JPS5883645A - β−フエニル・エチルアルコ−ルの製造法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 この発明はβ−フェニル・エチルアルコールの製造法に
関するものであり、更に詳しくは酸化スチレンを触媒水
素添加することによりβ−フェニル・エチルアルコール
を製造する方法に関するものである。

酸化スチレンからβ−フェニル・エチルアルコールを製
造するには種々の方法が知られている。

例えばアメリカ特許第３，５７９，５９５号に開示され
た方法においては、ラネイ・ニッケルとパラジウムの組
合せを触媒として用いて酸化スチレンを水素添加してい
る。

またアメリカ特許第１，７８７，２０５号に開示された
方法にあっては、ニッケル、コバルト、鉄、プラチナな
いしはパラジウムなどの触媒の存在下に酸化スチレンな
どの酸化オレフィンを水素で処理している。また、少量
の助触媒を混合することにより（例えばニッケル金属に
還元する前に水酸化ニッケルの沈澱に少量のアルカリ作
用剤を加えることにより）触媒効果を向上できることが
開示されている。酸化アルミニウムもしくは二酸化トリ
ウムを少量加えることにより似たような効果が得られる
ことも開示されている。

更にアメリカ特許第２，５２４，０９６号に開示された
方法にあっては、ある種の触媒の存在下に比較的低温で
液相の酸化スチレンを水素添加している。そのような触
媒としてはラネイ・ニッケル、プラチナ（活性炭上の）
、パラジウムおよび酸化プラチナ例示されている。

その他にも水の存在下にスチレンの触媒水素添加を行わ
せることによりβ−フェニル・エチルアルコールを製造
する方法がアメリカ特許第２．８２２．４０３号に開示
されている。更にこの特許には、例えば水酸化ナトリウ
ム、炭酸ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸カリウム、
水酸化カルシウム、酸化カルシウム、酸化バリウムもし
くは水酸化バリウムなどのアルカリ反応物質の少量を反
応混合物に加えるのが望ましいと記載されている。更に
該反応混合物の−は７〜８の間にあるのが好ましいと開
示されている。

更にアメリカ特許第２．８２３，２３８号に開示された
方法にあっては、水素ハロゲン化酸を結合させることの
できる化合物の存在下に１−フェニル２−ハロゲンエタ
ノール−１を直接触媒酌にβ−フェニル・エチルアルコ
ールに還元している。このために強いアルカルが例挙さ
れている。

更にアメリカ特許第４．０６４，１８６号に開示された
方法にあっては、希薄な水素添加触媒と水素とを含んだ
反応混合物内に酸化スチレ／を導入しており、この際の
導入速度を制御して、工程中いつでも反応混合物中の酸
化スチレンの濃度が約０．２重量％を超えないようにし
ている。またエーテルおよびカルボニル群を含有する溶
媒は避けるべきであると記載されている。

カナダ特許第５１２　、２３５号およびイギリス特許第
６７・８，５８９号にも同様な方法が開示されている。

この発明によれば、酸化スチレン水素添加触媒およびフ
ェニル・アセトアルデヒドの形成を阻止するに必要な量
の存在下に酸化スチレンを水素で処理することにより、
酸化スチレンのフェニル・アセトアルデヒドへの異性化
およびその結果としての残留物の生成を驚威的に低減で
きることが、確認されたのである。即ち、反応の第１段
階で生成されたフェニル・アセトアルデヒドが、フェニ
ル・アセトアルデヒドをβ−フェニル・エチルアルコー
ルに変えるアルデヒド還元触媒の存在下で、水素によっ
て反応させるのである。これは基本的には２通りの方法
により達成されるものである。

第１の方法にあっては、酸化スチレン水素添加触媒の適
正量とフェニル・アセトアルデヒドの生成を阻止する酸
の有効濃度との存在下に、酸化スチレンを水素と反応さ
せるものである。この発明の各実施態様において採用さ
れる酸の濃度および／または強さは、反応条件下では核
酸が酸化スチレンとは非反応性であるが反応混合物中で
は戚活性サイトを与えるようなものでなければならない
。

こ＼でＦ酸活性サイトＪと言う用語であるが、タンパク
弱酸とレヴイス酸とを共に有したような環境を指してい
る。好しい酸としては特にアルカノインク酸やアリル置
換アルカノイック酸なとのよ゛うな有機酸のような弱酸
が挙げられる。酸の存在下での水素添加からの第１の反
応生成物は酸化スチレン水素添加触媒から分陰され、更
に処理されて反応生成物中のフェニル・アセトアルデヒ
ドが所望のβ−フェニル・エチルアルコールに変換され
るのである。これはニッケルもしくはラネイニッケルの
ようなアルデヒド還元触媒の適正量存在下においてその
ような反応生成物を水素で処理することにより、達成さ
れるものである。

以上のような方法に代えてこの発明においては、酸と酸
化ス、チレン水素添加触媒とアルデヒド還元触媒との共
存下゛において酸化スチレンを水素と反応させることも
可能である。酸化スチレ／の水素添加反応とアルデヒド
還元とは別個に分陰してではな（、例えば同一の容器で
行われ得るものであり、これには全ての酸化スチレンが
全て反応してしまう迄は先ず温゛度および圧力条件をあ
まり厳。しいものとせず、次いで徐々に温度および／ま
たは圧力を上げてやってアルデヒド還元が起るように制
御してやればよい。

