JPS58174943A - 放射線感受性ネガチブ作用組成物 - Google Patents
放射線感受性ネガチブ作用組成物Info
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- JPS58174943A JPS58174943A JP58011230A JP1123083A JPS58174943A JP S58174943 A JPS58174943 A JP S58174943A JP 58011230 A JP58011230 A JP 58011230A JP 1123083 A JP1123083 A JP 1123083A JP S58174943 A JPS58174943 A JP S58174943A
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- G03F7/0212—Macromolecular diazonium compounds; Macromolecular additives, e.g. binders characterised by the polymeric binder or the macromolecular additives other than the diazo resins or the polymeric diazonium compounds
- G03F7/0217—Polyurethanes; Epoxy resins
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- G—PHYSICS
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明はネガチプ作用放射線感受性組成物に関する。更
に詳しくは本発明は、ネガチプ作用平版印刷版の製造に
有用な画像性要素の調製に使用することができるネガチ
プ作用放射線感受性組成物および上記要素、並びに該要
素から製造される平版印刷版に関する。
に詳しくは本発明は、ネガチプ作用平版印刷版の製造に
有用な画像性要素の調製に使用することができるネガチ
プ作用放射線感受性組成物および上記要素、並びに該要
素から製造される平版印刷版に関する。
平版印刷の技術は、油と水の不混和性、＠ｇ！！都によ
る油性画叡形成物質の優先保留、２よび非画像部による
水性湿潤液体の類似保留に左右される。
る油性画叡形成物質の優先保留、２よび非画像部による
水性湿潤液体の類似保留に左右される。
油性Ｎ像を過当な表面に捺印しく １ｒｎｐｒｉｎす、
次いで全表面を水溶液で加湿する時、画像部は水をはじ
き、非画像部は水を保留するだろう。次に油性インキを
適用すると、画像部はインキを保留するが、加湿非画像
部はインキをはじく。次いで画葭部のインキは、鏡輩印
刷を防止するのに必要な媒介体、いわゆるオフセットま
たはブランケットシリンダーを介して、紙、布、その他
などの＝懺を複写（再現）すべき物質の表面に転写され
る。
次いで全表面を水溶液で加湿する時、画像部は水をはじ
き、非画像部は水を保留するだろう。次に油性インキを
適用すると、画像部はインキを保留するが、加湿非画像
部はインキをはじく。次いで画葭部のインキは、鏡輩印
刷を防止するのに必要な媒介体、いわゆるオフセットま
たはブランケットシリンダーを介して、紙、布、その他
などの＝懺を複写（再現）すべき物質の表面に転写され
る。
本発明が関連するタイプの平版印刷版は、平版印刷」に
適当な支持材料の少なくとも１つの面に放射線感受性組
成物の被膜を付着したことから成る筐たは ワイプオン
版 と指称されるもので、これらはそれぞれ被膜が製造
業者または平版印刷者によって基材物質に過当されるか
どうかに左右される。便用する放射線感受性被膜の性質
に応じて、処理した要素を用い露光して画像全直接再現
してもよく（この場合、ボシチプ作用印刷版と呼ばれる
）、あるいは露光して一方を補助するＩＪ＠像を形成し
てもよい（この場合、ネガチブ作用印刷版と呼ばれる）
。いずれの場合も、現像した印刷版の１！！！１塚部は
親油性で、非画像部は親水性でるる。
適当な支持材料の少なくとも１つの面に放射線感受性組
成物の被膜を付着したことから成る筐たは ワイプオン
版 と指称されるもので、これらはそれぞれ被膜が製造
業者または平版印刷者によって基材物質に過当されるか
どうかに左右される。便用する放射線感受性被膜の性質
に応じて、処理した要素を用い露光して画像全直接再現
してもよく（この場合、ボシチプ作用印刷版と呼ばれる
）、あるいは露光して一方を補助するＩＪ＠像を形成し
てもよい（この場合、ネガチブ作用印刷版と呼ばれる）
。いずれの場合も、現像した印刷版の１！！！１塚部は
親油性で、非画像部は親水性でるる。
ネガチブ透明ｌＪ＠を介して露光されるネガチプ作用要
素の場合、放射線感受性物質（通常、ジアゾニワム化合
物）は硬化せしめられ、これによって放射線露光後に放
射線感受性被膜の放射機硬化しない（ネガチプによって
放射線から保護されているからノ部分全除去するため、
要素に適用される不感脂化（即ち、脱膜）組成物に不溶
となる。ネガチプ作用印刷版の硬化面は油性インキと相
溶する親油性面であって、これは 画像部 と呼ばれる
。不惑脂化剤で未硬化の放射線感受性物質を除去した而
は、油性インキに対してほとんど親和性を有さない親水
性面でるるか、またはこれに変換することができ、 非
画像部 と呼ばれる。
素の場合、放射線感受性物質（通常、ジアゾニワム化合
物）は硬化せしめられ、これによって放射線露光後に放
射線感受性被膜の放射機硬化しない（ネガチプによって
