〕エタンでめって、これは
エポキシ当型210゜2402よびガードナー−ホルト
粘度(25℃)24〜28を有する。
Epon1031J下で市販の麺業上入手しうる樹脂で
あるl、 1.2.2.−テトラキス[(2,8,−エ
ボキシグロボキシフフェニル〕エタンでめって、これは
エポキシ当型210゜2402よびガードナー−ホルト
粘度(25℃)24〜28を有する。
本発明の樹脂の装造に有用なエチレン注不飽和酸として
は、カルボン酸(filえばアクリル酸、メタクリル酸
、桂凍酸、クロトン酸、オレイン酸、リノール酸および
リルン酸等)、ヌルホン酸2よびホスホン酸並びにこれ
らの混合物が包含される。
は、カルボン酸(filえばアクリル酸、メタクリル酸
、桂凍酸、クロトン酸、オレイン酸、リノール酸および
リルン酸等)、ヌルホン酸2よびホスホン酸並びにこれ
らの混合物が包含される。
上記エステル化樹脂は、含有する多数のヒドロキシル基
に基づき、比較的に親水性でめる。このことは望1しく
ない結果、即ちそれから誘4避れる平版印刷版を用いる
時、画像部の水含渦電の増大によって起る該印刷版の画
像部と非口像部間のコントラストの減退に基づく結果を
もたらす。従って、上記画像部の親油性を増大すること
が有利でめることがわかった。
に基づき、比較的に親水性でめる。このことは望1しく
ない結果、即ちそれから誘4避れる平版印刷版を用いる
時、画像部の水含渦電の増大によって起る該印刷版の画
像部と非口像部間のコントラストの減退に基づく結果を
もたらす。従って、上記画像部の親油性を増大すること
が有利でめることがわかった。
このため、本発明の他の実施態様によれば、親油性全増
大した放射線感受注不ガチプ作用組成物が提供され、該
組成物は上記〇−エポキシアルキル化フェノール樹脂を
上述の不期和酸および同時にまたはその後にカルボン酸
(例えばペラルゴン酸、パルミチン酸、ステアリン11
2% ) 、ヌルホン酸(例えばデカン、ヘキサデカン
寺)2よぴホスフィン酸(例えばオクタデカン、ノナン
等)2よびこれらの混合物などの長頻飽和酸と反応させ
今ことによジ裳慮される。
大した放射線感受注不ガチプ作用組成物が提供され、該
組成物は上記〇−エポキシアルキル化フェノール樹脂を
上述の不期和酸および同時にまたはその後にカルボン酸
(例えばペラルゴン酸、パルミチン酸、ステアリン11
2% ) 、ヌルホン酸(例えばデカン、ヘキサデカン
寺)2よぴホスフィン酸(例えばオクタデカン、ノナン
等)2よびこれらの混合物などの長頻飽和酸と反応させ
今ことによジ裳慮される。
環境に対して害のない物質や方法を制酸したシ使用した
ジする現在の環境上の強制的見地から、他の産業と同様
当該表彰(グラフイツクノ産栗も、有機浴剤などの生態
学上望lしくない物質の依存性を減少するため水性シス
テムを基本とする物質や方法を捜し求めつつめる。上記
樹脂は先行技術を車端して改良された多くの特性を有す
るが、醐稼−光版の現隊のため有機溶剤シヌテムに依存
している。
ジする現在の環境上の強制的見地から、他の産業と同様
当該表彰(グラフイツクノ産栗も、有機浴剤などの生態
学上望lしくない物質の依存性を減少するため水性シス
テムを基本とする物質や方法を捜し求めつつめる。上記
樹脂は先行技術を車端して改良された多くの特性を有す
るが、醐稼−光版の現隊のため有機溶剤シヌテムに依存
している。
さて本発明によれば、就中、水性アルカリ感受注の放射
線感受性ネガチプ作用組成物を調製しうろこと(即ち、
該組成物から諺尋される四叙蕗元要系は水性アリカリ現
11!A’lJによって現像しうろこと〕がわかった。
線感受性ネガチプ作用組成物を調製しうろこと(即ち、
該組成物から諺尋される四叙蕗元要系は水性アリカリ現
11!A’lJによって現像しうろこと〕がわかった。
即ち、本究明のこの実IM悪様によれば、A、0−エポ
キシアルキル化フェノール圀脂またはその約1当童と1
当量以下の有機酸との反応のエステル生成物でるる放射
嶽直合性化合物、および B、放射機および水性アルカリ感受性成分の少なくとも
1種 の混合物から成る放射!iA2よび水性アル刀り惑受注
ネガチブ作用組成物が提供される。
キシアルキル化フェノール圀脂またはその約1当童と1
当量以下の有機酸との反応のエステル生成物でるる放射
嶽直合性化合物、および B、放射機および水性アルカリ感受性成分の少なくとも
1種 の混合物から成る放射!iA2よび水性アル刀り惑受注
ネガチブ作用組成物が提供される。
要すれば、上記m酸物から誘導されるl=l]刷版の画
像部の親油性を局めるため、上gt有機酸は史に上述の
飽和有機酸を包含してもよく、該困和有機醒は不飽和酸
と同時にTfcはその後に上記エポキシ化回脂と反応さ
ぞてよい。
像部の親油性を局めるため、上gt有機酸は史に上述の
飽和有機酸を包含してもよく、該困和有機醒は不飽和酸
と同時にTfcはその後に上記エポキシ化回脂と反応さ
ぞてよい。
放射機Pよび水性アルカリ感受性成分は当該分野で周知