従来からも、最終的に得られるβ−フェニル・−ｒ−ｆ
　Ａ／　７　ルコール中にフェニル・アセトアルデヒド
が存在するのを阻止するために、種々の試みがなされて
きたが、いずれも唯ひとっの工程でこれを達成しようと
している。しかし、酸化スチレーンの水素添加中におけ
るフェニル・アセトアルデヒドの存在を阻止しようとす
る必要はなく、そのような反応において生成されたフェ
ニル・アセトアルデヒドをその後別個の反応によってフ
ェニル・エチルアルコールに変換してやればよいのだと
いうことが判明し゛たのである。

これを更に詳述すると、次に述べるような方法によれば
達成できるのである。即ち先ず、酸化スチレン水素添加
触媒の有効量存在下において、酸化スチレンを水素と反
応させて第１の反応生成物を生成せしめ、この第１の反
応生成物をして酸化スチレン水素添加触媒から分離せし
め、アルデヒド還元触媒の有効量存在下においてこの第
１の反応生成物を水素で処理して、第１の生成物中のフ
ェニル・アセトアルデヒドをしてβ−フェニル・エチル
アルコールに変換せしめるのである。この方法は単一の
反応によるやり方と同じような結果をもたらすものでそ
の融通性において遥かに秀れているのである。例えば、
水素添加反応とアルデヒド反応とを分離することも可能
であるから、各反応毎に別個の反応条件制御ができるし
、各反応毎に種々の触媒を取捨選択して使用することも
できるという利点がある。更にこの発明の方法において
は、連続作用とすることも可能である。

更にこの発明によれば、Ｐ＋ｄもしくはｐｔ触媒の有効
量とフェニル・アセトアルデヒドの生成を阻止する酸の
有効量との存在下に酸化スチレン水素添加を行うと％Ｉ
／ｃ秀れた結果を得られることが、判明した。％にこの
方法によると、フェニル・アセトアルデヒドと残留物の
量が顕著に減少するのである。このやり方は前記した酸
を用いた工程において酸化スチレンの水素添加法として
用いるのが望ましい。

酸を用いたこの発明の工程は数多くの利点を有している
のである。第１Ｖｃ、ａＲの存在しない触媒系としてラ
ネイ・ニッケルと木炭上のパラジウムの組合せを用いた
アメリカ特許第３，５７９．５９３゜号の工程と比べる
と、この発明の工程によった場合の方がアセトアルデヒ
ドと残留物の量が少い。

また酸は酸化スチレン水素添加触媒を永持ちさせる働き
がある。加えて、前記した従来技術にあっては酸化スチ
レンの濃度が低いことが必要とされる場合があるのに対
して、この発明の場合には希釈の必要はな（、従って溶
媒を使わすとも実施できるのである。しかもこの発明の
工程では塩基も水も必要としないから、これを連続的に
例えば反応塔を利用して実施することができ、所謂バッ
チ方式に比べて明らかに有利であり効率もよい。

不均質なパラジウムを用いて酸化スチレンをほり中立に
還元させると、は％：３０〜４０％の酸化スチレンが通
常フェニル・アセトアルデヒドに異性化され、はり１２
％の残留物が生成される。

この発明の一実施態様Ｃ以下これを阻止方式と言う）に
よれば、例えば木炭上のパラジウムのような酸化スチレ
ン水素添加触媒の有効量とフェニル・アセトアルデヒド
の生成を阻止する酸の充分量との存在下で酸化スチレン
を水素で処理することにより、酸化スチレンのフェニル
・アセトアルデヒドへの異性化は制御かつ減少されて、
還元アルコール物質の取得量かをえるのである。酸は反
応混合物中に活性酸サイトを与えなければならないが、
それは反応条件下で酸化スチレンと反応する程であって
はならない。次いでＭ１反応生成物はアルデヒド還元触
媒の存在下で水素によって処理されて、第１の反応で生
成されたフェニル・アセトアルデヒドがβ−フェニル・
エチルアルコールに変換されるのである。この後者の反
応は禎々のやり方で行うことができる。

まず第１の方法ではアルデヒド還元触媒を酸および酸化
スチレン水素添加触媒と同一の反応容器に入れて、生成
されたフェニル・アセトアルデヒドを全て所望の生産物
に変換してやる。

第２の方法では、アルデヒド還元触媒を酸化スチレン水
素添加触媒および酸と一同一の反応容器に入れ、まず温
度と圧力条件をゆるやかにして酸化スチレンの水素添加
を行わせるが、これは好ましくけはｙ全ての酸化スチレ
ンが反応″してしまう迄続ける。次にアルデヒドの還元
が起るような程度にまで温度および／または圧力を上げ
てやるのである。

第３の方法にあっては、酸化スチレンの水素添加とアル
デヒドの還′元とを別個の反応室において行うものであ
る。これには第１の反応生成物を酸化スチレン水素添加
触媒から分離し、次いで水素の存在下でこの第１の反応
生成物をアルデヒド還元触媒の有効量で処理して第１の
反応生成物中のフェニル・アルデヒドをβ−フェニル・
エチルアルコールに変換してや□るものである。