放射線から保護されているからノ部分全除去するため、
要素に適用される不感脂化（即ち、脱膜）組成物に不溶
となる。ネガチプ作用印刷版の硬化面は油性インキと相
溶する親油性面であって、これは 画像部 と呼ばれる
。不惑脂化剤で未硬化の放射線感受性物質を除去した而
は、油性インキに対してほとんど親和性を有さない親水
性面でるるか、またはこれに変換することができ、 非
画像部 と呼ばれる。
Ｕ、 Ｓ、特許第４１７１９７４号に３いて、ネガチブ
作用平版印刷光増Ｗ剤Ｂよびジアクリル化（ここで、ア
クリル化とはアクリル酸エステルまたはメタクリル酸エ
ステルのいずれをも指称するノビヌフェノールーＡをベ
ースとするエボキ：ｚ 樹脂力ら成るネガチプ作用放射
線感受性組成物が記載されている。Ｕ、Ｓ、特許第４１
７４３０７号に、ジアクリル化オリゴウレタン樹脂をベ
ースとスル類似放射線ｔｔ受性組成物が記載されている
。Ｉたオーストラリア特許第４３９２４１号には、ビス
フェノール類から誘導されるジェポキシ化合物のアクリ
ル酸およびメタクリル酸エステルおよび不飽和Ｗ 能１
ｍ ３．３以下のフェノール−ホルムアルデヒドノボラ
ック樹脂から成る放射線感受性組成物が記載されている
。
作用平版印刷光増Ｗ剤Ｂよびジアクリル化（ここで、ア
クリル化とはアクリル酸エステルまたはメタクリル酸エ
ステルのいずれをも指称するノビヌフェノールーＡをベ
ースとするエボキ：ｚ 樹脂力ら成るネガチプ作用放射
線感受性組成物が記載されている。Ｕ、Ｓ、特許第４１
７４３０７号に、ジアクリル化オリゴウレタン樹脂をベ
ースとスル類似放射線ｔｔ受性組成物が記載されている
。Ｉたオーストラリア特許第４３９２４１号には、ビス
フェノール類から誘導されるジェポキシ化合物のアクリ
ル酸およびメタクリル酸エステルおよび不飽和Ｗ 能１
ｍ ３．３以下のフェノール−ホルムアルデヒドノボラ
ック樹脂から成る放射線感受性組成物が記載されている
。
上述の組成物はそれらの低不飽和献に基づき、就中、短
い保存寿命や比較的に小さな放射線感受性ヶこうむり、
一方、該組成物か骨なる画像性要素から装造される平版
印刷版は、就中、ｌ！Ｓ！ｉ塚部と非＝像部間の乏しい
コントラスト、！！！ｌ像部の基材物質からの剥離、お
よび短いプレス（印刷）操業といった欠点を受けやすい
。
い保存寿命や比較的に小さな放射線感受性ヶこうむり、
一方、該組成物か骨なる画像性要素から装造される平版
印刷版は、就中、ｌ！Ｓ！ｉ塚部と非＝像部間の乏しい
コントラスト、！！！ｌ像部の基材物質からの剥離、お
よび短いプレス（印刷）操業といった欠点を受けやすい
。
そこで本発明によれば、画像部と非Ｉ＃像部間の高度な
コントラスト、画像部の支持材料に対する大きな旨盾力
Ｐよび長いプレス操業を持つ平版印刷版の製盾に有用な
、長Ｍ保存寿命Ｐよび入きな放射嫉愁受性を有するネガ
チブ作用放射線感受注要素を調製しうることがわかった
。また本発明の特別な実施態様によれば、水性アルカリ
脱膜性であるかおよび／またはＩＪＥ像部の親油性全増
大した組成物を１ｇｌ＃ｌ製しうることかわかった。
コントラスト、画像部の支持材料に対する大きな旨盾力
Ｐよび長いプレス操業を持つ平版印刷版の製盾に有用な
、長Ｍ保存寿命Ｐよび入きな放射嫉愁受性を有するネガ
チブ作用放射線感受注要素を調製しうることがわかった
。また本発明の特別な実施態様によれば、水性アルカリ
脱膜性であるかおよび／またはＩＪＥ像部の親油性全増
大した組成物を１ｇｌ＃ｌ製しうることかわかった。
本開明の目的は、長期の保存寿命および大きな放射＃Ｊ
ｌ感受性を持つネガチブ作用放射線感受注組成物ヲ提供
することである。
ｌ感受性を持つネガチブ作用放射線感受注組成物ヲ提供
することである。
本発明の他の目的は、水性アルカリ感受注Ｐよび／また
は大きな親油性全付加的に有する上記組成物を提供する
ことである。
は大きな親油性全付加的に有する上記組成物を提供する
ことである。
更に他の目的は、必要に応じて水性アルカリ現像性であ
るかおよび／または大きな親油性を有することもめる、
高度な放射緑感受注２よび保存寿命を持つ画像性要素を
提供することでるる。
るかおよび／または大きな親油性を有することもめる、
高度な放射緑感受注２よび保存寿命を持つ画像性要素を
提供することでるる。
本発明の別の目的は、長期プレス寿命、基材物質と画像
間の艮好な密着性を持ち、必要に応じてｌ！！！ｌ家部
の親油性を増大したネガチプ作用平版印ルリ版を提供す
ることである。
間の艮好な密着性を持ち、必要に応じてｌ！！！ｌ家部
の親油性を増大したネガチプ作用平版印ルリ版を提供す
ることである。
本発明のこれらの目的および他の目的についてその一部
は上述の通シであり、Ｉた一部については好ましい実施
態様の、）ｆ軸な説明を考直すれば明らかとなろう。
は上述の通シであり、Ｉた一部については好ましい実施
態様の、）ｆ軸な説明を考直すれば明らかとなろう。
本発明に従って、長期の保存寿命および庭先速ｐＪを持
つｍ塚性要素並びに長期プレス定行および艮好なコント
ラストを持つ平版印刷版の装逅に有用な、長期可使時間
を持つ放射板感受性ネガチブ作用組成物が提供きれる。
つｍ塚性要素並びに長期プレス定行および艮好なコント
ラストを持つ平版印刷版の装逅に有用な、長期可使時間
を持つ放射板感受性ネガチブ作用組成物が提供きれる。
即ち、本発明によれば、２つ以上の班台官能訓？！−持
つ放射線ｊ匹受性不ガチプ作用樹脂が提供され、これＵ
Ｏ−エポキシアルキル化テトラキヌ（ヒドロキシフェニ
ルノアルカン樹脂または１当麓の０−エポキシアルキル
化樹脂と１当重以下の有機酸（該有恢酸は置換または非
置換エチレン性七〕Ｉたはポリ不飽和酸の少なくとも１