でめり、パラージアゾシフェニルアミンレン畑、(例え
ば1−アジドピレン、6−ニトロ−1−アジドピレン、
1.6−ジアシドピレン、1゜8−ジアゾピレン、1−
プロピオニル−6−アジドピレン、1−アセチル−6−
アンドピレン、1−n−ブチリル−6−アシドピレン、
1−n−70ロピオニル−8−プロモー6−アジドピレ
ン、嘔よび3−n−プロピオニル−1,6−ジアシドピ
レン)、4−ジアゾジフェニルアミンスルフェート、1
−シアシー4−N、N−ジメチルアミノベンゼン・曳化
亜縮、l−ジアゾ−4−N、N−ジエチルアミノベンゼ
ン・嘔化亜ffi、1−シアソー(4−N−エチル−へ
−ヒドロキシエチルノアミノベンゼン・1/2塩化亜鉛
、1−ジアゾ−(4−N−メチル−N−ヒドロキシエチ
ルノアミノベンゼン・1/2橿化亜鉛、1−ジアゾ−2
,5−ジェトキシ−(4−ベンゾイルアミノ)ベンゼン
゛1/2塩化亜胎、1−ジアゾ−4−N−ベンジルアミ
ノベンゼン・]/2曳化亜鉛、1−ジアゾ−4−N。
でめり、パラージアゾシフェニルアミンレン畑、(例え
ば1−アジドピレン、6−ニトロ−1−アジドピレン、
1.6−ジアシドピレン、1゜8−ジアゾピレン、1−
プロピオニル−6−アジドピレン、1−アセチル−6−
アンドピレン、1−n−ブチリル−6−アシドピレン、
1−n−70ロピオニル−8−プロモー6−アジドピレ
ン、嘔よび3−n−プロピオニル−1,6−ジアシドピ
レン)、4−ジアゾジフェニルアミンスルフェート、1
−シアシー4−N、N−ジメチルアミノベンゼン・曳化
亜縮、l−ジアゾ−4−N、N−ジエチルアミノベンゼ
ン・嘔化亜ffi、1−シアソー(4−N−エチル−へ
−ヒドロキシエチルノアミノベンゼン・1/2塩化亜鉛
、1−ジアゾ−(4−N−メチル−N−ヒドロキシエチ
ルノアミノベンゼン・1/2橿化亜鉛、1−ジアゾ−2
,5−ジェトキシ−(4−ベンゾイルアミノ)ベンゼン
゛1/2塩化亜胎、1−ジアゾ−4−N−ベンジルアミ
ノベンゼン・]/2曳化亜鉛、1−ジアゾ−4−N。
ヘージメチルアミノベンゼン・硼弗化物、l−ジアゾ−
4−モルホリノベンゼン・1/2%化亜砒、1−ジアゾ
−4−七ルホリノベンゼン・硼弗化物、l−ジアゾ−2
,5−ジメトキシ−4−(P−トリルメルカプト)ベン
ゼン・1/2橿化亜細、l−ジアゾ−2−エトキシ−4
−N、N−ジメチルアミノベンゼン・172塩化亜鉛、
4−シアシーN。
4−モルホリノベンゼン・1/2%化亜砒、1−ジアゾ
−4−七ルホリノベンゼン・硼弗化物、l−ジアゾ−2
,5−ジメトキシ−4−(P−トリルメルカプト)ベン
ゼン・1/2橿化亜細、l−ジアゾ−2−エトキシ−4
−N、N−ジメチルアミノベンゼン・172塩化亜鉛、
4−シアシーN。
N−ジメチルアニリン・1/2塩化亜鉛、■−シアシー
4−(N、N−ジエチルアミノ)ベンゼン・1/2曳化
亜謝、l−ジアゾ−2,5−ジブトキシ−4−モルホリ
ノベンゼンスルフエート、1−シアソー2.5−ジェト
キシ−4−モルホリノベンゼン・1/2曳化亜謝、1−
ジアゾ−2,5−ジメトキシ−4−モルホリノベンゼン
・塩化亜鉛、1−ジアゾ−2,5−ジェトキシ−4−モ
ルホリノベンゼン・硼弗化物、2−ジアゾ−1−す7ト
ールー5−スルホン酸ナトリウムJi、l−シフ”/”
−4−N、N−ジエチルアミノベンゼン・硼弗化物、l
−シアシー2,5−ジェトキシ−4−p−)リルメルカ
ブトベンゼン・1/2橿化亜鉛、1−ジアゾ−3−エト
キシ−4−(N−メチル−N−ペンシルアミツノベンゼ
ン・1/2橿化亜鉛、■−ジアゾー3−クロロー4−(
N、N−ジエチルアミツノベンゼン・1/2堪化亜鉗、
1−ジアゾ−3−メチル−4−ピロリジノベンゼンクロ
リド・弧化亜耐、1−ジアゾ−3−メチル−4−ピロリ
ジノベンゼン・硼弗化物、1−ジアゾ−2−クロロ−4
−LN、N−ジメチルアミノノー5−メトキシベンゼン
・硼弗化物、l−シアシー3−メトキシ−4−ピロリジ
ノベンゼン・塩化亜鉛、および4−シアゾージフエニル
アミンスルフエートとホルムアルデヒドPよび塩化亜鉛
との節会生成物並びにシャロミル・コーサル、ジョン・
ウィリー・アンド・サンズの[Light 5ensi
tive SystemsJ(201〜214頁、ニュ
ーヨーク、1965年〕に記載のネガチブ作用ジアゾ組
成物などの化ツマ−Pよびポリマージアゾニウム化会物
が包含される。
4−(N、N−ジエチルアミノ)ベンゼン・1/2曳化
亜謝、l−ジアゾ−2,5−ジブトキシ−4−モルホリ
ノベンゼンスルフエート、1−シアソー2.5−ジェト
キシ−4−モルホリノベンゼン・1/2曳化亜謝、1−
ジアゾ−2,5−ジメトキシ−4−モルホリノベンゼン
・塩化亜鉛、1−ジアゾ−2,5−ジェトキシ−4−モ
ルホリノベンゼン・硼弗化物、2−ジアゾ−1−す7ト
ールー5−スルホン酸ナトリウムJi、l−シフ”/”
−4−N、N−ジエチルアミノベンゼン・硼弗化物、l
−シアシー2,5−ジェトキシ−4−p−)リルメルカ
ブトベンゼン・1/2橿化亜鉛、1−ジアゾ−3−エト