これらの方法はいずれもバッチ方式で行えるものであり
、しかも第３の方法は以下に述べるように連続的にも行
えるものである。

この発明の更に佃の実施態様（以下こ些を変換方式と言
う）にあっては、酸化スチレン水素添加触媒の有効量の
存在下で（＃の存在は必要としない）水入と酸化スチレ
ンとを反応さ”せて第１の反応生成物を形成し、水素添
加触媒よりこの第１の反応生成物を分離し、アルデヒド
還元触媒の有効量の存在下にこの第１の反応生成物を水
素で処理することにより、好ましい結果を得ている。こ
の方法は融通性に富んでいるのである。この場合水素添
加反応中にフェニル・アセトアルデヒドが生成されるが
、これを別個の反応によって所望のβ−フェニル・エチ
ルアルコールに変換している。

かくしてこの方法にあっては、水素添加反応およびアル
デヒド還元反応について採用すべき反応条件と触媒とを
互に独立に決めることができる。

この発明の方法は、阻止方式にせよ変換方式和せよ、連
続的に行うこともできればバッチ方式で行うこともでき
る。水素添加反応をバッチ方式で行いアルデヒド還元反
応を連続方式で行ってもよく、その逆にすることもでき
る。

この発明の更に他の実施態様によれば、パラジウムもし
くはプラチナ水素添加触媒の有効量とフェニル・アセト
アルデヒドの生成を阻止する酸の有効量との存在下で酸
化スチレンを水素で処理する。この方法によれば、フェ
ニル・アセトアルデヒドと残留物の童が顕著に減少する
ことが確認された。この方法は前記した阻止および変換
方式の実施態様において、酸化スチレンの水素添加工程
として採用するのが望ましい。

この発明において酸を用いた場合、触媒が永持ちすると
いうもうひとつの利点がある。これは触媒の活動に干渉
するフェニル・アセトアルデヒドおよび残留物が少いこ
とから来るものと思われる。

この発明の方法を連続的に行うには当業界において従来
から知られている手法を利用することができる。例えば
、酸化スチレン（酸を伴おうと伴わないとに拘らず）を
適宜な固形の酸化スチレン水素添加触媒が詰められてし
かも水素ガス加圧下にある反応塔に通してやればよい。

酸化スチレン水素添加触媒とアルデヒド還元触媒とに別
個の反応器を用いた場合には、従来からある連続的な装
置を用い、かつ水素添加工程反応器からアルデヒド還元
触媒を含有する反応器に反応生成物を連続的に移す手段
を用いてやれば連続的に処理を行うことができる。例え
ば前記した２基の反応塔を流体的に連結して、水素添加
工程反応器からの生成物を適宜なアルデヒド還元触媒が
詰ってしかも水素加圧された第２の反応塔に直接通して
？やり、と＼で水素添加工程で生成されたフェニル・ア
セ°トアルテヒトヲβ−フェニル・エチルアルコールに
還元してやればよい。

この発明の方法をバッチ方式で実施するにもまた従来技
術を利用できる。例えば攪拌器をそなえたオートクレー
ブを使ってやればよい。この場合通常オートクレーブは
水素で清浄にしてからその圧力を所望の値に上げてやる
。ついて所望の温度迄反応混合物を加熱し、外部冷却も
しくは加熱により所望の反応が起きる迄その温度、に保
ってやる。

この発明の阻止方式１程による場合には種々の酸を用い
ることができる。たり必要なことは、その酸が反応混合
物中に酸活性サイトを与えしかも反応条件下で酸化スチ
レンとは実質的に反応しないということである。２〜２
２　ｉｖＡの炭素原子を有した直線状および枝分れ状の
アルカノイック酸、アリル部に６〜１０Ｉｒ！Ａの炭素
原子をまたアルキル部ｉｃ　１〜８個の炭素原子を有し
たアリル置換アルカノイック酸、安息香酸などの有機酸
が好ましい。

−例を挙げると酢酸、プロピオン酸、イソブチル酸、オ
クタノイック酸、酢酸およびフェニル酢睡なとの有機酸
がある。無機酸もまた用いることができる。ＨＣＩやＨ
２ＳＯ４のような強い無機酢を使えるが、その濃度は前
記した制約に添うものでなければならない。例えばＨ３
ＰＯ４や塩化マグネシウムなどの弱酸、シリカゲルやシ
リカアルミナや分子フルイのような無機金属酸化物、お
よび粘土のような無機酸を用いるのが望ましい。アルカ
ノインク酸は阻止方式１程に用いるのが望ましく、また
酢酸は使用および製品からの除去が容易なので特に好ま
しいものである。

この発明において使用する酸の濃度は種々の要因によっ
て違ってくる。いずれにしても、反応混合物中に酸活性
サイトを与えしかもフェニル・アセトアルデヒドの形成
を阻止するに充分な量の酸が含まれなければならない。

しかし酸の量・が過剰であっても、それが酸化スチレン
と反応しない限りは、工程そのものには何等悪影響はな
いことが確認されている。酸化スチレンの重量を基とし
て、酸の濃度は約０．０５〜２．０重量％の範囲にある
のが望ましい。強酸の場合には濃度を低く抑え、弱酸の
場合には濃度を高くしてやる。酢酸のような弱い有機酸
の場合には、酸化スチレンの重量を基として、約０．５
〜２．０重量％の範囲の濃度が望ましいが、１．０〜２
．０重量％の範囲に収めると一段とよい結果が得られる
。