橿を包含する）の生成物であるエステルである。
つ放射線ｊ匹受性不ガチプ作用樹脂が提供され、これＵ
Ｏ−エポキシアルキル化テトラキヌ（ヒドロキシフェニ
ルノアルカン樹脂または１当麓の０−エポキシアルキル
化樹脂と１当重以下の有機酸（該有恢酸は置換または非
置換エチレン性七〕Ｉたはポリ不飽和酸の少なくとも１
橿を包含する）の生成物であるエステルである。
テトフキスアル−カン樹刀ａとしては、式：〔式中、ｍ
ば０〜１０、好１しくは０〜２の整数、ｎ ２−よびＰ
はその合計が０〜ｌＯ１好”ｔＬ、＜は０〜２となる整
数である。〕 のものが好ｌしい。敢も好萱しくは、ｍ、ｎ＄ｉよびＰ
は０でめる。かかる樹脂は二重重合もしくは三電■介し
た形状でまたはそれらの各榎混会物として存在しうる。
ば０〜１０、好１しくは０〜２の整数、ｎ ２−よびＰ
はその合計が０〜ｌＯ１好”ｔＬ、＜は０〜２となる整
数である。〕 のものが好ｌしい。敢も好萱しくは、ｍ、ｎ＄ｉよびＰ
は０でめる。かかる樹脂は二重重合もしくは三電■介し
た形状でまたはそれらの各榎混会物として存在しうる。
かかる〇−エポキシアルキル化樹脂の１例は、商品名「
Ｅｐｏｎ１０３１Ｊ下で市販の麺業上入手しうる樹脂で
あるｌ、 １．２．２．−テトラキス［（２，８，−エ
ボキシグロボキシフフェニル〕エタンでめって、これは
エポキシ当型２１０゜２４０２よびガードナー−ホルト
粘度（２５℃）２４〜２８を有する。
Ｅｐｏｎ１０３１Ｊ下で市販の麺業上入手しうる樹脂で
あるｌ、 １．２．２．−テトラキス［（２，８，−エ
ボキシグロボキシフフェニル〕エタンでめって、これは
エポキシ当型２１０゜２４０２よびガードナー−ホルト
粘度（２５℃）２４〜２８を有する。
本発明の樹脂の装造に有用なエチレン注不飽和酸として
は、カルボン酸（ｆｉｌえばアクリル酸、メタクリル酸
、桂凍酸、クロトン酸、オレイン酸、リノール酸および
リルン酸等）、ヌルホン酸２よびホスホン酸並びにこれ
らの混合物が包含される。
は、カルボン酸（ｆｉｌえばアクリル酸、メタクリル酸
、桂凍酸、クロトン酸、オレイン酸、リノール酸および
リルン酸等）、ヌルホン酸２よびホスホン酸並びにこれ
らの混合物が包含される。
上記エステル化樹脂は、含有する多数のヒドロキシル基
に基づき、比較的に親水性でめる。このことは望１しく
ない結果、即ちそれから誘４避れる平版印刷版を用いる
時、画像部の水含渦電の増大によって起る該印刷版の画
像部と非口像部間のコントラストの減退に基づく結果を
もたらす。従って、上記画像部の親油性を増大すること
が有利でめることがわかった。
に基づき、比較的に親水性でめる。このことは望１しく
ない結果、即ちそれから誘４避れる平版印刷版を用いる
時、画像部の水含渦電の増大によって起る該印刷版の画
像部と非口像部間のコントラストの減退に基づく結果を
もたらす。従って、上記画像部の親油性を増大すること
が有利でめることがわかった。
このため、本発明の他の実施態様によれば、親油性全増
大した放射線感受注不ガチプ作用組成物が提供され、該
組成物は上記〇−エポキシアルキル化フェノール樹脂を
上述の不期和酸および同時にまたはその後にカルボン酸
（例えばペラルゴン酸、パルミチン酸、ステアリン１１
２％ ） 、ヌルホン酸（例えばデカン、ヘキサデカン
寺）２よぴホスフィン酸（例えばオクタデカン、ノナン
等）２よびこれらの混合物などの長頻飽和酸と反応させ
今ことによジ裳慮される。
大した放射線感受注不ガチプ作用組成物が提供され、該
組成物は上記〇−エポキシアルキル化フェノール樹脂を
上述の不期和酸および同時にまたはその後にカルボン酸
（例えばペラルゴン酸、パルミチン酸、ステアリン１１
２％ ） 、ヌルホン酸（例えばデカン、ヘキサデカン
寺）２よぴホスフィン酸（例えばオクタデカン、ノナン
等）２よびこれらの混合物などの長頻飽和酸と反応させ
今ことによジ裳慮される。
環境に対して害のない物質や方法を制酸したシ使用した
ジする現在の環境上の強制的見地から、他の産業と同様
当該表彰（グラフイツクノ産栗も、有機浴剤などの生態
学上望ｌしくない物質の依存性を減少するため水性シス
テムを基本とする物質や方法を捜し求めつつめる。上記
樹脂は先行技術を車端して改良された多くの特性を有す
るが、醐稼−光版の現隊のため有機溶剤シヌテムに依存
している。
ジする現在の環境上の強制的見地から、他の産業と同様
当該表彰（グラフイツクノ産栗も、有機浴剤などの生態
学上望ｌしくない物質の依存性を減少するため水性シス
テムを基本とする物質や方法を捜し求めつつめる。上記
樹脂は先行技術を車端して改良された多くの特性を有す
るが、醐稼−光版の現隊のため有機溶剤シヌテムに依存
している。
さて本発明によれば、就中、水性アルカリ感受注の放射
線感受性ネガチプ作用組成物を調製しうろこと（即ち、
該組成物から諺尋される四叙蕗元要系は水性アリカリ現
１１！Ａ’ｌＪによって現像しうろこと〕がわかった。
線感受性ネガチプ作用組成物を調製しうろこと（即ち、
該組成物から諺尋される四叙蕗元要系は水性アリカリ現
１１！Ａ’ｌＪによって現像しうろこと〕がわかった。
即ち、本究明のこの実ＩＭ悪様によれば、Ａ、０−エポ
キシアルキル化フェノール圀脂またはその約１当童と１
当量以下の有機酸との反応のエステル生成物でるる放射
嶽直合性化合物、および Ｂ、放射機および水性アルカリ感受性成分の少なくとも
１種 の混合物から成る放射！ｉＡ２よび水性アル刀り惑受注
ネガチブ作用組成物が提供される。
キシアルキル化フェノール圀脂またはその約１当童と１
当量以下の有機酸との反応のエステル生成物でるる放射
嶽直合性化合物、および Ｂ、放射機および水性アルカリ感受性成分の少なくとも
