JPS587820A - 拡散炉におけるチユ−ブ入口開閉装置 - Google Patents
拡散炉におけるチユ−ブ入口開閉装置Info
- Publication number
- JPS587820A JPS587820A JP10499881A JP10499881A JPS587820A JP S587820 A JPS587820 A JP S587820A JP 10499881 A JP10499881 A JP 10499881A JP 10499881 A JP10499881 A JP 10499881A JP S587820 A JPS587820 A JP S587820A
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- JP
- Japan
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- tube
- open
- mounting shaft
- opening
- boat
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-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/677—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations
- H01L21/67739—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations into and out of processing chamber
- H01L21/67754—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations into and out of processing chamber horizontal transfer of a batch of workpieces
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は拡散炉におけるチューブ入口開閉装置に関する
ものでおる。
ものでおる。
従来、半導体ウェハの拡散処理に用いられる拡散炉のチ
ューブ入口開閉は、人手に依っており、作業者がすり合
せ式のキャップをチューブ入口に挿し込むことにより実
施されている。しかしこの作業は高温および高所での作
業であることがら危険が多いため、最近ではそのチュー
ブ入口開閉な機械によって行なっている。
ューブ入口開閉は、人手に依っており、作業者がすり合
せ式のキャップをチューブ入口に挿し込むことにより実
施されている。しかしこの作業は高温および高所での作
業であることがら危険が多いため、最近ではそのチュー
ブ入口開閉な機械によって行なっている。
第１図はその拡散炉のチューブ入口開閉装置の一例を示
し、該装置では、チューブ入口の開閉動作が、チューブ
１の中心軸に直交する取付軸２に取着された開閉板３を
、図示しない駆動手段によって矢印ａに示す方向に回動
することによってなされている。そのため、取付軸２か
ら最遠となる開閉板先端部は破線すのような軌跡をとっ
て運動するので、その破Ｉｓｂの左側の領域には、ボー
ト受け４を支持する支工５を設けることができない。
し、該装置では、チューブ入口の開閉動作が、チューブ
１の中心軸に直交する取付軸２に取着された開閉板３を
、図示しない駆動手段によって矢印ａに示す方向に回動
することによってなされている。そのため、取付軸２か
ら最遠となる開閉板先端部は破線すのような軌跡をとっ
て運動するので、その破Ｉｓｂの左側の領域には、ボー
ト受け４を支持する支工５を設けることができない。
ところで、半導体ウェハ６を塔載するボート７は、一般
に、熱容量を低限するなどの目的から出来る限り短く形
成されている。したがって、上記のような開閉装置を具
備する拡散炉のチューブ１にボート７を挿入する場合に
は、開閉板３が開かれた後に支工５をチューブ側へ移動
させるが、さもなくば上記領域に新たにボート７を保持
させるための昇降手段（図示せず）を設ける必要がある
。
に、熱容量を低限するなどの目的から出来る限り短く形
成されている。したがって、上記のような開閉装置を具
備する拡散炉のチューブ１にボート７を挿入する場合に
は、開閉板３が開かれた後に支工５をチューブ側へ移動
させるが、さもなくば上記領域に新たにボート７を保持
させるための昇降手段（図示せず）を設ける必要がある
。
そのため、装置全体のコストの上昇や信頼性の低下を招
来し、さらには、装置の保守点検の回数を増やさなけれ
ばならないなどの難点があった。
来し、さらには、装置の保守点検の回数を増やさなけれ
ばならないなどの難点があった。
本発明はかかる難点を解消するためなされたもので、拡
散炉におけるチューブの中心軸に平行して設けた取付軸
に、前記チューブ入口を開閉するための開閉板を取着す