この発明の水素添加工程における酸化スチレンの水素添
加触媒への添加は、溶媒でもって溶液としてからでもよ
（、そのま＼で添加してもよい。

酸も添加する場合には、酸を別個に加えてもよ（・し、
酸化スチレンもしくはその溶液に酸を含ませてもよい。

この発明における溶媒としては、例えば酸化スチレン可
溶性の不活性有機溶媒など適宜公知の不活性溶媒を用い
ることができる。

この発明の酸化スチレン水素添加工程における触媒とし
ては、例えば反応条件下で芳香族環を還元することなし
に酸化群をアルコール群に還元する触媒など、適宜公知
の酸化スチレン水素添加触媒を用いることができる。パ
ラジウム、プラチナ、ニッケル、ラネイ・ニッケルなど
がそのような触媒として挙げられる。特にパラジウムは
エチルベンゼンの生成量が少いので好ましい触媒として
用いられる。ニッケルだと反応収量が概して少い。

この発明における水素添加触媒は好ましくは固形である
か、もしくは固形基体の上に載せたものである。固形基
体としては適宜公知のものを用いることができるが、例
えば炭素、アルミナ、硫酸バリウムおよびシリカゲルな
どが挙げられる。特に炭素が好ましく、パラジウムを炭
素基体上に載、せると非常に秀れた水素添加触媒系が得
られる。

この発明で用いる水素添加触媒の濃度は種々の要因によ
って違ってくる。たとえば反応時の温度、圧力および経
済性などもその要因の中に入る。いずれにしても酸化ス
チレンの水素添加に対して充分な触媒作用をはだすだけ
の一度が必要である。

固形基体上に触媒を載せたバッチ方式によった場合の水
素添加触媒の濃度は、酸化スチレンの重量を基として、
約０．１〜２．０重蓋％、更に好ましくは約０．２〜１
．０重量％の範囲にあるのが望ましい。

触媒系の重量を基とすると、固形基体上の触媒の量は約
０．１〜１０％、更に好ましくは５％前後である。

連続方式によった場合は、充分な量の触媒系を用いて、
酸化スチレンその他が通過する反応器を満してやるが、
少量にしてもよい。触媒系のＸｔを基とすると、固形基
体上に載せる触媒の量は約０．１〜２．０％の範囲、更
に好ましくは０．５％前後である。

水素添加工程における生成物は、必要ならば公知の手法
により水素添加触媒から分離することができる。例えば
酸化スチレン水素添加触媒が固形なら、静かにそ＼ぐか
こすことにより反応生成物を触媒から分離させることが
できる。また酸化スチレン水素添加触媒を反応塔に入れ
てこれに酸化スチレンを通し、両者間の分離した相で反
応接触を行わせてもよい。生成物は反応塔底部で回収さ
れる。

この発明に用いるアルデヒド還元触媒としては、アルデ
ヒドをアルコールに還元する働きさえあれば、従来公知
のものを使用できる。そのような触媒は反応条件下にお
いて芳香族環に影響を与えることなしに、アルデヒドグ
ループを還元するものである。非塩基性のアルデヒド還
２元触媒が好ましい。ニッケル、ラネイニッケル、ルテ
ニウムおよびクロマイト鋼などがよい。ラネイニッケル
は本来塩基性であるが、充分な酸が存在して反応混合物
中に活性酸サイトを与える限りにおいては、これと他の
塩基性触媒を酸化スチレン水素添加触媒と同一の反応容
器中に入れることができる。ニッケル触媒が好ましいと
されている。

上記のように、アルデヒド還元触媒も固形基体上に載せ
ることができる。そのような基体としては、酸化スチレ
ン水素添加触媒に関連して既述したものと同じものを使
用できる。

この発明で用いるアルデヒド還元触媒の一度はいろいろ
な要因によって異ってくる。いずれにしテモ、フェニル
・アセトアルデヒドをβ−７エ二ル・エチルアルコール
に変換するに光分な量でなければならない。バッチ方式
の場合の適正凝度値は、酸化スチレンの重量を基として
約０．５〜５．０重蓋％の範囲にあり、更に好ましくは
１重量％前後である。連続方式の場合には、反応物が通
過する反応器を満すのに充分なアルデヒド還元触媒を使
用する必要がある。

この発明の更に他の実施態様においては少量のアミン、
好ましくはトリエチルアミンのような第三アミンの存在
下に水素添加反応とアルデヒド還元反応とを行わせる。

アミンの使用量は０．２０％以下、更に好ましくは０．
０６％前後である。アミンの存在により、フェニル・ア
セトアルデヒドの量カ減り、かつ、酸化スチレンからβ
−フェニル・エチルアルコールへの反応速度が上る。ま
た時にはアミンの存在によりエチルベンゼンの生成量が
減ることもある。

この発明において採用する温度、圧力条件も種々の要因
により違ってくる。例えば、特に希望される反応速度お
よび許容される発熱量のいがんによって温度が定められ
る。しかしあまりに高温だと、最初の水素添加工程に８
いてエチルベンゼンが生成され、しかもアルデヒド還元
工程においてエタノール・シクロヘキシルが生成される
。

最初の水素添加工程においては０〜１００”Ｃ１更に望
ましくは２５〜７５℃の温度を採用する。

連続方式の場合には、酸化スチレン水素添加反応器の頭
部は底部より低温とするのがよい。こうすると発熱を制
御し易い。底部はより高温で反応して反応速度を早くす
る。、後述するように連続方式では再循環を採用して、
温度の変動なしに発熱を同様に制御することができる。

