JPH01128399A - 粒子加速管の製造装置 - Google Patents
粒子加速管の製造装置Info
- Publication number
- JPH01128399A JPH01128399A JP28465887A JP28465887A JPH01128399A JP H01128399 A JPH01128399 A JP H01128399A JP 28465887 A JP28465887 A JP 28465887A JP 28465887 A JP28465887 A JP 28465887A JP H01128399 A JPH01128399 A JP H01128399A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- electron beam
- evaporated
- particle
- accelerating tube
- electron gun
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000002245 particle Substances 0.000 title claims abstract description 34
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 3
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims abstract description 15
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims abstract description 15
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 claims abstract description 14
- 230000001133 acceleration Effects 0.000 claims description 13
- 239000000463 material Substances 0.000 abstract description 10
- 238000000034 method Methods 0.000 abstract description 2
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 6
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 4
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 3
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 2
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 1
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 1
- 239000003814 drug Substances 0.000 description 1
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 1
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 1
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 1
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 1
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Particle Accelerators (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本発明は、電子等の粒子を加速する際に用いられる粒子
加速管の製造装置に関するものである。
加速管の製造装置に関するものである。
[従来の技術]
原子力等の分野では電子等の粒子を加速して高エネルギ
粒子とし、粒子の高エネルギを医療等種々分野に利用し
ているが、この粒子の加速は第3図に示す粒子加速管1
により行っている。
粒子とし、粒子の高エネルギを医療等種々分野に利用し
ているが、この粒子の加速は第3図に示す粒子加速管1
により行っている。
粒子加速管1は所要の軸心方向に所要間隔で中心側に張
出す鍔部2を有しており、加速される電子e′″は鍔部
2の中央の孔3を通過し、この孔3を通過する際に、高
周波電流により生じる電場により加速される。
出す鍔部2を有しており、加速される電子e′″は鍔部
2の中央の孔3を通過し、この孔3を通過する際に、高
周波電流により生じる電場により加速される。
前記した様に粒子加速管1には高周波の電流を流すので
できるだけ電気的抵抗の小さい無酸素銅の様な材料で作
られなければならない。
できるだけ電気的抵抗の小さい無酸素銅の様な材料で作
られなければならない。
従って、従来では粒子加速管を無酸素銅材料を切削して
作るか、或は高周波電流は表面を流れるのでステンレス
材等を地金として表面に無酸素鋼のメツキ又は銅と銀の
混合メツキを行う等していた。
作るか、或は高周波電流は表面を流れるのでステンレス
材等を地金として表面に無酸素鋼のメツキ又は銅と銀の
混合メツキを行う等していた。
[発明が解決しようとする問題点]
然し、粒子加速管全部を無酸素鋼材料とすると無酸素鋼
は高価なものであるので不経済である。又、表面に銅の
メツキ層を形成する方法であると、メツキ層は凸エツジ
部に厚く形成され、又凹エツジ部或は特に電極に対して
影になる様な場所には極めて形成されないという特徴が