１種 の混合物から成る放射！ｉＡ２よび水性アル刀り惑受注
ネガチブ作用組成物が提供される。
要すれば、上記ｍ酸物から誘導されるｌ＝ｌ］刷版の画
像部の親油性を局めるため、上ｇｔ有機酸は史に上述の
飽和有機酸を包含してもよく、該困和有機醒は不飽和酸
と同時にＴｆｃはその後に上記エポキシ化回脂と反応さ
ぞてよい。
像部の親油性を局めるため、上ｇｔ有機酸は史に上述の
飽和有機酸を包含してもよく、該困和有機醒は不飽和酸
と同時にＴｆｃはその後に上記エポキシ化回脂と反応さ
ぞてよい。
放射機Ｐよび水性アルカリ感受性成分は当該分野で周知
でめり、パラージアゾシフェニルアミンレン畑、（例え
ば１−アジドピレン、６−ニトロ−１−アジドピレン、
１．６−ジアシドピレン、１゜８−ジアゾピレン、１−
プロピオニル−６−アジドピレン、１−アセチル−６−
アンドピレン、１−ｎ−ブチリル−６−アシドピレン、
１−ｎ−７０ロピオニル−８−プロモー６−アジドピレ
ン、嘔よび３−ｎ−プロピオニル−１，６−ジアシドピ
レン）、４−ジアゾジフェニルアミンスルフェート、１
−シアシー４−Ｎ、Ｎ−ジメチルアミノベンゼン・曳化
亜縮、ｌ−ジアゾ−４−Ｎ、Ｎ−ジエチルアミノベンゼ
ン・嘔化亜ｆｆｉ、１−シアソー（４−Ｎ−エチル−へ
−ヒドロキシエチルノアミノベンゼン・１／２塩化亜鉛
、１−ジアゾ−（４−Ｎ−メチル−Ｎ−ヒドロキシエチ
ルノアミノベンゼン・１／２橿化亜鉛、１−ジアゾ−２
，５−ジェトキシ−（４−ベンゾイルアミノ）ベンゼン
゛１／２塩化亜胎、１−ジアゾ−４−Ｎ−ベンジルアミ
ノベンゼン・］／２曳化亜鉛、１−ジアゾ−４−Ｎ。
でめり、パラージアゾシフェニルアミンレン畑、（例え
ば１−アジドピレン、６−ニトロ−１−アジドピレン、
１．６−ジアシドピレン、１゜８−ジアゾピレン、１−
プロピオニル−６−アジドピレン、１−アセチル−６−
アンドピレン、１−ｎ−ブチリル−６−アシドピレン、
１−ｎ−７０ロピオニル−８−プロモー６−アジドピレ
ン、嘔よび３−ｎ−プロピオニル−１，６−ジアシドピ
レン）、４−ジアゾジフェニルアミンスルフェート、１
−シアシー４−Ｎ、Ｎ−ジメチルアミノベンゼン・曳化
亜縮、ｌ−ジアゾ−４−Ｎ、Ｎ−ジエチルアミノベンゼ
ン・嘔化亜ｆｆｉ、１−シアソー（４−Ｎ−エチル−へ
−ヒドロキシエチルノアミノベンゼン・１／２塩化亜鉛
、１−ジアゾ−（４−Ｎ−メチル−Ｎ−ヒドロキシエチ
ルノアミノベンゼン・１／２橿化亜鉛、１−ジアゾ−２
，５−ジェトキシ−（４−ベンゾイルアミノ）ベンゼン
゛１／２塩化亜胎、１−ジアゾ−４−Ｎ−ベンジルアミ
ノベンゼン・］／２曳化亜鉛、１−ジアゾ−４−Ｎ。
ヘージメチルアミノベンゼン・硼弗化物、ｌ−ジアゾ−
４−モルホリノベンゼン・１／２％化亜砒、１−ジアゾ
−４−七ルホリノベンゼン・硼弗化物、ｌ−ジアゾ−２
，５−ジメトキシ−４−（Ｐ−トリルメルカプト）ベン
ゼン・１／２橿化亜細、ｌ−ジアゾ−２−エトキシ−４
−Ｎ、Ｎ−ジメチルアミノベンゼン・１７２塩化亜鉛、
４−シアシーＮ。
４−モルホリノベンゼン・１／２％化亜砒、１−ジアゾ
−４−七ルホリノベンゼン・硼弗化物、ｌ−ジアゾ−２
，５−ジメトキシ−４−（Ｐ−トリルメルカプト）ベン
ゼン・１／２橿化亜細、ｌ−ジアゾ−２−エトキシ−４
−Ｎ、Ｎ−ジメチルアミノベンゼン・１７２塩化亜鉛、
４−シアシーＮ。
Ｎ−ジメチルアニリン・１／２塩化亜鉛、■−シアシー
４−（Ｎ、Ｎ−ジエチルアミノ）ベンゼン・１／２曳化
亜謝、ｌ−ジアゾ−２，５−ジブトキシ−４−モルホリ
ノベンゼンスルフエート、１−シアソー２．５−ジェト
キシ−４−モルホリノベンゼン・１／２曳化亜謝、１−
ジアゾ−２，５−ジメトキシ−４−モルホリノベンゼン
・塩化亜鉛、１−ジアゾ−２，５−ジェトキシ−４−モ
ルホリノベンゼン・硼弗化物、２−ジアゾ−１−す７ト
ールー５−スルホン酸ナトリウムＪｉ、ｌ−シフ”／”
−４−Ｎ、Ｎ−ジエチルアミノベンゼン・硼弗化物、ｌ
−シアシー２，５−ジェトキシ−４−ｐ−）リルメルカ
ブトベンゼン・１／２橿化亜鉛、１−ジアゾ−３−エト
キシ−４−（Ｎ−メチル−Ｎ−ペンシルアミツノベンゼ
ン・１／２橿化亜鉛、■−ジアゾー３−クロロー４−（
Ｎ、Ｎ−ジエチルアミツノベンゼン・１／２堪化亜鉗、
１−ジアゾ−３−メチル−４−ピロリジノベンゼンクロ
リド・弧化亜耐、１−ジアゾ−３−メチル−４−ピロリ
ジノベンゼン・硼弗化物、１−ジアゾ−２−クロロ−４
−ＬＮ、Ｎ−ジメチルアミノノー５−メトキシベンゼン
・硼弗化物、ｌ−シアシー３−メトキシ−４−ピロリジ
ノベンゼン・塩化亜鉛、および４−シアゾージフエニル
アミンスルフエートとホルムアルデヒドＰよび塩化亜鉛
との節会生成物並びにシャロミル・コーサル、ジョン・
ウィリー・アンド・サンズの［Ｌｉｇｈｔ ５ｅｎｓｉ
ｔｉｖｅ ＳｙｓｔｅｍｓＪ（２０１〜２１４頁、ニュ
ーヨーク、１９６５年〕に記載のネガチブ作用ジアゾ組
成物などの化ツマ−Ｐよびポリマージアゾニウム化会物
が包含される。
４−（Ｎ、Ｎ−ジエチルアミノ）ベンゼン・１／２曳化
亜謝、ｌ−ジアゾ−２，５−ジブトキシ−４−モルホリ
ノベンゼンスルフエート、１−シアソー２．５−ジェト
キシ−４−モルホリノベンゼン・１／２曳化亜謝、１−
ジアゾ−２，５−ジメトキシ−４−モルホリノベンゼン
・塩化亜鉛、１−ジアゾ−２，５−ジェトキシ−４−モ
ルホリノベンゼン・硼弗化物、２−ジアゾ−１−す７ト
ールー５−スルホン酸ナトリウムＪｉ、ｌ−シフ”／”
−４−Ｎ、Ｎ−ジエチルアミノベンゼン・硼弗化物、ｌ
−シアシー２，５−ジェトキシ−４−ｐ−）リルメルカ
ブトベンゼン・１／２橿化亜鉛、１−ジアゾ−３−エト