キシ−4−(N−メチル−N−ペンシルアミツノベンゼ
ン・1/2橿化亜鉛、■−ジアゾー3−クロロー4−(
N、N−ジエチルアミツノベンゼン・1/2堪化亜鉗、
1−ジアゾ−3−メチル−4−ピロリジノベンゼンクロ
リド・弧化亜耐、1−ジアゾ−3−メチル−4−ピロリ
ジノベンゼン・硼弗化物、1−ジアゾ−2−クロロ−4
−LN、N−ジメチルアミノノー5−メトキシベンゼン
・硼弗化物、l−シアシー3−メトキシ−4−ピロリジ
ノベンゼン・塩化亜鉛、および4−シアゾージフエニル
アミンスルフエートとホルムアルデヒドPよび塩化亜鉛
との節会生成物並びにシャロミル・コーサル、ジョン・
ウィリー・アンド・サンズの[Light 5ensi
tive SystemsJ(201〜214頁、ニュ
ーヨーク、1965年〕に記載のネガチブ作用ジアゾ組
成物などの化ツマ−Pよびポリマージアゾニウム化会物
が包含される。
本開明vC関して使用に好lしいジアゾニワム化介吻ハ
、^2−エトキシー4−メトキシベンゾフェノン−5−
・ヌルホンn と(B)p−ジアゾジフェニルアミンと
ホルムアルデヒドの締台生l戊物との反応生成物である
。
、^2−エトキシー4−メトキシベンゾフェノン−5−
・ヌルホンn と(B)p−ジアゾジフェニルアミンと
ホルムアルデヒドの締台生l戊物との反応生成物である
。
本発明に係るエステル化樹脂は、当該分野で周知の方法
により、例えば有機酸、0−エポキシアルキル化フェノ
ール樹脂および過当な浴剤を含む溶成を酸性触媒の存在
下で加熱することにより製造される。
により、例えば有機酸、0−エポキシアルキル化フェノ
ール樹脂および過当な浴剤を含む溶成を酸性触媒の存在
下で加熱することにより製造される。
本発明に係る組成物の;J!@!に有用な浴剤は、当該
分野で周知でめる。好ましいr4剤は、エチレノクリコ
ール七ツメチルエーテルおよびその酢酸エステル、酢酸
エチル、2よびこれらの混合物である。
分野で周知でめる。好ましいr4剤は、エチレノクリコ
ール七ツメチルエーテルおよびその酢酸エステル、酢酸
エチル、2よびこれらの混合物である。
本発明に従って使用しうるtwigとしては、鉱酸(例
えばHC/およびH2S04)、有機酸(即ち、安息含
酸や#酸などのアリールおよびアルキルカルボン酸)、
スルホン酸(例えばp−)ルエンスルホン酸ノ、ホスホ
ン酸、Pよび好1しくは遊離形状IfCは錯体形状で使
用しうるS n C/ 2、AlC13h;”よびBF
3 などのルイス酸が包含される。本発明による好まし
い酸は、S n CZ 2・2H20でめる。
えばHC/およびH2S04)、有機酸(即ち、安息含
酸や#酸などのアリールおよびアルキルカルボン酸)、
スルホン酸(例えばp−)ルエンスルホン酸ノ、ホスホ
ン酸、Pよび好1しくは遊離形状IfCは錯体形状で使
用しうるS n C/ 2、AlC13h;”よびBF
3 などのルイス酸が包含される。本発明による好まし
い酸は、S n CZ 2・2H20でめる。
各反応俸の麓は、最終生成物のカルボキシル/エポキシ
ド比が05〜1、好ましくは約0.7〜0゜8、厳も好
1しくは約0.8となるように選定される。カルボキシ
ル/エポキシド比(これは平均値でるる)は、最終生成
物に存在するエステル基の数を〇−エポキシアルキル化
樹脂に元々存在するエポキシド当植で割った比でるる。
ド比が05〜1、好ましくは約0.7〜0゜8、厳も好
1しくは約0.8となるように選定される。カルボキシ
ル/エポキシド比(これは平均値でるる)は、最終生成
物に存在するエステル基の数を〇−エポキシアルキル化
樹脂に元々存在するエポキシド当植で割った比でるる。
史に望1しくに、本究明組成物を包含する反応混合物2
よひ最終浴数は約50%のN、 V、 (N、 V、−
非揮発分または固捧)を含む。
よひ最終浴数は約50%のN、 V、 (N、 V、−
非揮発分または固捧)を含む。
また反応混合物は辿常、組成物の調製中反応俸−・よび
/萱たは生成物の厘8を防止するため熱亜合(これは当
該分野で周知)の抑制剤を含有するだろう。好lしい抑
制剤は、ハイドロキノン七ツメチルエーテル(MEHQ
J、ベンジル−ジメチルアミン(BDMA)−2−よひ
これらの混合物でめる。
/萱たは生成物の厘8を防止するため熱亜合(これは当
該分野で周知)の抑制剤を含有するだろう。好lしい抑
制剤は、ハイドロキノン七ツメチルエーテル(MEHQ
J、ベンジル−ジメチルアミン(BDMA)−2−よひ
これらの混合物でめる。
I51応は、所望の積度2よび酸価(即ち、反応屁合物
に存在する遊離酸の量ノが得られる1での時間(約10
〜26時間)にわたって行なう。酸価は1またはそれ以
下が望筐しい。
に存在する遊離酸の量ノが得られる1での時間(約10
〜26時間)にわたって行なう。酸価は1またはそれ以
下が望筐しい。
また要すれば、本発明に係る組成物は添加剤、例えば他
の樹脂、反応性希釈剤、放射線感受性亜会開始剤および
増感列、熱重合開始剤および抑制剤、および盾色mlk