この再循環と温度制御とは両者を組合せて行うこともで
きる。

次のアルデヒド還元工程においては、温度は６０〜１５
０℃位、更に好ましくは７０〜１３０℃位の範囲にとる
とよい。

いずれの工程においても圧力は温度との関係、就中型ま
れている反応速度および発熱の許容度との関係で、定め
られる。最・初水素添加工稚においては、大体大気圧か
ら１０００　ｐｓｉｇ　　を超える位の圧力、更に好ま
しくはバンチ方式には約５０〜５００　ｐｓｉｇ、連続
方式には約１００〜１１０００ｐｓｉ　位の圧力が用い
られる。

アルデヒド還元反応においては５０　ｐｓｉｇ　から１
０ｏ　ｏ　ｐｓｉｇ　を超える位の圧力が、更に好まし
くはバッチ方式には約１００〜５　ｏ　ＯｐＢｌｇ　１
連続方式には５００〜１０００　ｐａｉｇ　位の圧力が
用いられる。連続方式の場合、両工程とも同じ圧力下で
行うのが望ましい。

前記したように、酸化スチレン水素添加反応とアルデヒ
ド還元゛触媒との混合物を用−・、温度と圧力とを反応
が前後して起るように変化調節すれ＆ｆ、酸化スチレン
水素添加反応とアルデヒド還元反応とを一緒に行うこと
も可能である二層に最初の水素添加反応にあっては、（
１）酸化スチレン水素添加触媒の有効量とアルデヒド還
元触媒の有効量とが存在し、（１）フェニル・アセトア
ルデヒドの生成を阻止するに充分な量の酸が存在し、か
つ（ｉｉｉ）酸化スチレン水素添加触媒と水素と酸化ス
チレンとの間に第１の触媒反応を起させかつフェニル・
アセトアルデヒドとエチルベンゼンの生成を阻止する第
１の温度および圧力条件下であれば、酸化スチレンと水
素とが反応する。ついで第２の温度および／または圧力
条件に移って、フェニル・アセトアルデヒドとアルデヒ
ド還元触媒との間に触媒反応が起きて、反応混合物中の
フェニル・アセトアルデヒドなβ−フェニル・エチルア
ルコールに変換する。

これらの反応における温度と圧力条件は酸化スチレンお
よび触媒の濃度など種々の要因により異るが、第１の反
応時の温度と圧力は一般に第２の反応時の温度、圧力よ
り低目である。しかし必ずしも常にそうとは限らない。

例えば、第１の反応において高圧と低温が用いられた場
合には、第２の反応においては圧力は多分そのま＼で温
度だけが上げられるだろう。その逆も言える。第１の反
応時の温度圧力条件はエチルベンゼンの生成を最少とす
るよう−に選ばれるもので、酸化スチレンの重量を基と
してその生成量が０．８重量％以下、更に好ましくは０
．５重量％以下となるのが望ましい。

第１の温度は約２５〜７５℃位、第２の１温度は７０〜
１３０℃位に定めるとよい。第１の圧力は５０〜５００
　ｐｓｉｇ　位に、第２の圧力は１００〜５００　ｐｓ
ｉｇ　位に定めるとよい。

反応時間および／もしくは連続方式にＫける酸化スチレ
ンもしくはその溶液の反応塔通過時間は、反応温度や反
応圧力や反応物裏皮など種々の要因によって異ってくる
’ｏ従って反応時間を特定することはできない。しかし
典型的には、バッチ方式の場合には、酸化スチレンの水
素添加には１〜８時間位であり、アルデヒドの還元には
１〜８時間位である。

β−フェニル１エチルアルコールを製造−ｊる連続方式
の場合には、第１の生成ｖＪ、夕形酸形成に充分な量の
固形の酸化スチレン水素添加触媒の存在下に第１反応水
素と酸化スチレンとを第１反応室内に入れてやる。第１
の生成物は第１反応室から第２反応室へと連続的移送さ
れる。第２反応室においては、第１の生成物中のフェニ
ル・アセトアルデヒトヲβ−フェニル・エチルアルコー
ルニ変換するに充分な量の固形アルデヒド還元触媒の存
在下に、第１の反応生成物が水素によって処理される。

従ってこの方式の場合、第１の生成物中でのフェニル・
アセトアルデヒドの生成は酸などの阻止剤を加えること
によって必ずしも阻止はされていないが、第２の反応室
においてフェニル・アセトアルデヒドが所望の製品に還
元されるのである。しかし少くとも第１の反応室におけ
る反応においては酸を加えるのが望ましい。なぜなら、
残留物の生成はフェニル・アセトアルデヒドの生成に比
例するからである。従って第１の反応におけるフェニル
・アセトアルデヒドの生成を抑制すれば、残留物の生成
も自ずから抑制される訳である。