キシ−４−（Ｎ−メチル−Ｎ−ペンシルアミツノベンゼ
ン・１／２橿化亜鉛、■−ジアゾー３−クロロー４−（
Ｎ、Ｎ−ジエチルアミツノベンゼン・１／２堪化亜鉗、
１−ジアゾ−３−メチル−４−ピロリジノベンゼンクロ
リド・弧化亜耐、１−ジアゾ−３−メチル−４−ピロリ
ジノベンゼン・硼弗化物、１−ジアゾ−２−クロロ−４
−ＬＮ、Ｎ−ジメチルアミノノー５−メトキシベンゼン
・硼弗化物、ｌ−シアシー３−メトキシ−４−ピロリジ
ノベンゼン・塩化亜鉛、および４−シアゾージフエニル
アミンスルフエートとホルムアルデヒドＰよび塩化亜鉛
との節会生成物並びにシャロミル・コーサル、ジョン・
ウィリー・アンド・サンズの［Ｌｉｇｈｔ ５ｅｎｓｉ
ｔｉｖｅ ＳｙｓｔｅｍｓＪ（２０１〜２１４頁、ニュ
ーヨーク、１９６５年〕に記載のネガチブ作用ジアゾ組
成物などの化ツマ−Ｐよびポリマージアゾニウム化会物
が包含される。
本開明ｖＣ関して使用に好ｌしいジアゾニワム化介吻ハ
、＾２−エトキシー４−メトキシベンゾフェノン−５−
・ヌルホンｎ と（Ｂ）ｐ−ジアゾジフェニルアミンと
ホルムアルデヒドの締台生ｌ戊物との反応生成物である
。
、＾２−エトキシー４−メトキシベンゾフェノン−５−
・ヌルホンｎ と（Ｂ）ｐ−ジアゾジフェニルアミンと
ホルムアルデヒドの締台生ｌ戊物との反応生成物である
。
本発明に係るエステル化樹脂は、当該分野で周知の方法
により、例えば有機酸、０−エポキシアルキル化フェノ
ール樹脂および過当な浴剤を含む溶成を酸性触媒の存在
下で加熱することにより製造される。
により、例えば有機酸、０−エポキシアルキル化フェノ
ール樹脂および過当な浴剤を含む溶成を酸性触媒の存在
下で加熱することにより製造される。
本発明に係る組成物の；Ｊ！＠！に有用な浴剤は、当該
分野で周知でめる。好ましいｒ４剤は、エチレノクリコ
ール七ツメチルエーテルおよびその酢酸エステル、酢酸
エチル、２よびこれらの混合物である。
分野で周知でめる。好ましいｒ４剤は、エチレノクリコ
ール七ツメチルエーテルおよびその酢酸エステル、酢酸
エチル、２よびこれらの混合物である。
本発明に従って使用しうるｔｗｉｇとしては、鉱酸（例
えばＨＣ／およびＨ２Ｓ０４）、有機酸（即ち、安息含
酸や＃酸などのアリールおよびアルキルカルボン酸）、
スルホン酸（例えばｐ−）ルエンスルホン酸ノ、ホスホ
ン酸、Ｐよび好１しくは遊離形状ＩｆＣは錯体形状で使
用しうるＳ ｎ Ｃ／ ２、ＡｌＣ１３ｈ；”よびＢＦ
３ などのルイス酸が包含される。本発明による好まし
い酸は、Ｓ ｎ ＣＺ ２・２Ｈ２０でめる。
えばＨＣ／およびＨ２Ｓ０４）、有機酸（即ち、安息含
酸や＃酸などのアリールおよびアルキルカルボン酸）、
スルホン酸（例えばｐ−）ルエンスルホン酸ノ、ホスホ
ン酸、Ｐよび好１しくは遊離形状ＩｆＣは錯体形状で使
用しうるＳ ｎ Ｃ／ ２、ＡｌＣ１３ｈ；”よびＢＦ
３ などのルイス酸が包含される。本発明による好まし
い酸は、Ｓ ｎ ＣＺ ２・２Ｈ２０でめる。
各反応俸の麓は、最終生成物のカルボキシル／エポキシ
ド比が０５〜１、好ましくは約０．７〜０゜８、厳も好
１しくは約０．８となるように選定される。カルボキシ
ル／エポキシド比（これは平均値でるる）は、最終生成
物に存在するエステル基の数を〇−エポキシアルキル化
樹脂に元々存在するエポキシド当植で割った比でるる。
ド比が０５〜１、好ましくは約０．７〜０゜８、厳も好
１しくは約０．８となるように選定される。カルボキシ
ル／エポキシド比（これは平均値でるる）は、最終生成
物に存在するエステル基の数を〇−エポキシアルキル化
樹脂に元々存在するエポキシド当植で割った比でるる。
史に望１しくに、本究明組成物を包含する反応混合物２
よひ最終浴数は約５０％のＮ、 Ｖ、 （Ｎ、 Ｖ、−
非揮発分または固捧）を含む。
よひ最終浴数は約５０％のＮ、 Ｖ、 （Ｎ、 Ｖ、−
非揮発分または固捧）を含む。
また反応混合物は辿常、組成物の調製中反応俸−・よび
／萱たは生成物の厘８を防止するため熱亜合（これは当
該分野で周知）の抑制剤を含有するだろう。好ｌしい抑
制剤は、ハイドロキノン七ツメチルエーテル（ＭＥＨＱ
Ｊ、ベンジル−ジメチルアミン（ＢＤＭＡ）−２−よひ
これらの混合物でめる。
／萱たは生成物の厘８を防止するため熱亜合（これは当
該分野で周知）の抑制剤を含有するだろう。好ｌしい抑
制剤は、ハイドロキノン七ツメチルエーテル（ＭＥＨＱ
Ｊ、ベンジル−ジメチルアミン（ＢＤＭＡ）−２−よひ
これらの混合物でめる。
Ｉ５１応は、所望の積度２よび酸価（即ち、反応屁合物
に存在する遊離酸の量ノが得られる１での時間（約１０
〜２６時間）にわたって行なう。酸価は１またはそれ以
下が望筐しい。
に存在する遊離酸の量ノが得られる１での時間（約１０
〜２６時間）にわたって行なう。酸価は１またはそれ以
下が望筐しい。
また要すれば、本発明に係る組成物は添加剤、例えば他
の樹脂、反応性希釈剤、放射線感受性亜会開始剤および
増感列、熱重合開始剤および抑制剤、および盾色ｍｌｋ
含有してもよい。使用する添加剤の数および種類は、当
該組成物を適用する最終用途に左右されるだろう。
の樹脂、反応性希釈剤、放射線感受性亜会開始剤および
増感列、熱重合開始剤および抑制剤、および盾色ｍｌｋ
含有してもよい。使用する添加剤の数および種類は、当
該組成物を適用する最終用途に左右されるだろう。
このようにまた、Ｖ＠像形成プロセスに使用する放射線
の種類に基づき、当該組成物は例えば、燕エネルギー源
への露光に対して熱開始剤、放射線源（例えばＵＶ）へ
の露光に対して感光性開始剤を含有してもよく、あるい
は電子ビームＷへの露光に対してはいかなる開始剤も含
有しなくてよい。