含有してもよい。使用する添加剤の数および種類は、当
該組成物を適用する最終用途に左右されるだろう。
の樹脂、反応性希釈剤、放射線感受性亜会開始剤および
増感列、熱重合開始剤および抑制剤、および盾色mlk
含有してもよい。使用する添加剤の数および種類は、当
該組成物を適用する最終用途に左右されるだろう。
このようにまた、V@像形成プロセスに使用する放射線
の種類に基づき、当該組成物は例えば、燕エネルギー源
への露光に対して熱開始剤、放射線源(例えばUV)へ
の露光に対して感光性開始剤を含有してもよく、あるい
は電子ビームWへの露光に対してはいかなる開始剤も含
有しなくてよい。
の種類に基づき、当該組成物は例えば、燕エネルギー源
への露光に対して熱開始剤、放射線源(例えばUV)へ
の露光に対して感光性開始剤を含有してもよく、あるい
は電子ビームWへの露光に対してはいかなる開始剤も含
有しなくてよい。
本発明組成物が感受しうる放射線のN#Rとしては、U
V、IR2?よびiJ視光嫉、放射波、音波、電子ビー
ム、マイクロ波等が包含される。
V、IR2?よびiJ視光嫉、放射波、音波、電子ビー
ム、マイクロ波等が包含される。
要すれば、当該組成物は1棟もしくはそれ以上の放射線
に付してよく、このため数棟の開始Mを含有してもよい
。
に付してよく、このため数棟の開始Mを含有してもよい
。
放射線j3受注開始剤および増感剤は当該分野で周知で
ろシ、パーオキシド類(例えばベンゾイルパーオキシド
、ハイドロパーオキシド)、クメン、アゾニトリル類(
例えばアゾビス(インブチロニトリル))、ジアゾニウ
ム化合物等、Pよびこれらの混合物が包含される。
ろシ、パーオキシド類(例えばベンゾイルパーオキシド
、ハイドロパーオキシド)、クメン、アゾニトリル類(
例えばアゾビス(インブチロニトリル))、ジアゾニウ
ム化合物等、Pよびこれらの混合物が包含される。
本発明に係る組成物に有用な他の樹脂は当該分野で公知
で、これらは反応性筐だに非反応性のものであってよい
。かかる園側の例示としては、エポキシ樹脂、ポリビニ
ルアセタール樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリビニルホル
マール樹脂等、およびこれらの混合物である。
で、これらは反応性筐だに非反応性のものであってよい
。かかる園側の例示としては、エポキシ樹脂、ポリビニ
ルアセタール樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリビニルホル
マール樹脂等、およびこれらの混合物である。
本発明の他の実施態様によれば、支持体の少なくとも1
つの面に本発明に係る上記放射線組成物のいずれかを適
用したことから成る放射腺感受注妥来が提供される。
つの面に本発明に係る上記放射線組成物のいずれかを適
用したことから成る放射腺感受注妥来が提供される。
本発明に用いる支持材料は当該分野で公知でめジ、その
選択に要素の最終用途に基づく。かかる支M )7 料
としては、アルミニウム2よびその公金、プラスチック
または紙との金属箔ラミネート、シリコーンプラスチッ
ク等が包含さレル。
選択に要素の最終用途に基づく。かかる支M )7 料
としては、アルミニウム2よびその公金、プラスチック
または紙との金属箔ラミネート、シリコーンプラスチッ
ク等が包含さレル。
本発明の更に他の実/M態様にPいて、本発明に係る上
記要素(ここで、支持材料は平版印刷に適当なもの)の
いずれかを透明画を介して放射線に画Il!l!露光し
、かかる露光要素を水性アルカリ現像4]で現像してそ
の未露光部を除去することによシ製造される平版印刷版
が提供される。lた要すれば、現像した印ルリ版を加熱
または放射線への全面露光により後処理を行なってもよ
い。
記要素(ここで、支持材料は平版印刷に適当なもの)の
いずれかを透明画を介して放射線に画Il!l!露光し
、かかる露光要素を水性アルカリ現像4]で現像してそ
の未露光部を除去することによシ製造される平版印刷版
が提供される。lた要すれば、現像した印ルリ版を加熱
または放射線への全面露光により後処理を行なってもよ
い。
以下にボす実施例は、本発明の非制眠冥例である。
実施例1
成分
クリシジル化フェノール樹脂の浴i(EponTM10
31、シェル・ケミカル社製)・・・・・・・・・24
’0.0 (エポキシド当撤1.116ノ ハイドロキノンモノメチルエーテル(M E HQ)・
・・・・・・・・0.155 Sn C/ 2 ・2 Hz O・−・・−・・−□
O−86ペンジルジメチルアミン(BDMA) ・・・・・・・・・ 1.71 酢酸エチル ・・・・・・・・・ 9
4.4上記成分を還流加熱する。かかる溶液に還流下、
550ノの水アクリル酸(AA 、0.−764当0
10g当量)の混合物を加える。添加を約1時間で終了
する。次いで、反応混脅物を酸1曲(A、■。
31、シェル・ケミカル社製)・・・・・・・・・24
’0.0 (エポキシド当撤1.116ノ ハイドロキノンモノメチルエーテル(M E HQ)・