これは酸化スチレン水素添加とアルデヒド還元とを分離
して行うバッチ方式についても言えることである。

この発明の連続方式は、互に流路接続された２基の反応
塔を用いて行うこともできる。この場合第１と第２の反
応塔が第１と第２の反応室に相当する。第１の反応塔は
炭素基体上に載せたパラジウムなどのような固形の酸化
スチレン水素添加触媒を含んでおり、第２の反応塔はニ
ッケルなどのアルデヒド還元触媒を含んでいる。酸化ス
チレンは水素加圧した第１の反応塔に通されてβ−７エ
二ル・エチルアルコールに変換される。第１の反応塔か
らの生成物は連続的に第２の反応塔（水素加圧されてい
る）に送られる。こ＼で該生成物中のフェニル・アセト
アルデヒドがβ−フェニル・エチルアルコールなどの所
望の製品に還元される。

こ＼でも、少くとも第１の反応塔（好ましくは両方の反
応塔）において酸を添加するのが望ま七い。

上記した連続方式において、第１の反応塔底部から出る
生成物の一部を再循環させて酸化スチレンと共に第１の
反応塔に戻してやるのが好ましい。

これにより酸化スチレンが希釈されて発熱反応が制御し
易くなるのである。この再循環に当っては第１の反応塔
からの生成物の内５０％程を戻してやるとよい結果が得
られる。

連続方式にあっては、温度と圧力と流量と酸化スチレン
一度とが、酸化スチレン水素添加においてもアルデヒド
還元においても、反応速度と発熱量とを左右する。発熱
量は上記したような手法や反応温度圧力を低くすること
により制御できる。

しかし圧力を変えるに当っては、一連続方式にあっては
酸化スチレン水素添加とアルデヒド還元とを同じ圧力で
行うのが便利であり、かつ、酸化スチーレン水素添加反
応塔における圧力を低くしてもアルデヒド還元塔の使用
が大となる訳ではない。

また溶媒希釈剤を用いて発熱を制御することもできるが
、これには溶媒を製品から引離してやる必要がある。

更に酸化スチレン水素添加工程の生成物そのものを希釈
剤として使うこともできる。この方法によれば溶媒を回
復させる必要もなくなり、高温での反応が可能となり、
これに伴って反応速度が上り、触媒および設備を有効に
利用できるようになる。

以下実施例によ・つて更に具体的にこの発明について説
明する。

実施例１ 酸化スチレン１２０ｇと炭素に載せた５％パラジウム触
媒ｏ、ｓ　ｙを攪拌オートクレーブに充填した。更にこ
のオートクレーブを水素で１５０　ｐｓｉｇに加圧した
。まず反応混合物を４０”Ｃ迄加熱昇温し、爾後外部冷
却によりその温度に保った。７時間後に酸化スチレンは
全量が反応した。気化部分をガスクロマトグラフィーで
分析したところ、２９．２％のフェニル・アセトアルデ
ヒドと６９．０％のフェニル・エチルアルコールが生成
されたことが判った。蒸留法によった結果、残留物は約
１２％だった。

実施例２ 酸化スチレン１２０ｇと８５％液性メタノール１４ｇと
重炭酸ナトリウム１．ＯＩとパラジウム触媒ｏ−ｓ　ｏ
　ｙとニッケル触媒５．０１とを攪拌オートクレーブに
入れた。このオートクレーブを水素で５０　ｐａｉｇ　
に加圧した。この反応混合物を４０”Ｃに迄加熱昇温し
た。６時間後、酸化スチレンは全量が反応した。ガスク
ロマトグラフィーで分析したところ、フェニル・アセト
アルデヒドが１７．３％、フェニル・エチルアルコール
カフ　６．８％テアった。これは基本的にはアメリカ特
許第３，５７９，５９３号に記載された方法の第１工程
をなぞったものである。

実施例３ ニッケル触媒は使わずに実施例２の工程と同様の処理を
したところ、はソ同様の結果が得られた。

実施例４ 酢酸２．０ｇとトリエチルアミン０．０６ｊｉとを加え
たはかは実施例１と同様の処理を行った。５時。

間抜に酸化スチレンの全量が反応した。ガスクロマトグ
ラフィーにより分析したところ、フェニル・アセトアル
デヒドが５．８％とフェニル・エチルアルコールが９２
．７％生成され、残留物が約２％であることが判った。

この例からして、弱酸を加えるとフェニル・アセトアル
デヒドと残留物の生成が激減することが判る。

実施例５ ニッケル触媒１．０＃’Ｑ加えたほかは実施例４と同様
の処理を行った。３時間で酸化エチレンの全量が反応し
た。ガスクロマトグラフィー分析の結果、フェニル・ア
セトアルデヒドが５．１％とフェニル・−Ｉｒ升ルア、
ル・コールが９１．０％生成されたことが判った。、温
度ｔｚ（１３０℃に上げ、更に反応を５時間続けさせた
。ガスクロマトグラフィー分析したところ、反応の終り
にはフェニル・アセトアルデヒドが全んどフェニル・エ
チルアルコールに還元されたことが判った。

実施例６ トリエチルアミンは使わずにほかは実施例４と同じ処理
をしたところ、５時間で酸化スチレンの全量が反応した
。ガスクロマトグラフィー分析の結果、フェニル・アセ
トアルデヒドが８．５％とフェニル・エチルアルコール
が８９．５％生成サレ、残留物の量は変らないことが確
認された。