ると共に、該取付軸をその軸線の回りにｍｌ動させかつ
前記取付軸をその軸線方向に往復動させるための駆動手
段を連結させたことを特徴とする拡散炉Ｖこおけるチュ
ーブ入口開閉装置を提供するものである。
散炉におけるチューブの中心軸に平行して設けた取付軸
に、前記チューブ入口を開閉するための開閉板を取着す
ると共に、該取付軸をその軸線の回りにｍｌ動させかつ
前記取付軸をその軸線方向に往復動させるための駆動手
段を連結させたことを特徴とする拡散炉Ｖこおけるチュ
ーブ入口開閉装置を提供するものである。
以下、本発明の詳細を図面に示す実施例に基づいて説明
する。なお、以下の図面で、第１図と同一部材は同一符
号で表わすものとする。
する。なお、以下の図面で、第１図と同一部材は同一符
号で表わすものとする。
第２図は、本発明に係るチューブ入口開閉装置を示し、
該装置では、チューブ１の開閉を行なうための開閉板８
が、チューブ１の中心軸に平行に設けた取付軸９に取着
されているｅまた、取付軸９は、該取付軸９をその軸線
の回りに回動させかつ該取付軸９をその軸線方向に往復
動させるための駆動手段（図示せず）に連結されている
。例えば、この駆動手段としては、エアーシリンダ等が
用いられる。
該装置では、チューブ１の開閉を行なうための開閉板８
が、チューブ１の中心軸に平行に設けた取付軸９に取着
されているｅまた、取付軸９は、該取付軸９をその軸線
の回りに回動させかつ該取付軸９をその軸線方向に往復
動させるための駆動手段（図示せず）に連結されている
。例えば、この駆動手段としては、エアーシリンダ等が
用いられる。
而して、かかるチューブ入口開閉装置では、半導体ウェ
ハ６を塔載するボート７をチューブ１に挿入するにあた
っては、第３図のように開閉板８を手前側に位置させた
状態で行なう。そして、ボート７がチューブ１に挿入さ
れた後、駆動手段に二って取付軸９を回動させ、取付板
８をチューブ１の中心と致心させる、続いて、該取付軸
９を、チューブ入口に近づく方向に移動させ、取付板８
をチューブ１の入口面に圧接させる、この場合、チュー
ブ１の気密性を確保するために、チューブ１にＯリング
を設けておくことが好ましい。
ハ６を塔載するボート７をチューブ１に挿入するにあた
っては、第３図のように開閉板８を手前側に位置させた
状態で行なう。そして、ボート７がチューブ１に挿入さ
れた後、駆動手段に二って取付軸９を回動させ、取付板
８をチューブ１の中心と致心させる、続いて、該取付軸
９を、チューブ入口に近づく方向に移動させ、取付板８
をチューブ１の入口面に圧接させる、この場合、チュー
ブ１の気密性を確保するために、チューブ１にＯリング
を設けておくことが好ましい。
一方、チューブ入口の遮蔽は、上記操作と逆の順序を経
て行なわれる。
て行なわれる。
以上の実施例からも明らかなように、本発明によれば、
チューブの中心軸に平行して設けた取付軸に開閉板を取
着すると共に、該取付軸をその軸線の回りに回動させか
つ前記取付軸をその＠線方 向に往復動させるため
の駆動手段を連頑させ、それによりチューブ入口の開閉
を行なっているため、女工が設けられない空間が小さく
なる。ちなみに、その値を比較してみると、開閉板の大
きさを１００１１〜２００ｍｍとすると、従来のもので
はこの距離が女工が設けられない空間として存在するが
、本発明では取着板がチューブの中心軸方向に１０１１
〜２０ｍ１ｌ、即ちその気密を解除できる長さだけ移動
できれば良く、開閉板の厚さを考慮した場合でも確実に
上記距離はｈ−塊となる。したがって、従来のように開
閉板を開けた後に、女工をチューブ側′に移動させたす
、またボート挿入のための昇降子Ｅ−も必要としないた
め自動化に適する。また、ボートを自動的に挿入する機
構を組合せる場合でも、駆動部を少なくでき、装置全体
の価格の低減と信頼性の向上が図れるという利点がある
。
チューブの中心軸に平行して設けた取付軸に開閉板を取
着すると共に、該取付軸をその軸線の回りに回動させか
つ前記取付軸をその＠線方 向に往復動させるため
の駆動手段を連頑させ、それによりチューブ入口の開閉
を行なっているため、女工が設けられない空間が小さく
なる。ちなみに、その値を比較してみると、開閉板の大
きさを１００１１〜２００ｍｍとすると、従来のもので
はこの距離が女工が設けられない空間として存在するが
、本発明では取着板がチューブの中心軸方向に１０１１
〜２０ｍ１ｌ、即ちその気密を解除できる長さだけ移動
できれば良く、開閉板の厚さを考慮した場合でも確実に
上記距離はｈ−塊となる。したがって、従来のように開
閉板を開けた後に、女工をチューブ側′に移動させたす
、またボート挿入のための昇降子Ｅ−も必要としないた
め自動化に適する。また、ボートを自動的に挿入する機
構を組合せる場合でも、駆動部を少なくでき、装置全体
の価格の低減と信頼性の向上が図れるという利点がある
。
東図面の簡単な説明 □
の説明図である。
１・・・・・・・・・チューブ
２、Ｓ ・・・取付軸
３．８ ・・・開閉板。
