JPS587704B2 - イオンプレ−テイングホウ - Google Patents
イオンプレ−テイングホウInfo
- Publication number
- JPS587704B2 JPS587704B2 JP11450375A JP11450375A JPS587704B2 JP S587704 B2 JPS587704 B2 JP S587704B2 JP 11450375 A JP11450375 A JP 11450375A JP 11450375 A JP11450375 A JP 11450375A JP S587704 B2 JPS587704 B2 JP S587704B2
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- plated
- evaporator
- boat
- plating
- ion plating
- Prior art date
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- Expired
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/04—Coating on selected surface areas, e.g. using masks
- C23C14/046—Coating cavities or hollow spaces, e.g. interior of tubes; Infiltration of porous substrates
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/24—Vacuum evaporation
- C23C14/32—Vacuum evaporation by explosion; by evaporation and subsequent ionisation of the vapours, e.g. ion-plating
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
この発明は被プレーテイング材内部に配設した二重蒸発
器に通電させて金属イオンを蒸散させることにより該被
イオンプレーテイング材内表面にプレーテイングするイ
オンプレーテイング法に関する発明であり、特に、該二
重蒸発器に於けるイオン蒸発のメカニズムを効率的にし
た方法に係る発明である。
器に通電させて金属イオンを蒸散させることにより該被
イオンプレーテイング材内表面にプレーテイングするイ
オンプレーテイング法に関する発明であり、特に、該二
重蒸発器に於けるイオン蒸発のメカニズムを効率的にし
た方法に係る発明である。
従来、所望被プレーテイング材の内表面にイオンプレー
テイングを行う方法に於ては一般に線型法及び板型法が
あるが、必らずしも満足すべきプレーテイングが得られ
ない問題があった。
テイングを行う方法に於ては一般に線型法及び板型法が
あるが、必らずしも満足すべきプレーテイングが得られ
ない問題があった。
即ち、前者に於ては線状蒸発器を被プレーテイング材内
表面部位にセット出来るものの、その位置関係の制約か
ら該内表面全体に均一にプレーテイングすることが困難
である難点があった。
表面部位にセット出来るものの、その位置関係の制約か
ら該内表面全体に均一にプレーテイングすることが困難
である難点があった。
一方、後者に於では被プレーテイング材の形状により板
状蒸発器の側面、端部からの相対距離の条件でプレーテ
イング層の状態が異なるという欠点があり、就中、被プ
レーテイング材がパイプ形状の場合等では該板状蒸発器
に近い部分や被プレーテイング材の外面に近い部分では
プレーテイング層が良好に形成されるが、その内表面、
特に中央部分より遠い部分にはほとんど形成されないと
いう欠点があった。
状蒸発器の側面、端部からの相対距離の条件でプレーテ
イング層の状態が異なるという欠点があり、就中、被プ
レーテイング材がパイプ形状の場合等では該板状蒸発器
に近い部分や被プレーテイング材の外面に近い部分では
プレーテイング層が良好に形成されるが、その内表面、
特に中央部分より遠い部分にはほとんど形成されないと
いう欠点があった。
更に、イオン蒸散による付着速度が最大１μ／分程度で
あり、プレーテイング能率が悪いという不利点もあった
。