・・・・・・・・0.155 Sn C/ 2 ・2 Hz O・−・・−・・−□
O−86ペンジルジメチルアミン(BDMA) ・・・・・・・・・ 1.71 酢酸エチル ・・・・・・・・・ 9
4.4上記成分を還流加熱する。かかる溶液に還流下、
550ノの水アクリル酸(AA 、0.−764当0
10g当量)の混合物を加える。添加を約1時間で終了
する。次いで、反応混脅物を酸1曲(A、■。
)が05以下に達する1で(′FJ10時間)還流状態
で維持する。冷却後エチレングリコールモノメチルエー
テル(EGME)i添加して、反応混合物の濃度を非揮
発分(N、■、)含量約50厘量%に下げる。浴液はN
、 V、 50.6M砿%で200センチストークス(
C5)の粘度(GH1933std)を有していた(粘
度の全てはガードナー一ホルl−1933標準に基づく
り。カルボキシル/エポキシド比にFJo、782/1
.0でめった。
で維持する。冷却後エチレングリコールモノメチルエー
テル(EGME)i添加して、反応混合物の濃度を非揮
発分(N、■、)含量約50厘量%に下げる。浴液はN
、 V、 50.6M砿%で200センチストークス(
C5)の粘度(GH1933std)を有していた(粘
度の全てはガードナー一ホルl−1933標準に基づく
り。カルボキシル/エポキシド比にFJo、782/1
.0でめった。
実施例2〜4
エステル化樹脂の製造
実施例1の手順全退行して、3つの樹脂を製造する。各
反応体2よび反応パラメーターを下記表に記載する。
反応体2よび反応パラメーターを下記表に記載する。
¥施しj5
放則腺感受注要素の製造
■、支持俸の、A製
Na(用4恵虚%水(JWk用いてAA1M3003ア
ルミニウムのシートラ脱脂し、次いで機械的に25アン
ペア/平方フイートにて1分間陽極酸化する。陽極酸化
したシートを引続き水で20秒間リンスし硅酸ナトリウ
ム3厘猷%水溶液に30秒向没偵した後、祝イオン水で
リンスする。
ルミニウムのシートラ脱脂し、次いで機械的に25アン
ペア/平方フイートにて1分間陽極酸化する。陽極酸化
したシートを引続き水で20秒間リンスし硅酸ナトリウ
ム3厘猷%水溶液に30秒向没偵した後、祝イオン水で
リンスする。
■、支持体の被覆
a)下記成分からなる放射線感受性組成物混合物を、槙
目工で調装したアルミニウムシートに倭イ11シ、乾燥
する。
目工で調装したアルミニウムシートに倭イ11シ、乾燥
する。
成分 里重部11
it 2−エトキシ−4−メトキシベンゾフェノン−
5−スルホンnト、1i)p−ジアゾジフェニルアミン
とホルムアルデヒドのm合%w物との反応生成物
・・・・・−・・ 12)DV”M5
21(ボ’J9(lム社製のポリ:r−ステル)
・・・・・・・・ 0.53)実施
例1の目的生成物 ・・・・・・・・ 05M 4) 0rasol Blue G
N (染料 ) −−・ −−・ 0. 15ノ
メチルオレンジ ・・・・・・・・・00
26ノ エチレンジクロリド ・・・・・・・
・・ 557)メタノール ・・・・・
・・・ 228)メチルセロソルブTM ・・・
・・・・・・ 189)N、N−ジメチルホルムアミ、
ド・・・・“・・・・288b)実施例1の@1指ヲ同
量ノEpon′rM1o31(llIチ、A−エステル
化〇−エポキシアルキル化フェノール@j]目ノで置換
する以外は、項目a)の手順(il−株返す。
it 2−エトキシ−4−メトキシベンゾフェノン−
5−スルホンnト、1i)p−ジアゾジフェニルアミン
とホルムアルデヒドのm合%w物との反応生成物
・・・・・−・・ 12)DV”M5
21(ボ’J9(lム社製のポリ:r−ステル)
・・・・・・・・ 0.53)実施
例1の目的生成物 ・・・・・・・・ 05M 4) 0rasol Blue G
N (染料 ) −−・ −−・ 0. 15ノ
メチルオレンジ ・・・・・・・・・00
26ノ エチレンジクロリド ・・・・・・・
・・ 557)メタノール ・・・・・
・・・ 228)メチルセロソルブTM ・・・
・・・・・・ 189)N、N−ジメチルホルムアミ、
ド・・・・“・・・・288b)実施例1の@1指ヲ同
量ノEpon′rM1o31(llIチ、A−エステル
化〇−エポキシアルキル化フェノール@j]目ノで置換
する以外は、項目a)の手順(il−株返す。
机0項目Hの要素を促進保存寿命試験にイ・jし、露光
後下記成分の水性アルカリ現隊削混台物を用いて現像す
る。
後下記成分の水性アルカリ現隊削混台物を用いて現像す
る。
成分 ■砿部−1−−
1−−−
―−−
園−−−−■−水
・・・・・・・ 68n−プロピルアルコール
・・・・・・・・・ 22ラウリル値I綬ナト
リウム ・・・・・・・・・ 5安、は膏酸リ
チウム ・・・・・・・・・ 2ペンシ
ルアルコール ・・・・・・・・・ 3侍
られる平版印刷@全プレス寿命走行に付す。
1−−−
―−−
園−−−−■−水
・・・・・・・ 68n−プロピルアルコール