の種類に基づき、当該組成物は例えば、燕エネルギー源
への露光に対して熱開始剤、放射線源（例えばＵＶ）へ
の露光に対して感光性開始剤を含有してもよく、あるい
は電子ビームＷへの露光に対してはいかなる開始剤も含
有しなくてよい。
本発明組成物が感受しうる放射線のＮ＃Ｒとしては、Ｕ
Ｖ、ＩＲ２？よびｉＪ視光嫉、放射波、音波、電子ビー
ム、マイクロ波等が包含される。
Ｖ、ＩＲ２？よびｉＪ視光嫉、放射波、音波、電子ビー
ム、マイクロ波等が包含される。
要すれば、当該組成物は１棟もしくはそれ以上の放射線
に付してよく、このため数棟の開始Ｍを含有してもよい
。
に付してよく、このため数棟の開始Ｍを含有してもよい
。
放射線ｊ３受注開始剤および増感剤は当該分野で周知で
ろシ、パーオキシド類（例えばベンゾイルパーオキシド
、ハイドロパーオキシド）、クメン、アゾニトリル類（
例えばアゾビス（インブチロニトリル））、ジアゾニウ
ム化合物等、Ｐよびこれらの混合物が包含される。
ろシ、パーオキシド類（例えばベンゾイルパーオキシド
、ハイドロパーオキシド）、クメン、アゾニトリル類（
例えばアゾビス（インブチロニトリル））、ジアゾニウ
ム化合物等、Ｐよびこれらの混合物が包含される。
本発明に係る組成物に有用な他の樹脂は当該分野で公知
で、これらは反応性筐だに非反応性のものであってよい
。かかる園側の例示としては、エポキシ樹脂、ポリビニ
ルアセタール樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリビニルホル
マール樹脂等、およびこれらの混合物である。
で、これらは反応性筐だに非反応性のものであってよい
。かかる園側の例示としては、エポキシ樹脂、ポリビニ
ルアセタール樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリビニルホル
マール樹脂等、およびこれらの混合物である。
本発明の他の実施態様によれば、支持体の少なくとも１
つの面に本発明に係る上記放射線組成物のいずれかを適
用したことから成る放射腺感受注妥来が提供される。
つの面に本発明に係る上記放射線組成物のいずれかを適
用したことから成る放射腺感受注妥来が提供される。
本発明に用いる支持材料は当該分野で公知でめジ、その
選択に要素の最終用途に基づく。かかる支Ｍ ）７ 料
としては、アルミニウム２よびその公金、プラスチック
または紙との金属箔ラミネート、シリコーンプラスチッ
ク等が包含さレル。
選択に要素の最終用途に基づく。かかる支Ｍ ）７ 料
としては、アルミニウム２よびその公金、プラスチック
または紙との金属箔ラミネート、シリコーンプラスチッ
ク等が包含さレル。
本発明の更に他の実／Ｍ態様にＰいて、本発明に係る上
記要素（ここで、支持材料は平版印刷に適当なもの）の
いずれかを透明画を介して放射線に画Ｉｌ！ｌ！露光し
、かかる露光要素を水性アルカリ現像４］で現像してそ
の未露光部を除去することによシ製造される平版印刷版
が提供される。ｌた要すれば、現像した印ルリ版を加熱
または放射線への全面露光により後処理を行なってもよ
い。
記要素（ここで、支持材料は平版印刷に適当なもの）の
いずれかを透明画を介して放射線に画Ｉｌ！ｌ！露光し
、かかる露光要素を水性アルカリ現像４］で現像してそ
の未露光部を除去することによシ製造される平版印刷版
が提供される。ｌた要すれば、現像した印ルリ版を加熱
または放射線への全面露光により後処理を行なってもよ
い。
以下にボす実施例は、本発明の非制眠冥例である。
実施例１
成分
クリシジル化フェノール樹脂の浴ｉ（ＥｐｏｎＴＭ１０
３１、シェル・ケミカル社製）・・・・・・・・・２４
’０．０ （エポキシド当撤１．１１６ノ ハイドロキノンモノメチルエーテル（Ｍ Ｅ ＨＱ）・
・・・・・・・・０．１５５ Ｓｎ Ｃ／ ２ ・２ Ｈｚ Ｏ・−・・−・・−□
Ｏ−８６ペンジルジメチルアミン（ＢＤＭＡ） ・・・・・・・・・ １．７１ 酢酸エチル ・・・・・・・・・ ９
４．４上記成分を還流加熱する。かかる溶液に還流下、
５５０ノの水アクリル酸（ＡＡ 、０．−７６４当０
１０ｇ当量）の混合物を加える。添加を約１時間で終了
する。次いで、反応混脅物を酸１曲（Ａ、■。
３１、シェル・ケミカル社製）・・・・・・・・・２４
’０．０ （エポキシド当撤１．１１６ノ ハイドロキノンモノメチルエーテル（Ｍ Ｅ ＨＱ）・
・・・・・・・・０．１５５ Ｓｎ Ｃ／ ２ ・２ Ｈｚ Ｏ・−・・−・・−□
Ｏ−８６ペンジルジメチルアミン（ＢＤＭＡ） ・・・・・・・・・ １．７１ 酢酸エチル ・・・・・・・・・ ９
４．４上記成分を還流加熱する。かかる溶液に還流下、
５５０ノの水アクリル酸（ＡＡ 、０．−７６４当０
１０ｇ当量）の混合物を加える。添加を約１時間で終了
する。次いで、反応混脅物を酸１曲（Ａ、■。
）が０５以下に達する１で（′ＦＪ１０時間）還流状態
で維持する。冷却後エチレングリコールモノメチルエー
テル（ＥＧＭＥ）ｉ添加して、反応混合物の濃度を非揮
発分（Ｎ、■、）含量約５０厘量％に下げる。浴液はＮ
、 Ｖ、 ５０．６Ｍ砿％で２００センチストークス（
Ｃ５）の粘度（ＧＨ１９３３ｓｔｄ）を有していた（粘
度の全てはガードナー一ホルｌ−１９３３標準に基づく
り。カルボキシル／エポキシド比にＦＪｏ、７８２／１
．０でめった。
で維持する。冷却後エチレングリコールモノメチルエー
テル（ＥＧＭＥ）ｉ添加して、反応混合物の濃度を非揮
発分（Ｎ、■、）含量約５０厘量％に下げる。浴液はＮ
、 Ｖ、 ５０．６Ｍ砿％で２００センチストークス（
Ｃ５）の粘度（ＧＨ１９３３ｓｔｄ）を有していた（粘
度の全てはガードナー一ホルｌ−１９３３標準に基づく