あり、プレーテイング能率が悪いという不利点もあった
。
この発明の目的は上述従来技術に基づくイオンプレーテ
イング法の問題点を解決すべき技術的課題とし、蒸発し
た金属イオンを確実に被プレーテイング材に均一、且つ
、効率良くプレーテイングするようにして加工産業にお
けるイオンプレーテイング利用分野に益する優れたイオ
ンプレーテイング法を提供せんとするものである。
イング法の問題点を解決すべき技術的課題とし、蒸発し
た金属イオンを確実に被プレーテイング材に均一、且つ
、効率良くプレーテイングするようにして加工産業にお
けるイオンプレーテイング利用分野に益する優れたイオ
ンプレーテイング法を提供せんとするものである。
上述目的に沿い、前述特許請求の範囲を要旨とするこの
発明の構成は、イオンプレーテイング操作の初めは、周
知イオンプレーテイング同様に真空槽を１０−２〜１０
−３ＴｏｒｒＡｒ雰囲気とし、蒸発器と被プレーテイン
グ材間に負の高電圧（−１〜−５ｋＶ）を印加して、蒸
発器、被プレーテイング材及びこれらの間にグロー放電
を発生せしめ、次いで、蒸発器を構成する内側蒸発ボー
トと外側補助ボートの間に電位差を与え、蒸発ボートか
ら金属を蒸発させ前記グロー放電によって蒸発金属がイ
オン化し、金属イオンとして加速され、該補助ボートで
再加熱することにより均一に加熱され且つコントロール
されてその多少の微小孔から均等に放散し、蒸発器を内
装配設している被プレーテイング材内表面に均一にプレ
ーティングする様にした技術的手段を講じたものである
。
発明の構成は、イオンプレーテイング操作の初めは、周
知イオンプレーテイング同様に真空槽を１０−２〜１０
−３ＴｏｒｒＡｒ雰囲気とし、蒸発器と被プレーテイン
グ材間に負の高電圧（−１〜−５ｋＶ）を印加して、蒸
発器、被プレーテイング材及びこれらの間にグロー放電
を発生せしめ、次いで、蒸発器を構成する内側蒸発ボー
トと外側補助ボートの間に電位差を与え、蒸発ボートか
ら金属を蒸発させ前記グロー放電によって蒸発金属がイ
オン化し、金属イオンとして加速され、該補助ボートで
再加熱することにより均一に加熱され且つコントロール
されてその多少の微小孔から均等に放散し、蒸発器を内
装配設している被プレーテイング材内表面に均一にプレ
ーティングする様にした技術的手段を講じたものである
。
次にこの発明の実施例を図面に従って設明すれば以下の
通りである。
通りである。
第１，２図に示す実施例に於て、１は適宜にセットされ
た円筒型の被プレーテイング材であり、該被プレーティ
ング材１の内部の同軸心位置にタングステン、モリブデ
ン等の高融点金属製の二重蒸発器を適宜手段により配設
する。
た円筒型の被プレーテイング材であり、該被プレーティ
ング材１の内部の同軸心位置にタングステン、モリブデ
ン等の高融点金属製の二重蒸発器を適宜手段により配設
する。
該二重蒸発器は板状の所定プレーテイング材を装入した
内側蒸発ボート２とその外側に設けた円筒状乃至それに
近い形状の補助ボート３から成っている。
内側蒸発ボート２とその外側に設けた円筒状乃至それに
近い形状の補助ボート３から成っている。
そして、該補助ボート３の表面には電極４のクランプ部
５を除いて、例えば、０．０５〜２ｍｍψの微小貫通孔
を多数均一に穿設してある。
５を除いて、例えば、０．０５〜２ｍｍψの微小貫通孔
を多数均一に穿設してある。
イオンプレーテイング操作の初めは、周知イオンプレー
テイング同様に真空槽を１０−２〜１０−３ＴｏｒｒＡ
ｒ雰囲気とし、蒸発器と被プレーテイング材間に負の高
電圧（−１〜−５ ｋＶ）を印加して、蒸発器、被プレ
ーテイング材及びこれらの間にグロー放電を発生せしめ
ておく。
テイング同様に真空槽を１０−２〜１０−３ＴｏｒｒＡ
ｒ雰囲気とし、蒸発器と被プレーテイング材間に負の高
電圧（−１〜−５ ｋＶ）を印加して、蒸発器、被プレ
ーテイング材及びこれらの間にグロー放電を発生せしめ
ておく。
そこで、補助ボート３の電極４と蒸発ボート２の電極６
に電源７から回路８を介して通電し、予め設定した電位
差を両者間に与えると蒸発ボート２のプレーテイング材
は加熱され、金属が蒸発し、上記グロー放電により、イ
オン化しエネルギーを付与された金属イオン補助ボート
３との電位差により加速、コントロールされ、周囲に高
速放射する。
に電源７から回路８を介して通電し、予め設定した電位
差を両者間に与えると蒸発ボート２のプレーテイング材