・・・・・・・・・ 22ラウリル値I綬ナト
リウム ・・・・・・・・・ 5安、は膏酸リ
チウム ・・・・・・・・・ 2ペンシ
ルアルコール ・・・・・・・・・ 3侍
られる平版印刷@全プレス寿命走行に付す。
結果は以下のs!llでるる。
注り 60℃の1日は室温の6ケ月に匹敵する。
笑厖例6〜8
笑′Mi例1の生成物の代わジに犬厖例2〜4の生j戊
物を用いて実雁伊」5の項目■?工びHの手順を追付し
、放射#i感受性妥索を裟盾する。
物を用いて実雁伊」5の項目■?工びHの手順を追付し
、放射#i感受性妥索を裟盾する。
各種樹脂および要素並びにそれらの製危に2いて、本発
明の精神Pよび技術的′Im囲から逸脱ぜずに柿々の友
更2よび改変を行なうことができる。
明の精神Pよび技術的′Im囲から逸脱ぜずに柿々の友
更2よび改変を行なうことができる。
本明梢否2、特許請求の範囲kmじて、特別地に表示が
なければ、部2よび%の全ては土産によるもので、また
温度の全ては摂氏温度でるる。
なければ、部2よび%の全ては土産によるもので、また
温度の全ては摂氏温度でるる。
手続補正書
特許庁長官 殿
1 事件の表示
昭和58年特許願第 011230 号2発明の
名称 ネガチブ作用平版印刷版の製造法 3補正をする者 事件との関係 特許出願人 (番地の表示なし) 名称ホリクロム・コーポレイション 1代理人 7補正の内容 別紙の通り、明細書の浄書(内容に変更なし)を提出致
し1丁。
名称 ネガチブ作用平版印刷版の製造法 3補正をする者 事件との関係 特許出願人 (番地の表示なし) 名称ホリクロム・コーポレイション 1代理人 7補正の内容 別紙の通り、明細書の浄書(内容に変更なし)を提出致
し1丁。
以上
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、 (1) 水性アルカリーーよび放射線感受性
ネガチプ作用物質、および (2)0−エポキシアルキル化テトラキス(ヒドロキシ
フェニル〕アルカン樹Il@i *uソoFJ1当景と
1当斌以下のエチレン性不戴和W機酸とのエステル化反
応生成物 から成ることを特徴とする放射線感受性ネガチグ作用組
成物。 2、上記エステル化反応生成物が更に両相有機酸を包含
する前記第1項記載の組成物。 3 上記ネガチプ作用物質がジアゾニウム化合物でめる
前記第1項または第2項記載の組成物。 4 不協和酸および飽和酸がそれぞれ3〜24個の次系
原子を含有する前記第1項または第2項記載の組成物。 5、 l己酸のそれぞれ力ぶカルボン酸、スルホン酸
2よびホヌホン酸の群から選ばれる前記第4項記載の組
成物。 6、上記酸のそれぞれがカルボン酸でるるn11記第5
項記載の組成物。 7、上記不飽和酸がアクリル酸、メタクリル酸、桂皮酸
、クロトン酸およびイタコン酸の群から選ばれる前記第
6項記載の組成物。 8 上記不協和酸がアクリル酸である前記第7項記載の
m酸物。 9 上記不飽和酸がメタクリル酸でるる前記第7項記載
の組成物。 10、上記飽和酸が約6〜24個の炭素原子を含有する
脂肪酸の群から選ばれるmI記第6項記載の組成物。 11、 上記酸がペラルゴン酸でめる前記第10項記
載の組成物。 12、 上記0−エポキシアルキル化樹脂が、式、0
ツ竪HC)蓼−ノ、=tocツ苓枦HC照馬ψ〔式中、
mはO〜10の整数、nおよびPはその合計が0〜10
となる整数である。〕で示される前記第1項または第2
項記載の組成物。 13、mが0〜2、およびnとPの合計が0〜2である
前記第12項記載の組成物。 14m、nおよびPがOである前記第13項記載の組成
物。 15、上記反応生成物が約0.5〜0.8当斌の不飽和
酸を包含する前記第14項記載の組成物。 16、上記反応生成物が約0.7〜0.8当量の不飽和
酸を包含する前記第15項記載の組成物。 17、上記反応生成物が更に約0.3〜0.1当量の飽
和酸を包含する前記第16項記載の組成物。 18 支持体の少なくとも1つの面に前記第1項また
は第2項記載の放射線感受性組成物を被膜したことから
成る放射線感受性ネガチプ作用要素。 19、 支持体が平版印刷に過当な支持材料であるH
IJ記第18項記載の要素を画像露光し、現像したこと
から成る平版印刷版。 20、約1当重の0−エポキシアルキル化テトラキス(
ヒドロキシフェニル)アルカン樹脂と、1当量以下のエ
チレン性不飽和酸の反応生成物である放射N感受性ネガ
チプ作用樹脂。 21、上記反応生成物が更に飽和有機酸を包含し、上記
不飽和酸がアクリル酸またはメタクリル酸である前記第
20項記載の樹脂。 22、 上記0−エポキシアルキル化樹脂が、式、〔
式中、mは0〜10の整数、n2よびPはその合計が0
〜10となる整数である。〕で示される前記第20項ま
たは第21項記載の樹脂。 23、mが0〜2、およびnとPの合計が0〜2である
前記第22項記載の樹脂。 24、m、nBよびPがOである前記第22項記載の耐
脂。 25、上記有機酸が炭素原子3〜約24個のカルボン酸
