JPS5862895A - 半導体記憶回路 - Google Patents

半導体記憶回路

Info

Publication number
JPS5862895A
JPS5862895A JP56162255A JP16225581A JPS5862895A JP S5862895 A JPS5862895 A JP S5862895A JP 56162255 A JP56162255 A JP 56162255A JP 16225581 A JP16225581 A JP 16225581A JP S5862895 A JPS5862895 A JP S5862895A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
circuit
boosted
voltage
vcc
bit line
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP56162255A
Other languages
English (en)
Other versions
JPS6333239B2 (ja
Inventor
Yasuharu Nagayama
長山 安治
Tsutomu Yoshihara
吉原 務
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Electric Corp
Original Assignee
Mitsubishi Electric Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Mitsubishi Electric Corp filed Critical Mitsubishi Electric Corp
Priority to JP56162255A priority Critical patent/JPS5862895A/ja
Publication of JPS5862895A publication Critical patent/JPS5862895A/ja
Publication of JPS6333239B2 publication Critical patent/JPS6333239B2/ja
Granted legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C11/00Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor
    • G11C11/21Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements
    • G11C11/34Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using semiconductor devices
    • G11C11/40Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using semiconductor devices using transistors
    • G11C11/401Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using semiconductor devices using transistors forming cells needing refreshing or charge regeneration, i.e. dynamic cells
    • G11C11/4063Auxiliary circuits, e.g. for addressing, decoding, driving, writing, sensing or timing
    • G11C11/407Auxiliary circuits, e.g. for addressing, decoding, driving, writing, sensing or timing for memory cells of the field-effect type
    • G11C11/408Address circuits
    • G11C11/4085Word line control circuits, e.g. word line drivers, - boosters, - pull-up, - pull-down, - precharge