あり、粒子加速管の様に形状の複雑なものでは不向であ
る。又、メツキ層は微視的に観ると多孔質であり、この
点からも好ましくない。
は高価なものであるので不経済である。又、表面に銅の
メツキ層を形成する方法であると、メツキ層は凸エツジ
部に厚く形成され、又凹エツジ部或は特に電極に対して
影になる様な場所には極めて形成されないという特徴が
あり、粒子加速管の様に形状の複雑なものでは不向であ
る。又、メツキ層は微視的に観ると多孔質であり、この
点からも好ましくない。
本発明は上記実情に鑑み、安価で製品品質のよい粒子加
速管を提供しようとするものである。
速管を提供しようとするものである。
[問題点を解決するための手段]
本発明は、真空容器に電子銃を設け、被蒸発金属棒材を
電子ビーム通過路に合致させて保持すると共に移動させ
得る様にした棒材移動装置を前記電子銃と対峙する位置
に設け、粒子加速管を真空容器内に電子ビーム通過路と
軸心が合致する様設置可能としたことを特徴とするもの
である。
電子ビーム通過路に合致させて保持すると共に移動させ
得る様にした棒材移動装置を前記電子銃と対峙する位置
に設け、粒子加速管を真空容器内に電子ビーム通過路と
軸心が合致する様設置可能としたことを特徴とするもの
である。
[作 用]
電子銃より棒材端面に電子ビームを照射し、被蒸発金属
を蒸発させ、粒子加速管の内面に金属を蒸着させる。
を蒸発させ、粒子加速管の内面に金属を蒸着させる。
又、蒸着の進行に伴い棒材を移動させ、その端面位置を
未蒸着部のある方へ移動させ、粒子加速管内面全域に亘
って金属の蒸着を行う。
未蒸着部のある方へ移動させ、粒子加速管内面全域に亘
って金属の蒸着を行う。
[実 施 例]
以下図面を参照しつつ本発明の1実施例を説明する。
製造すべき粒子加速管1を収納する筒状の真空容器4の
上端面に電子銃5を設け、他端面に該電子銃5と対峙さ
せ被蒸発金属移動装置6を設ける。該移動装置6は、被
蒸発金属の棒材7を前記電子銃5から発せられる電子e
′″の通過路と合致させて保持し、互譲棒材7を所定の
速度で移動装置6側へ引込み得る様になっている。
上端面に電子銃5を設け、他端面に該電子銃5と対峙さ
せ被蒸発金属移動装置6を設ける。該移動装置6は、被
蒸発金属の棒材7を前記電子銃5から発せられる電子e
′″の通過路と合致させて保持し、互譲棒材7を所定の
速度で移動装置6側へ引込み得る様になっている。
又、前記真空容器4は粒子加速管1を電子ビーム通過路
に軸心が一致し得る様保持(或は粒子加速管1を設置)
可能となっている。尚、真空容器4は図では特に示して
いないが、粒子加速管l装入取出用の扉が設けられ、内
部は気密となっている。
に軸心が一致し得る様保持(或は粒子加速管1を設置)
可能となっている。尚、真空容器4は図では特に示して
いないが、粒子加速管l装入取出用の扉が設けられ、内
部は気密となっている。
図中8真空ポンプ、9は移動装置6の制御装置である。
以下作動を説明する。
真空容器4内に粒子加速管lを設置し、移動装置9によ
り棒材7をその上端が粒子加速管1の上端近傍位置とな
る様送出す。
り棒材7をその上端が粒子加速管1の上端近傍位置とな
る様送出す。
この状態で電子銃5を動作させ、電子ビームを棒材7上
端面に向けて発射させ、電子ビームのもつエネルギによ
り棒材7を溶融蒸発させる。
端面に向けて発射させ、電子ビームのもつエネルギによ
り棒材7を溶融蒸発させる。
蒸発した金属蒸気は粒子加速管Iの内面に蒸着する。
この時の金属蒸気の到達方向の距離γは第2図に示す如
くであり、 γヴcos0θ の関係がある。ここで被蒸発金属が銅の場合はn−2〜
3である。
くであり、 γヴcos0θ の関係がある。ここで被蒸発金属が銅の場合はn−2〜
3である。
従って、電子ビームの強さは粒子加速管lの管径、蒸着
層の厚みにより決定し、又棒材7の下降速度は蒸着層の
厚みにより決定する。 4上記の如くして粒子加
速管lの上端から下端に亘る内面に銅金属の蒸着が終る
と、粒子加速管lを取出し、上下転倒させ、再び真空容
器4内に設置し、上記したと同様の作業を行う。
層の厚みにより決定し、又棒材7の下降速度は蒸着層の
厚みにより決定する。 4上記の如くして粒子加
速管lの上端から下端に亘る内面に銅金属の蒸着が終る
と、粒子加速管lを取出し、上下転倒させ、再び真空容
器4内に設置し、上記したと同様の作業を行う。
尚、この往復作業により、1方向作業では第2図で示さ
れる影部分10に充分な蒸着層が形成し得ない不都合が
解消される。
れる影部分10に充分な蒸着層が形成し得ない不都合が
解消される。
又、内面の形状は均一でないので、より均一厚さの蒸着
層を形成しようとする場合は、棒材7先端が鍔部2を通
過する速度と、他の部分を移動する速度とを変化させて
もよい。
層を形成しようとする場合は、棒材7先端が鍔部2を通
過する速度と、他の部分を移動する速度とを変化させて
もよい。
尚、棒材7からの蒸発量が多い場合には棒材7を逆に上
昇させることもあり得る。
昇させることもあり得る。
[発明の効果コ
以上述べた如く本発明によれば、粒子加速管の内面に緻
密で不純物のない純度の高い良導電層を形成することが
でき、而も良電層の厚みは均一で必要最小限のものとす
ることができるので、材料費は大幅に安くなる。
密で不純物のない純度の高い良導電層を形成することが
でき、而も良電層の厚みは均一で必要最小限のものとす
ることができるので、材料費は大幅に安くなる。
第1図は本発明の1実施例の概略説明図、第2図は作動
説明図、第3図は粒子加速管の概要を示す説明図である
。 1は粒子加速管、4は真空容器、5は電子銃、6は移動
装置、7は棒材を示す。
説明図、第3図は粒子加速管の概要を示す説明図である
。 1は粒子加速管、4は真空容器、5は電子銃、6は移動
装置、7は棒材を示す。
Claims (1)
- 1)真空容器に電子銃を設け、被蒸発金属棒材を電子ビ