（７３１７）代理人弁理士 則 近 憲 佑（ほか１名
）
）
Claims (1)
- 拡散炉におけるチューブの中心軸に平行して設けた取付
軸に、前記チューブ入口を開閉するための開閉板を取着
すると共に、該取付軸をその軸線の回りに回動させかつ
前記取付軸をその軸線方向に往復動させるための駆動手
段を連結させたことを特徴とする拡散炉におけるチュー
ブ入口開閉装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10499881A JPS587820A (ja) | 1981-07-07 | 1981-07-07 | 拡散炉におけるチユ−ブ入口開閉装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10499881A JPS587820A (ja) | 1981-07-07 | 1981-07-07 | 拡散炉におけるチユ−ブ入口開閉装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS587820A true JPS587820A (ja) | 1983-01-17 |
| JPH0154852B2 JPH0154852B2 (ja) | 1989-11-21 |
Family
ID=14395761
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10499881A Granted JPS587820A (ja) | 1981-07-07 | 1981-07-07 | 拡散炉におけるチユ−ブ入口開閉装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS587820A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS60169660A (ja) * | 1984-02-14 | 1985-09-03 | Nippon Mining Co Ltd | デイ−ゼルエンジン燃料の燃焼性改良方法 |
| JPS6446920A (en) * | 1988-06-24 | 1989-02-21 | Sony Corp | Open-close mechanism for cover body |
| WO1990010305A1 (de) * | 1989-03-04 | 1990-09-07 | Owis Gmbh | Vorrichtung an einer oxydations- oder diffusions-ofenanlage |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS57121246A (en) * | 1981-01-21 | 1982-07-28 | Hitachi Ltd | Semiconductor treating device |
| JPS57146330U (ja) * | 1981-03-09 | 1982-09-14 |
-
1981
- 1981-07-07 JP JP10499881A patent/JPS587820A/ja active Granted
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS57121246A (en) * | 1981-01-21 | 1982-07-28 | Hitachi Ltd | Semiconductor treating device |
| JPS57146330U (ja) * | 1981-03-09 | 1982-09-14 |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS60169660A (ja) * | 1984-02-14 | 1985-09-03 | Nippon Mining Co Ltd | デイ−ゼルエンジン燃料の燃焼性改良方法 |
| JPH0448938B2 (ja) * | 1984-02-14 | 1992-08-10 | Nippon Mining Co | |
| JPS6446920A (en) * | 1988-06-24 | 1989-02-21 | Sony Corp | Open-close mechanism for cover body |
| WO1990010305A1 (de) * | 1989-03-04 | 1990-09-07 | Owis Gmbh | Vorrichtung an einer oxydations- oder diffusions-ofenanlage |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0154852B2 (ja) | 1989-11-21 |
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