は加熱され、金属が蒸発し、上記グロー放電により、イ
オン化しエネルギーを付与された金属イオン補助ボート
３との電位差により加速、コントロールされ、周囲に高
速放射する。
しかも、補助ボート３には前述の如く多数の微小孔が穿
設されてあるため放射金属イオンは該孔に制御されて補
助ボート３で再加熱され、該補助ボート３の周囲から均
一に放射されることになり、したがって、被プレーテイ
ング材１の内表面に均一にプレーテイングを行うように
なる。
設されてあるため放射金属イオンは該孔に制御されて補
助ボート３で再加熱され、該補助ボート３の周囲から均
一に放射されることになり、したがって、被プレーテイ
ング材１の内表面に均一にプレーテイングを行うように
なる。
尚、上述実施例に則す実験例によれば、従前技術に基づ
く付着効率が最大１０％程度であったのに比し最低で９
０％程度となることが判り、著るしくプレーテイング効
率が良好であることがわかった。
く付着効率が最大１０％程度であったのに比し最低で９
０％程度となることが判り、著るしくプレーテイング効
率が良好であることがわかった。
又、付着速度も従前技術によれば最大１μ／分であった
ものが電位加速により４μ／分程度まで急速化されたの
がわかった。
ものが電位加速により４μ／分程度まで急速化されたの
がわかった。
次に、第３，４図に示す実施例では円筒型の被プレーテ
イング材１′を縦型にセットした点と、それに同軸的に
内設した二重蒸発器の内側蒸発ボート２′を円柱状にし
、内側に適宜プレーテイング材を装入しておき、その側
面に多数の微小孔を穿設した以外は上述実施例と同様で
ある。
イング材１′を縦型にセットした点と、それに同軸的に
内設した二重蒸発器の内側蒸発ボート２′を円柱状にし
、内側に適宜プレーテイング材を装入しておき、その側
面に多数の微小孔を穿設した以外は上述実施例と同様で
ある。
但し、外側の補助ボート３の多数の微小孔は内側蒸発ボ
ート２′のそれよりやや大きめに設定する。
ート２′のそれよりやや大きめに設定する。
そこで、前実施例と同様に内側蒸発ボート２′及び外側
補助ボート３の電極４，６に両者に設定電位差があるよ
うに通電すると、蒸発ボート２′内のプレーテイング材
は加熱され、その多数の微小孔から周囲に放散し、更に
外側補助ボート３により電位制御されると共にその孔に
より放散をコントロールされ、被プレーテイング材１′
の内側表面に均一にイオンプレーテイングが成される。
補助ボート３の電極４，６に両者に設定電位差があるよ
うに通電すると、蒸発ボート２′内のプレーテイング材
は加熱され、その多数の微小孔から周囲に放散し、更に
外側補助ボート３により電位制御されると共にその孔に
より放散をコントロールされ、被プレーテイング材１′
の内側表面に均一にイオンプレーテイングが成される。
以上この発明によれば、まず蒸発ボートを被プレーテイ
ング材の内部に蒸発器を配設してプレーテイングする様
にしたために、被プレーテイング材内表面に均一に効率
よく金属イオンをプレーテイングすることが出来る優れ
た効果が奏される。
ング材の内部に蒸発器を配設してプレーテイングする様
にしたために、被プレーテイング材内表面に均一に効率
よく金属イオンをプレーテイングすることが出来る優れ
た効果が奏される。
更に、該蒸発器の内側の蒸発ボートと外側の補助ボート
との間に電位差を与えてプレーテイング材を蒸散させる
ようにしたために金属イオンは単に熱エネルギーを得る
ことによって飛散させられルタけでなく、電位エネルギ
ーによって加速コントロールされるため高速で蒸散し、
被プレーテイング材にプレーテイング層を強固に形成す
ることが可能となる効果がある。
との間に電位差を与えてプレーテイング材を蒸散させる
ようにしたために金属イオンは単に熱エネルギーを得る
ことによって飛散させられルタけでなく、電位エネルギ
ーによって加速コントロールされるため高速で蒸散し、
被プレーテイング材にプレーテイング層を強固に形成す
ることが可能となる効果がある。
又、外側補助ボートに多数の微小孔を設けることにより
蒸発ボートからの金属粒にフィルター作用を与えてそれ
によっても被プレーテイング材に均一に確実にプレーテ
イング層を形成させることが出来る優れた効果が奏され
る。
蒸発ボートからの金属粒にフィルター作用を与えてそれ
によっても被プレーテイング材に均一に確実にプレーテ
イング層を形成させることが出来る優れた効果が奏され
る。