実施例７ 酢酸に代えて種々の酸を用いかつ種々反応時間を変えた
はかは、実施例６と同様の処理をした。

第１表にそれぞれの結果と合せてこれを列記する。

第１表 イソブチル酸　　　３　　　　　　Ｂ、５　　　　　　
９０．６安息香酸　　　　　４　　　　　６．４　　　
　　　９１．７フエニル酢酸　　　３　　　　　７．５
　　　　　　９１．５塩化マグネシウム　１２　　　　
　１２．０　　　　　　　　　Ｂ６．３シリカゲル　　
　　４　　　　１４．４　　　　　　　Ｂ３．６実施例
８ 実施例１の生成物ｉｇｏｙとニッケル触媒ｉ、。

Ｉとをオートクレーブに入れ、２４０　ｐｓｉｇ　に水
素加圧した。温度を１＋０℃に上げたところ水素添加が
５時間続いた。この終りに酸化スチレンの全量が反応し
た。ガスクロマトグラフィー分析したところ、フェニル
・エチルアルコ−シカ９６．４％生成されていた。この
例からして、この発明の変換方式によると、パラジウム
を炭素に載せて触媒として水素添加だけを行った場合に
比べて、フェニル・アセトアルデヒドの生成量が檄滅す
ることが判った。

実施例９ ニッケル触媒の代りに炭素に５％ルセニウムを載せたも
のを使用したほかは、実施例８と同様の処理をした。そ
の結果は実施例８の場合とはソ同じであった◇ 実施例１０ ニッケル触媒に代えてクロマイト鋼を用いたほかは実施
例８と同様の処理をしたが、実施例８とはソ同じ結果が
得られた。

実施例１１ 実施例４の生成物１００１とニッケル触媒０．５１とを
オートクレーブに入れ、２４Ｏｐｓｉｇ　　迄水素加圧
し、温度を１３０℃にして水素添加を３時間行わせた。

終り頃にははソ全量のフェニル・アセトアルデヒドが反
応し、ガスクロマトグラフィー分析の結果９７．１％の
フェニル・エチルアルコールが生成されたことが判った
。

実施例１２ 酢酸の代りに０．１８．９の８５％リン酸を用いたほか
は実施例４と同様の処理を行った。３時間後に酸化スチ
レンの全量が反応した。ガスクロマトグラフィー分析に
より、１０．８％のフェニル・アセトアルデヒドと８５
．８％のフェニル・エチルアルコールとが生成されたこ
とが判った。酸の使用量を増せばフェニル・アセトアル
デヒドの生成量はもつと少くなるだろう。

実施例１３ 炭素に載せたパラジウム１００Ｉを％インチ径で４８イ
ンチ長の管に詰め、その上部２４インチを循環水で１５
℃に冷却し、下部２４インチを循環水で４０℃に冷却し
た。ついで１０００　ｐｓｉｇ迄水素加圧し、２％の酢
酸と１．０６％のトリエチルアミンを含む酸化スチレン
ｍ液を２０Ｄｃｃ／時間の割合で通過させた。ガスクロ
マトグラフィー分析により、４．７％のフェニル・アセ
トアルデヒ）”と９３．５％のフェニル・エチルアルコ
ールおよび約２％の残留物が生成されたことが確認され
た。

実施例１４ ニッケル触媒１１０．！ｉ’を％インチ径で４８インチ
長の管に詰め、蒸気で１００℃に加熱し、ｉｏｏ。

ｐｓｉｇ　迄水素加圧した。実施例１３の生成物を２０
口ＣＣ７時間の割で通過させ、ガスクロマトグラフィー
分析を行ったところ、９６．９％のイエニル・エチルア
ルコールと２．０６％の残留物とが生成されたことが判
った。

実施例１５ 実施例１３の管と実施例１４の管とをパラジウム管を上
にニッケル管を下にして流路接続した。

パラジウム管の方は再循環浴により６０℃に加熱し、ニ
ッケル管の方は再循環浴により７５℃に加熱した。次い
で両管を１０００　ｐｓｌｇ　迄水素加圧した。２％の
酢酸と０．０６％のトリエチルアミンとを含んだ酸化エ
チル溶液を２５０ｃｃ／時間の割合いでパラジウム管に
通した。この管からの生成物を２５０ＣＣ／時間の割合
でパラジウム管の頭部に再循環した。これによりパラジ
ウム管の頭部には５０％フェニル・エチルアルコールと
酸化スチレンの５０％の供給液が５００ｃｃ／時間の割
合で供給された。