り。カルボキシル／エポキシド比にＦＪｏ、７８２／１
．０でめった。
実施例２〜４
エステル化樹脂の製造
実施例１の手順全退行して、３つの樹脂を製造する。各
反応体２よび反応パラメーターを下記表に記載する。
反応体２よび反応パラメーターを下記表に記載する。
￥施しｊ５
放則腺感受注要素の製造
■、支持俸の、Ａ製
Ｎａ（用４恵虚％水（ＪＷｋ用いてＡＡ１Ｍ３００３ア
ルミニウムのシートラ脱脂し、次いで機械的に２５アン
ペア／平方フイートにて１分間陽極酸化する。陽極酸化
したシートを引続き水で２０秒間リンスし硅酸ナトリウ
ム３厘猷％水溶液に３０秒向没偵した後、祝イオン水で
リンスする。
ルミニウムのシートラ脱脂し、次いで機械的に２５アン
ペア／平方フイートにて１分間陽極酸化する。陽極酸化
したシートを引続き水で２０秒間リンスし硅酸ナトリウ
ム３厘猷％水溶液に３０秒向没偵した後、祝イオン水で
リンスする。
■、支持体の被覆
ａ）下記成分からなる放射線感受性組成物混合物を、槙
目工で調装したアルミニウムシートに倭イ１１シ、乾燥
する。
目工で調装したアルミニウムシートに倭イ１１シ、乾燥
する。
成分 里重部１１
ｉｔ ２−エトキシ−４−メトキシベンゾフェノン−
５−スルホンｎト、１ｉ）ｐ−ジアゾジフェニルアミン
とホルムアルデヒドのｍ合％ｗ物との反応生成物
・・・・・−・・ １２）ＤＶ”Ｍ５
２１（ボ’Ｊ９（ｌム社製のポリ：ｒ−ステル）
・・・・・・・・ ０．５３）実施
例１の目的生成物 ・・・・・・・・ ０５Ｍ ４） ０ｒａｓｏｌ Ｂｌｕｅ Ｇ
Ｎ （染料 ） −−・ −−・ ０． １５ノ
メチルオレンジ ・・・・・・・・・００
２６ノ エチレンジクロリド ・・・・・・・
・・ ５５７）メタノール ・・・・・
・・・ ２２８）メチルセロソルブＴＭ ・・・
・・・・・・ １８９）Ｎ、Ｎ−ジメチルホルムアミ、
ド・・・・“・・・・２８８ｂ）実施例１の＠１指ヲ同
量ノＥｐｏｎ′ｒＭ１ｏ３１（ｌｌＩチ、Ａ−エステル
化〇−エポキシアルキル化フェノール＠ｊ］目ノで置換
する以外は、項目ａ）の手順（ｉｌ−株返す。
ｉｔ ２−エトキシ−４−メトキシベンゾフェノン−
５−スルホンｎト、１ｉ）ｐ−ジアゾジフェニルアミン
とホルムアルデヒドのｍ合％ｗ物との反応生成物
・・・・・−・・ １２）ＤＶ”Ｍ５
２１（ボ’Ｊ９（ｌム社製のポリ：ｒ−ステル）
・・・・・・・・ ０．５３）実施
例１の目的生成物 ・・・・・・・・ ０５Ｍ ４） ０ｒａｓｏｌ Ｂｌｕｅ Ｇ
Ｎ （染料 ） −−・ −−・ ０． １５ノ
メチルオレンジ ・・・・・・・・・００
２６ノ エチレンジクロリド ・・・・・・・
・・ ５５７）メタノール ・・・・・
・・・ ２２８）メチルセロソルブＴＭ ・・・
・・・・・・ １８９）Ｎ、Ｎ−ジメチルホルムアミ、
ド・・・・“・・・・２８８ｂ）実施例１の＠１指ヲ同
量ノＥｐｏｎ′ｒＭ１ｏ３１（ｌｌＩチ、Ａ−エステル
化〇−エポキシアルキル化フェノール＠ｊ］目ノで置換
する以外は、項目ａ）の手順（ｉｌ−株返す。
机０項目Ｈの要素を促進保存寿命試験にイ・ｊし、露光
後下記成分の水性アルカリ現隊削混台物を用いて現像す
る。
後下記成分の水性アルカリ現隊削混台物を用いて現像す
る。
成分 ■砿部−１−−
１−−−
―−−
園−−−−■−水
・・・・・・・ ６８ｎ−プロピルアルコール
・・・・・・・・・ ２２ラウリル値Ｉ綬ナト
リウム ・・・・・・・・・ ５安、は膏酸リ
チウム ・・・・・・・・・ ２ペンシ
ルアルコール ・・・・・・・・・ ３侍
られる平版印刷＠全プレス寿命走行に付す。
１−−−
―−−
園−−−−■−水
・・・・・・・ ６８ｎ−プロピルアルコール
・・・・・・・・・ ２２ラウリル値Ｉ綬ナト
リウム ・・・・・・・・・ ５安、は膏酸リ
チウム ・・・・・・・・・ ２ペンシ
ルアルコール ・・・・・・・・・ ３侍
られる平版印刷＠全プレス寿命走行に付す。
結果は以下のｓ！ｌｌでるる。
注り ６０℃の１日は室温の６ケ月に匹敵する。
笑厖例６〜８
笑′Ｍｉ例１の生成物の代わジに犬厖例２〜４の生ｊ戊
物を用いて実雁伊」５の項目■？工びＨの手順を追付し
、放射＃ｉ感受性妥索を裟盾する。
物を用いて実雁伊」５の項目■？工びＨの手順を追付し
、放射＃ｉ感受性妥索を裟盾する。
各種樹脂および要素並びにそれらの製危に２いて、本発
明の精神Ｐよび技術的′Ｉｍ囲から逸脱ぜずに柿々の友
更２よび改変を行なうことができる。
明の精神Ｐよび技術的′Ｉｍ囲から逸脱ぜずに柿々の友
更２よび改変を行なうことができる。
本明梢否２、特許請求の範囲ｋｍじて、特別地に表示が
なければ、部２よび％の全ては土産によるもので、また
温度の全ては摂氏温度でるる。
なければ、部２よび％の全ては土産によるもので、また
温度の全ては摂氏温度でるる。
手続補正書
特許庁長官 殿
１ 事件の表示
昭和５８年特許願第 ０１１２３０ 号２発明の
名称 ネガチブ作用平版印刷版の製造法 ３補正をする者 事件との関係 特許出願人 （番地の表示なし） 名称ホリクロム・コーポレイション １代理人 ７補正の内容 別紙の通り、明細書の浄書（内容に変更なし）を提出致
し１丁。
名称 ネガチブ作用平版印刷版の製造法 ３補正をする者 事件との関係 特許出願人 （番地の表示なし） 名称ホリクロム・コーポレイション １代理人 ７補正の内容 別紙の通り、明細書の浄書（内容に変更なし）を提出致
し１丁。
以上
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、 （１） 水性アルカリーーよび放射線感受性
ネガチプ作用物質、および （２）０−エポキシアルキル化テトラキス（ヒドロキシ