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Semiconductor Memories (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 この発明は、MO8型罐界効米トランジスタ(以下にお
いてはMO8Tと略記する)を用いたMO8型記憶回路
に関するものである。
現在、ダイナミック・MO8RAMは5v単一1!l!
源化に統一されつつある。5v単一電源になると、−源
電圧が従来の16にダイナミックMOS RA Mの1
2Vに比べて小さくなり、ソ7トエ2−に対して非常に
弱くなるため、檎々の対策が必要となってきた。
このため、メモリセルにVcc電圧を書き込むためのり
チャージ回路を用いることが一般的となってきている。
セ/スア/グが動作したとき、・・□・・になるべき偶
のビット線はロス電流のため、電位の低下を起こすので
、この電位を上記リチャージ回路によって再びVaaに
充電し、メモリセルへ再沓き込みするものである。リチ
ャージ回路を用いると、ワード線を昇圧してメモリセル
のl11i[電圧(VthM)と電源電圧との和以上の
値にする必要がある。第1図にセノスアンプ回路、リチ
ャージ回路。
メモリセル及びダミーセルの従来の配置溝#fcをホす
。各メモリセルはメモリg*とMO8Tからなり、同様
に各ダミーセルはグミー谷蓋とMO8Tからなる。図示
しないが、ダミーセルのMO8Tのゲートに接続される
ダミーワード線が設けられており、センス回路に対して
右または左側の一方にあるメモリセルがデコーダ回路に
よって選択された時、他方にあるダミーセルがダミーワ
ード線によって選択される。
次に第2図を用いて第1図回路の動作を説明する。φl
、φ2の信号によって、信号RXを発生させる。RX信
号は、デコーダ回路によって制御されるMO8T CL
Dを通してワード1I(WL)へ信号を伝達しメモリセ
ルのQlやQ2をオンさせる。また、RX信号を遅延さ
せた信号により、容11IC1を用いてRXを昇圧させ
ている。このようにRX信号を昇圧させる方法は、WL
の電位を昇圧させられるので、メモリセルのム点やB点
に蓄積されていた電位をビット1iBL、BLに十分伝
達でき、センスアンプを安定に動作できるばかりでなく
、ソフトエラーに対しても強くすることができる。また
、ダミーセルにもRX信号は伝達される。従って、RX
信号の昇圧は低電圧(5v)を用いたダイナミックRA
Mでは一般的な技術になってきている。
BL、BlをVccにプリチャージする回路例では、ワ
ード1iWLが立ち上がると、II L 11が記憶さ
れていた被選択メモリセルが接続されたビット線(BL
BL )や被選択ダミーセルが接続されたビット娠は電
位が下降し始める。そして、RX (WL)が昇圧され
ると更にメモリセルやダミーセルからの続み出し電圧が
大きくなるため、下降する。この後、センスアンプが動
作し II L IIが記憶されていた被選択メモリセ
ルが接続されたビット線や、被選択ダミーセルが接続き
れたビット線はGND (接地)レベルに下降する。I
IH+1が記憶されていた被選択メモリセ々が接続され
たビット線や、被選択ダミーセルが接続されたビット線
は、センスアンプが動作すg以前より若干電圧レベルは
下降するが高い電圧レベルを維持する。その後、リチャ
ージ回路が活性化すると、高い電圧レベルを維持してい
るビット線側は、より高い電圧レベル(電源電圧)に達
し、メモリセルやダミーセルにも電源電圧に等しい電圧
レベルを再書き込みできる。メモリセルに電源電圧(V
c c )が再書き込みされるので、乳が昇圧されて(
Vcc + v蓼)以上になっても”Hlが記憶されて
いた被選択メモリセルが接続されたビット線の電位は下
降しない。
しかし、バター/レイアウトやチップサイズの制限から
りチャージ回路を設けられないチップを設計しなければ
ならない場合が生じる。この場合のタイミング図を第3
図に示す。
このとき、−い磁圧レベルを維持しているビット線側は
VQQレベルではないので、メモリセルへの再書き込み
もこの一位となる。この値をvMとする。この場合、R
Xを立ち上げ、昇圧したときにRX (WL)が(VM
 +Vthg )以上に昇圧されてしまうと% Qlや
Qllがオンし、 Vacがプリチャージされていたビ
ット線電位に下げることになる。しかも。
この下降はIIH“を記憶していたメモリセルを選択し
た場合に発生するため、°′H゛を読み出すためのセン
スアンプの動作マージ/や、ソフトエラーに対して弱く
なる。
この結果、リチャージ回路を設けない設計において、R
X (WL)の必要以上の昇圧は、動作マージ7を低下
させる可能性がある。
本発明は、この様にRX (WL)を昇圧させた場合に
発生する不合理を除去し、リチャージ回路を有しない場
合でもセンスアンプを安定動作させ、ソフトエラーに対
して強くできる回路を提供するものである。
本発明を第4図、第5図を用いて説明する。本発明の主
眼点はRY (WL)の必要以上の昇圧を避けることで
ある。RX (WL)が立ち上がり、デコーダQo i
ll ニよって選択されたWLやダミーワールド線(図
示t f )によってメモリセルのQlやQ2.iたダ
ミーセルのMO8T (図示せず)がオンし、BL直の
電位がメモリセルの記憶電位によって変化する。更に、
RX (WL)が昇圧されるとBL、BLの電位変化が
太き(なり、よりセンスアンプの安定動作が期待できる
様になる。ここで、RX (WL)が必要以上に昇圧さ
れると従来の回路例で説明した現象が発生ずるため、本
発明ではQsのMO8Tを挿入している。このMO8T
は、クラップL!!l路として動作シ、Ql5.(Q 
MO8T (7,) 1!114I!電圧とVccとの
和以上にRXが昇圧すると、Qsがオンし昇圧された電
位をvccへ逃がす働きをするため、(Vcc + v
thc ) (VthcはQsの閾値電圧)以上にRX
 (WL)を昇圧できfl (fiる。しかし、RX 
(WL)は一定値まで昇圧できるので、ビット線峨位は
変化し、RX (wL)を昇圧しない場合に比べて、よ
り大きな読を出し電圧を得ることができる。その後、セ
ンスアンプが動作し、BL、 BLは高い電位を維持す
る冑とGNDレベルに下降する側に分かれる。リチャー
ジ回路がない場合、高い電位を維持する側のビット線は
Vccレベルより下降するので、この値をVMとすると
、次の関係式を満足するとき、QsのMO8Tの役割が
果たせたことにな′る。
(Tea + vtha) −YM < Vthm  
   −Ill従って、Q8のMO8Tの閾値電圧は1
11式を満足するvthc に設定する必要がある。
尚、本発明の特徴は、昇圧回路にクラップ”l!!I 
fI!1を設け、昇圧電位に制限を与えることであるか
らQsのMO8Tのゲート電位は畑の基準電圧発生回路
を用いた基準電位であっても艮いことはどうまでもない
また、Q’のMO8Tの閾値電圧の選択によって、クラ
ップ電圧を制御できることがわかる。例えばQaのハS
Tと同一の閾値電圧を用いたときには、約1 、OVの
昇圧が許されるが、史に0.5V高い閾値電圧を用いる
と約1.5vの昇圧が叶される。具体例での閾値電圧の
関係を例示すると、Ql、Q2の閾値電圧)Qaの閾値
電圧>Q、3の閾値電圧となる。
【図面の簡単な説明】
第1図は従来の記憶面路をボす図、第2図及び第3図は
従来の記憶回路を説明するためのタイミングチャート、
第4図は本発明の一実施例による記憶回路を示す図、第
5図は第4図回路を説明するためのタイミングチャート
である。 図中、φl、φ♀はクロック信号、CIは容重、Q”+
ctQ、 Q3. Q4. Qat QnはMO!3T
である。 代理人  ′S 舒 信 − 第2図 第3図 第C図  − 手続補正書(自発) 特許庁長官殿 1、事件の表示    特願昭56−162256号2
、発明の名称 半導体記憶回路″ 3、補正をする者 シ≧\ ; 号 汁、;f・ ig;=7 Sノ 5、  @正の対象 明細書の発明の詳細な説明の欄 6、補正の内容 明細書中第6頁第16行に「RY」  とあるのを「R
x」と訂正する。 以上