パラジウム管からの生成物の円内循環されない分はニッ
ケル管に供給された。この結果９７．９％のフェニル・
エチルアルコールと約２％の残留物とが生成された。

特許出願人　ケムーフルール　インターナショナル、イ
ンコーホレイテッド

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 （１）　　酸化スチレン水素添加触媒の有効量とフェニ
   ル・アセトアルデヒドの生成を阻止する酸の有効量との
   存在下で水素と酸化スチレンとを反応させて第１の反応
   生成物を形成し、次いで、アルデヒド還元触媒の有効量
   の存在下で該第１の反応生成物を水素で処理して、第１
   の反応生成物中のフェニル・アセトアルデヒドをβ−フ
   ェニル・エチルアルコールｃ変換ｆることを特徴とする
   β−フェニル・エチルアルコールの製造法。 （２）、アルデヒド還元触媒で処理する前に、第１の反
   応生成物を水素添加触媒から分離することを特徴とする
   特許請求の範囲第（１）項記載の製造法。 （３）水素と酸化スチレンとの間の反応中に存在する触
   媒が酸化スチレン水素添加触媒のみであることを特徴と
   する特許請求の範囲第（］）項記載の製造法。 （４）　　酸化スチレン水素添加触媒と水素と酸化スチ
   レンとの間において第１の触媒反応をひき起しでしかも
   フェニル・アセトアルデヒドとエチルベンゼンの形成を
   阻止する第１の温度および圧力下において水素と酸化ス
   チレンとを反応させ、次いで、 フェニル・アセトアルデヒドとアルデヒド還元触媒との
   間に第２の触媒反応をひき起してフェニル・アセトアル
   デヒドをβ−フェニル・エチルアルコールに変換するに
   充分な第２の温度および圧力に迄、上記の第１の温度お
   よび圧力、を上げてやる ことを特徴とする特許請求の範囲第（１）項記載の製造
   法。 （５）　　前記の酸の量が、β−フェニル・エチルアル
   コールへの酸化スチレンの変換率が少くとも約８４％と
   なるように、定められている ４ことを特徴とする特許請求の範囲第（１）、（２）も
   しくは（３）項記載の製造法。 （６）炭素原子数２〜２２の直線状および枝分れ状アル
   カノイック酸、安息香酸、およびアリル部に６〜１０個
   の炭素原子をまたアルキル部［１〜８１ｔｌＡの炭素原
   子を有したアリル置換アルカノイック酸からなる群から
   選ばれた有機酸を前記の酸として用いた ことを特徴とする特許請求の範囲第（１）、（２）もし
   くは（３）項記載の製造法。 （力　前記の酸が酢酸である ことを特徴とする特許請求の範囲第（６）項記載の製造
   法。 （８）　　Ｈ３ＰＯ４，［化マグネシウム、シリカゲル
   、シリカアルミナ、アルミナ、粘土および分子フルイか
   らなる群から選ばれた無機酸物質を前記の酸として用い
   た ことを特徴とする特許請求の範囲第（１）、（２）もし
   くは（３）項記載の製造法。 （９）前記の酸の濃度が約０．１〜２．０重量％である
   ことを特徴とする特許請求の軛１２ｔ１第（６）、（７
   ）もしくは（８）項記載の製造法。 ０１　　酸化スチレン水素添加触媒の有効量の存在下で
   水素と酸化スチレンとを反応させて第１の反応生成物を
   形成し、 酸化スチレン水素添加触媒から上記の第１の反応生成物
   を分離し、次いで、 アルデヒド還元触媒の有効蓋の存在下で上記の第１の反
   応生成物を水素で処理して、第１の反応生成物中のフェ
   ニル・アセトアルデヒドをβ−フェニル・エチルアルコ
   ールに変換スルことを特徴とするβ−フェニル・エチル
   アルコールの製造法。 ａＱ　パラジウムとプラチナからなる群から選択された
   水素添加触媒を用いる ことを特徴とする特許請求の範囲第（１）〜（１（＋１
   のいずれかの項記載の製造法。 ａの　　前記の水素添加触媒が固形基体上にあることを
   特徴とする特許請求の範囲第０１項記載の製造法。 峙　ニッケル、ルテニウム、銅りロ紫およびこれらの混
   合物からなる群から選択された水素添加触媒を用いる ことを特徴とする特許請求の範囲第（１）〜（１２＋の
   いずれかの項記載の製造法。 （１４１アルデヒド還元触媒がニッケルを含んでいるこ
   とを特徴とする特許請求の範囲第０〜項記載の製造法。 （１５１前記のアルデヒド還元触媒が固形基体上にある ことを特徴とする特許請求の軛ｍ第０３もしくはａ尋項
   記載の製造法。 ａＱ　　アミンも存在する条件下で、酸化スチレンと水
   素との反応が行われる ことを特徴とする特許請求の範囲第（１）〜四のいずれ
   かの項記載の製造法。 ０７）　　前記のアミンがトリエチル・アミンであるこ
   とを特徴とする特許請求の範囲第Ｑ６１．！Ｊ記載の製
   造法。 υ〜　固形基体上の酸化スチレン水素添加触媒の有効量
   の存在下で、第１の反応室内において水素と酸化スチレ
   ン間の反応を行わせて第１の反応生成物を形成し、 上記の第１の反応生成物を第１の反応室から第２の反応
   室に連続的に移し、がっ、 アルデヒド還元触媒の有効量の存在下で上記の第２の反
   応室内で第１の反応生成物を水素で処理して、第１の反
   応生成物中のフェニル・アセトアルデヒドをβ−フェニ
   ル・エチルアルコールに変換させる ことを特徴とする特許請求の範囲（１）〜０ηのいずれ
   かの項記載の製造法。 （ＩＩ　　第１および第２の反応室を構成する第１およ
   び第２の反応塔に酸化スチレンを通し、上記の第１と第
   ２の反応塔を連結して第１の反応塔からの第１の反応生
   成物が第２の反応塔内に流れるようにし、かつ、 第１の反応塔には木炭に載せたパラジウム触媒を配し、
   第２の反応塔にはニッケルを配したことを特徴とする特
   許請求の範囲第（１）〜ａ〜のいずれかの項記載の製造
   法。 （至）第１の反応塔底部底部から酸化スチレンと共に第
   １の反応生成物の一部を第１の反応塔内に還流させる ことを特徴とする特許請求の範囲第０１項記載の製造法
   。