フェニル〕アルカン樹Ｉｌ＠ｉ ＊ｕソｏＦＪ１当景と
１当斌以下のエチレン性不戴和Ｗ機酸とのエステル化反
応生成物 から成ることを特徴とする放射線感受性ネガチグ作用組
成物。 ２、上記エステル化反応生成物が更に両相有機酸を包含
する前記第１項記載の組成物。 ３ 上記ネガチプ作用物質がジアゾニウム化合物でめる
前記第１項または第２項記載の組成物。 ４ 不協和酸および飽和酸がそれぞれ３〜２４個の次系
原子を含有する前記第１項または第２項記載の組成物。 ５、 ｌ己酸のそれぞれ力ぶカルボン酸、スルホン酸
２よびホヌホン酸の群から選ばれる前記第４項記載の組
成物。 ６、上記酸のそれぞれがカルボン酸でるるｎ１１記第５
項記載の組成物。 ７、上記不飽和酸がアクリル酸、メタクリル酸、桂皮酸
、クロトン酸およびイタコン酸の群から選ばれる前記第
６項記載の組成物。 ８ 上記不協和酸がアクリル酸である前記第７項記載の
ｍ酸物。 ９ 上記不飽和酸がメタクリル酸でるる前記第７項記載
の組成物。 １０、上記飽和酸が約６〜２４個の炭素原子を含有する
脂肪酸の群から選ばれるｍＩ記第６項記載の組成物。 １１、 上記酸がペラルゴン酸でめる前記第１０項記
載の組成物。 １２、 上記０−エポキシアルキル化樹脂が、式、０
ツ竪ＨＣ）蓼−ノ、＝ｔｏｃツ苓枦ＨＣ照馬ψ〔式中、
ｍはＯ〜１０の整数、ｎおよびＰはその合計が０〜１０
となる整数である。〕で示される前記第１項または第２
項記載の組成物。 １３、ｍが０〜２、およびｎとＰの合計が０〜２である
前記第１２項記載の組成物。 １４ｍ、ｎおよびＰがＯである前記第１３項記載の組成
物。 １５、上記反応生成物が約０．５〜０．８当斌の不飽和
酸を包含する前記第１４項記載の組成物。 １６、上記反応生成物が約０．７〜０．８当量の不飽和
酸を包含する前記第１５項記載の組成物。 １７、上記反応生成物が更に約０．３〜０．１当量の飽
和酸を包含する前記第１６項記載の組成物。 １８ 支持体の少なくとも１つの面に前記第１項また
は第２項記載の放射線感受性組成物を被膜したことから
成る放射線感受性ネガチプ作用要素。 １９、 支持体が平版印刷に過当な支持材料であるＨ
ＩＪ記第１８項記載の要素を画像露光し、現像したこと
から成る平版印刷版。 ２０、約１当重の０−エポキシアルキル化テトラキス（
ヒドロキシフェニル）アルカン樹脂と、１当量以下のエ
チレン性不飽和酸の反応生成物である放射Ｎ感受性ネガ
チプ作用樹脂。 ２１、上記反応生成物が更に飽和有機酸を包含し、上記
不飽和酸がアクリル酸またはメタクリル酸である前記第
２０項記載の樹脂。 ２２、 上記０−エポキシアルキル化樹脂が、式、〔
式中、ｍは０〜１０の整数、ｎ２よびＰはその合計が０
〜１０となる整数である。〕で示される前記第２０項ま
たは第２１項記載の樹脂。 ２３、ｍが０〜２、およびｎとＰの合計が０〜２である
前記第２２項記載の樹脂。 ２４、ｍ、ｎＢよびＰがＯである前記第２２項記載の耐
脂。 ２５、上記有機酸が炭素原子３〜約２４個のカルボン酸
でるる前記第２２項記載の樹脂。 ２６ 上記飽和酸がペラルゴン酸である前記第５項記
載の樹脂。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US342333 | 1982-01-25 | ||
| US06/342,333 US4447512A (en) | 1982-01-25 | 1982-01-25 | Method for making a negative working lithographic printing plate |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS58174943A true JPS58174943A (ja) | 1983-10-14 |
| JPH0410619B2 JPH0410619B2 (ja) | 1992-02-25 |
Family
ID=23341376
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP58011230A Granted JPS58174943A (ja) | 1982-01-25 | 1983-01-25 | 放射線感受性ネガチブ作用組成物 |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4447512A (ja) |
| JP (1) | JPS58174943A (ja) |
| CA (1) | CA1243878A (ja) |
| FR (1) | FR2520520A1 (ja) |
| GB (1) | GB2114765B (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01142547A (ja) * | 1987-11-27 | 1989-06-05 | Ibiden Co Ltd | 感光性樹脂組成物 |
Families Citing this family (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4600679A (en) * | 1984-05-25 | 1986-07-15 | W. R. Grace & Co. | Water-developable, negative-working, diazo lithographic printing plate with oleophilic ester overlayer |
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