図面はこの発明の実施例を示すものであり、第１図は１
実施例の側断説明図、第２図はその■一■断面相当説明
図、第３図は他の実施例の側断説明図、第４図はその■
−■断面相当説明図である。 １，１′・・・・・・被プレーテイング材、２，２’，
３・・・・・・二重蒸発器、２，２′・・・・・・蒸発
ボート、３・・・・・・補助ボート、４，６・・・・・
・電極、５・・・・・・クランプ部、７・・・・・・電
源、８・・・・・・回路。
実施例の側断説明図、第２図はその■一■断面相当説明
図、第３図は他の実施例の側断説明図、第４図はその■
−■断面相当説明図である。 １，１′・・・・・・被プレーテイング材、２，２’，
３・・・・・・二重蒸発器、２，２′・・・・・・蒸発
ボート、３・・・・・・補助ボート、４，６・・・・・
・電極、５・・・・・・クランプ部、７・・・・・・電
源、８・・・・・・回路。
Claims (1)
- １ 被プレーテイング材内部に二重蒸発器を配設し、該
二重蒸発器に通電して金属粒子を蒸散させてイオンプレ
ーテイングする方法において、上記二重蒸発器の内側蒸
発ボートと外側の補助ボートの間に電位差を与えて該補
助ボートの多数の微小孔から蒸散金属を通過放散させて
前記被プレーテイング材内表面にプレーテイングするこ
とを特徴とするイオンプレーテイング法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11450375A JPS587704B2 (ja) | 1975-09-22 | 1975-09-22 | イオンプレ−テイングホウ |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11450375A JPS587704B2 (ja) | 1975-09-22 | 1975-09-22 | イオンプレ−テイングホウ |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5238484A JPS5238484A (en) | 1977-03-25 |
| JPS587704B2 true JPS587704B2 (ja) | 1983-02-10 |
Family
ID=14639373
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11450375A Expired JPS587704B2 (ja) | 1975-09-22 | 1975-09-22 | イオンプレ−テイングホウ |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS587704B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH078304U (ja) * | 1993-06-30 | 1995-02-07 | 國 川 李 | 連続詰め込み分類式ごみ桶 |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4609564C2 (en) * | 1981-02-24 | 2001-10-09 | Masco Vt Inc | Method of and apparatus for the coating of a substrate with material electrically transformed into a vapor phase |
| KR102587935B1 (ko) * | 2023-04-07 | 2023-10-11 | (주)한국알앤드디 | 선외기의 배기소음 저감 시스템 |
-
1975
- 1975-09-22 JP JP11450375A patent/JPS587704B2/ja not_active Expired
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH078304U (ja) * | 1993-06-30 | 1995-02-07 | 國 川 李 | 連続詰め込み分類式ごみ桶 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5238484A (en) | 1977-03-25 |
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