でるる前記第22項記載の樹脂。 26 上記飽和酸がペラルゴン酸である前記第5項記
載の樹脂。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US342333 | 1982-01-25 | ||
US06/342,333 US4447512A (en) | 1982-01-25 | 1982-01-25 | Method for making a negative working lithographic printing plate |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS58174943A true JPS58174943A (ja) | 1983-10-14 |
JPH0410619B2 JPH0410619B2 (ja) | 1992-02-25 |
Family
ID=23341376
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP58011230A Granted JPS58174943A (ja) | 1982-01-25 | 1983-01-25 | 放射線感受性ネガチブ作用組成物 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4447512A (ja) |
JP (1) | JPS58174943A (ja) |
CA (1) | CA1243878A (ja) |
FR (1) | FR2520520A1 (ja) |
GB (1) | GB2114765B (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH01142547A (ja) * | 1987-11-27 | 1989-06-05 | Ibiden Co Ltd | 感光性樹脂組成物 |
Families Citing this family (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4600679A (en) * | 1984-05-25 | 1986-07-15 | W. R. Grace & Co. | Water-developable, negative-working, diazo lithographic printing plate with oleophilic ester overlayer |
US4785062A (en) * | 1984-07-31 | 1988-11-15 | W. R. Grace & Co.-Conn. | Reaction product of O-epoxyalkylated tetrakis(hydroxyphenyl)ethane resin and phenol with product having no remaining epoxy groups |
US4882370A (en) * | 1988-01-27 | 1989-11-21 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Fiber reinforced composites with improved glass transition temperatures |
US5035982A (en) * | 1989-07-14 | 1991-07-30 | Eastman Kodak Company | Aqueous developer composition for developing negative working lithographic printing plate |
US5330875A (en) * | 1993-05-05 | 1994-07-19 | Sun Chemical Corporation | Process for producing negative and positive original images on a bilevel printing plate utilizing non-silver halide layer and silver halide overlayer |
US5948596A (en) * | 1997-05-27 | 1999-09-07 | Kodak Polychrome Graphics Llc | Digital printing plate comprising a thermal mask |
US6187510B1 (en) | 1999-03-09 | 2001-02-13 | Kodak Polychrome Graphics Llc | Digital lithographic printing plate and method of making thereof |