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 は) 第1及び第2のビット線、上記$1のピッド線に
    接続されメモリ容置とMOS トランジスタからなる第
    1のメモリセル、上記第1のビット線に接続されたダミ
    ーセル、上記第2のビット線に接続されメモリ容置とM
    OS トランジスタからなる第2のメモリセル、上記第
    2のビット線に接aされた第2のダミーセル、上記第1
    及び第2のメモリセルの各MO8トランジスタのゲート
    に接続された複数のワード線、上記複数のワード線の中
    の1つを選択的に駆動するデコーダ回路、上記各ワード
    数に電源電圧以上の昇圧電圧を供給する昇圧回路、上記
    第1及び第2のビット線に接続され選択されたワード線
    に接続されたメモリセルからの続出し電位とダミーセル
    からの続出し電位とを比較項中するセンス回路、上記各
    ワード線に与えられる昇圧電圧を所定値に制限するクラ
    ンプ回路を備えた半導体記憶回路。 (2)  クランク回路としてドレイ/が4源電圧に接
    続され、ゲート及びソースが各ワード線に接続
JP56162255A 1981-10-12 1981-10-12 半導体記憶回路 Granted JPS5862895A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP56162255A JPS5862895A (ja) 1981-10-12 1981-10-12 半導体記憶回路

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP56162255A JPS5862895A (ja) 1981-10-12 1981-10-12 半導体記憶回路

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS5862895A true JPS5862895A (ja) 1983-04-14
JPS6333239B2 JPS6333239B2 (ja) 1988-07-04

Family

ID=15750950

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP56162255A Granted JPS5862895A (ja) 1981-10-12 1981-10-12 半導体記憶回路

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS5862895A (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0472095A2 (en) * 1990-08-20 1992-02-26 Fujitsu Limited Semiconductor memory device having a boost circuit
JPH04121894A (ja) * 1990-09-12 1992-04-22 Toshiba Corp 半導体記憶装置

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0472095A2 (en) * 1990-08-20 1992-02-26 Fujitsu Limited Semiconductor memory device having a boost circuit
JPH04121894A (ja) * 1990-09-12 1992-04-22 Toshiba Corp 半導体記憶装置

Also Published As

Publication number Publication date
JPS6333239B2 (ja) 1988-07-04

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TW525185B (en) Semiconductor memory device having normal and standby modes, semiconductor integrated circuit and mobile electronic unit
CA1114953A (en) Dynamic sense-refresh detector amplifier
JPS63288496A (ja) 高性能dramのためのセンス増幅器
JPS59124095A (ja) 半導体記憶装置
ATE111632T1 (de) Anordnung mit selbstverstärkenden dynamischen mos-transistorspeicherzellen.
US4980862A (en) Folded bitline dynamic ram with reduced shared supply voltages
JPH04102292A (ja) 昇圧回路
JP3494488B2 (ja) 半導体装置
JPS5837896A (ja) Mosダイナミック回路
KR950014256B1 (ko) 낮은 전원전압을 사용하는 반도체 메모리장치
JPS62501807A (ja) ブ−スト語ラインを有する半導体メモリ
US4404661A (en) Semiconductor memory circuit
TW487912B (en) Ferroelectric memory device
US4387448A (en) Dynamic semiconductor memory device with decreased clocks
JPS5862895A (ja) 半導体記憶回路
JPS58158096A (ja) ダイナミツクランダムアクセスメモリ用の検知・回復回路
JPH0869693A (ja) スタティック型半導体記憶装置
JPH08205526A (ja) 半導体集積回路の内部電圧昇圧回路
JPS60179993A (ja) ランダムアクセスメモリ
JPS58128090A (ja) ダイナミツクicメモリ
TWI257627B (en) Internal power management architecture for memory chips under deep power down mode
JPS6050697A (ja) 半導体集積回路
JPS5823386A (ja) Mosダイナミツクメモリ
JP2959036B2 (ja) 半導体メモリ
JPS6130352B2 (ja)