ーム通過路に合致させて保持すると共に移動させ得る様
にした棒材移動装置を前記電子銃と対峙する位置に設け
、粒子加速管を真空容器内に電子ビーム通過路と軸心が
合致する様設置可能としたことを特徴とする粒子加速管
の製造装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP28465887A JPH01128399A (ja) | 1987-11-11 | 1987-11-11 | 粒子加速管の製造装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP28465887A JPH01128399A (ja) | 1987-11-11 | 1987-11-11 | 粒子加速管の製造装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH01128399A true JPH01128399A (ja) | 1989-05-22 |
Family
ID=17681308
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP28465887A Pending JPH01128399A (ja) | 1987-11-11 | 1987-11-11 | 粒子加速管の製造装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH01128399A (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2013501328A (ja) * | 2009-08-06 | 2013-01-10 | シーメンス アクチエンゲゼルシヤフト | 導波管、特に誘電体壁加速器における導波管 |
CN103068140A (zh) * | 2012-12-24 | 2013-04-24 | 江苏达胜加速器制造有限公司 | 一种电子负载抑制型高压加速管 |
CN106676480A (zh) * | 2017-03-10 | 2017-05-17 | 南京大学 | 一种蒸发速率可控的电子束蒸发源 |
-
1987
- 1987-11-11 JP JP28465887A patent/JPH01128399A/ja active Pending
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2013501328A (ja) * | 2009-08-06 | 2013-01-10 | シーメンス アクチエンゲゼルシヤフト | 導波管、特に誘電体壁加速器における導波管 |
CN103068140A (zh) * | 2012-12-24 | 2013-04-24 | 江苏达胜加速器制造有限公司 | 一种电子负载抑制型高压加速管 |
CN106676480A (zh) * | 2017-03-10 | 2017-05-17 | 南京大学 | 一种蒸发速率可控的电子束蒸发源 |
CN106676480B (zh) * | 2017-03-10 | 2019-11-08 | 南京大学 | 一种蒸发速率可控的电子束蒸发源 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US4420386A (en) | Method for pure ion plating using magnetic fields | |
EP0384617B1 (en) | System and method for vacuum deposition of thin films | |
US3324019A (en) | Method of sputtering sequentially from a plurality of cathodes | |
JPH0726198B2 (ja) | 薄膜形成方法及びその装置 | |
US20110101245A1 (en) | Evaporation system | |
US3404084A (en) | Apparatus for depositing ionized electron beam evaporated material on a negatively biased substrate | |
JPH01128399A (ja) | 粒子加速管の製造装置 | |
JPH0219459A (ja) | るつぼを有する蒸発源組立体 | |
JP3311387B2 (ja) | 複合スパッタリング装置 | |
CN1057073A (zh) | 加弧辉光离子渗金属技术及设备 | |
JP2021528815A (ja) | 単一ビームプラズマ源 | |
CN1017354B (zh) | 用离子束反应溅射方法成膜的装置 | |
KR20010021341A (ko) | 아크형 이온 플레이팅 장치 | |
JPH11269634A (ja) | 真空アーク蒸発源 | |
JP2857743B2 (ja) | 薄膜形成装置および薄膜形成方法 | |
JP3409874B2 (ja) | イオンプレーティング装置 | |
JPH1136063A (ja) | アーク式蒸発源 | |
JPS6348931Y2 (ja) | ||
JP3330159B2 (ja) | ダイナミックミキシング装置 | |
JPH04120271A (ja) | クラスタイオンビーム発生方法およびクラスタイオンビーム発生装置 | |
JP2001143894A (ja) | プラズマ発生装置及び薄膜形成装置 | |
JP3404065B2 (ja) | 蒸着効率の高いイオンプレーティング装置 | |
JP2005187864A (ja) | 成膜装置および成膜方法 | |
JPH04350156A (ja) | 薄膜形成装置 | |
JPH0196372A (ja) | イオンプレーティング装置 |