TWI346111B (en) * | 2004-02-09 | 2011-08-01 | Nippon Kayaku Kk | Photosensitive resin composition and products of cured product thereof |
US20050277051A1 (en) * | 2004-06-01 | 2005-12-15 | Anocoil Corporation | Increased sensitivity, UV imageable photographic elements |
US20050277053A1 (en) * | 2004-06-01 | 2005-12-15 | Anocoil Corporation | Increased sensitivity, IR, and UV imageable photographic elements |
Family Cites Families (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE1447954C3 (de) * | 1960-08-05 | 1975-11-06 | Hoechst Ag, 6000 Frankfurt | Vorsensibilisierte Flachdruckplatte |
JPS5539825B2 (ja) * | 1972-05-12 | 1980-10-14 | ||
DK565077A (da) * | 1977-05-19 | 1978-11-20 | Polychrome Corp | Vandfremkaldelig litogtafisk trykplade |
US4104072A (en) * | 1977-05-19 | 1978-08-01 | Polychrome Corporation | Water developable lithographic printing plate having dual photosensitive layering |
US4171974A (en) * | 1978-02-15 | 1979-10-23 | Polychrome Corporation | Aqueous alkali developable negative working lithographic printing plates |
US4237216A (en) * | 1978-12-08 | 1980-12-02 | International Business Machines Corporation | Photosensitive patternable coating composition containing novolak type materials |
FR2452731A1 (fr) * | 1979-03-28 | 1980-10-24 | Rhone Poulenc Syst | Compositions photopolymerisables filmogenes developpables a l'eau |
US4390615A (en) * | 1979-11-05 | 1983-06-28 | Courtney Robert W | Coating compositions |
-
1982
- 1982-01-25 US US06/342,333 patent/US4447512A/en not_active Expired - Fee Related
-
1983
- 1983-01-25 CA CA000420206A patent/CA1243878A/en not_active Expired
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- 1983-01-25 JP JP58011230A patent/JPS58174943A/ja active Granted
- 1983-01-26 GB GB08302089A patent/GB2114765B/en not_active Expired
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH01142547A (ja) * | 1987-11-27 | 1989-06-05 | Ibiden Co Ltd | 感光性樹脂組成物 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
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GB8302089D0 (en) | 1983-03-02 |
GB2114765B (en) | 1986-05-21 |
US4447512A (en) | 1984-05-08 |
JPH0410619B2 (ja) | 1992-02-25 |
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