JPS5862828A - 磁気記録媒体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の分野〕 本発明は磁気記録媒体の組成に関する。

〔背景技術の説明〕

磁気記録密度が次第に増加し、それに対応してドラック
幅が狭くなってくると、磁気ピントセルの大きさも、今
までディスク被膜の摩耗抵抗を良くするために通常使用
されていた硬い非磁性粒子を最小限しか使用できないよ
うな大きさになってきた。更に如上のような密度の要求
に合わせるため、コバルトを表面拡散したγ−Ｆｅ２Ｏ
３叩ちコバルトで改良した７−Ｆｅ、０３の磁性粒子の
ような新規２な磁性粒子が開発されたが、マトリックス
（間充質）のキユアリング温度が高いことからその粒子
の磁性を損なうことがわかった。この欠点はコバルト拡
散の結果として磁性が減ることから生じる。またその被
覆物質は滑らかな表面をもつ非常に薄い被膜を形成でき
るものでなければならない。これによってスライダ・ア
センブリを担持する変換器がその表面の上方、約５１〜
７６×１０−’ｍｍ　（百万分の２，３インチ）の高さ
のところ全飛翔できることになる。これらの性質は、磁
気ディスク被膜に通常必要゛な特性以外に要求される特
性である。通常必要な特性というのは、通常の被覆技法
を適用できること、ヘッドを繰返しロードしても耐えら
れること、高い配向比を得られること、並びに良好な摩
耗抵抗、衝撃抵抗及び腐食抵抗を得られることなどであ
るう 〔発明の概要〕 本発明は、室温でのシェルフライフを延ばし且つ高い温
度のとき重合化されるような熱硬化性のポリウレタン組
成物を含む。

本発明の被覆物質は厚さが約２μｍ（８０マイクロイン
チ）未満で、パイ、ン４ダ２０乃至５０重量係に対し５
０乃至８０重量係の割合で磁性粒子が分散されている熱
硬化性のポリウレタン・バインダである。キユアリング
されていない被膜の基本的な成分は、ブロック・インシ
アネート及びポリオールである。ここで使用されるポリ
オール樹脂は、ポリエステル、ポリアクリル型又はエポ
キシ型のものが又はそれらを組合わせたものであって、
反応性ヒドロキシ基の箇所あたり少なくとも２００の分
子量と鎖状体あたり反応性ＯＨ箇所を２箇所又はそれ以
上有するものであって良い。鎖状体あたり少なくとも３
個７の反応性ＮＣＯ基の箇所を有し且つ上記のポリオー
ルとともに約１５０乃至６００好ましくは約１５０乃至
５００の範囲内のＮＣＯＣ０等量金石ポリイソシアネー
ト金剛いると、キユアリングされた熱硬化性のマトリッ
クスは、剛い磁気ディスク媒体に必要な表面特性、硬度
及び耐性、並びに硬い非磁性粒子の物質を加える必要の
ない摩耗抵抗を有するように形成できる。ブロック・イ
ソシアネート及びポリオールが室温より十分高い温度に
上昇したときにのみ反応するのでその基、、′嘴、　　
　　゛ 本成分は室温でほとんど無限のシェルフライフを有する
ことになる。シェルフライフについての実際上の真の制
限は、磁性粒子がいかに効果的に分散できるかにかかつ
ている。その組成は、磁性酸化鉄、磁性酸化クロミウム
、磁性のコバルトで改良された酸化物、合金粒子又は磁
性波＠を生じる技法で通常使用される他の同様の粒状物
質などの微細な磁性粒子を混合することによって用意さ
れることが望ましい。最終的な組成物の中に埋め込まれ
る粒子の寸法は約０．０６ミクロン乃至１．００ミクロ
ンの範囲であシ、その長さと幅との比は４／１乃至１６
７１位である。

被膜の性質を増進させるのに使用される添加剤は、分散
剤、触媒及び表面活性剤を含む。もつとも効果的な添加
剤の中には、磁性粒子上にキレ−ジョン効果を与えるカ
ルボキシ側鎖を有するポリエステル・ポリオールがある
。またポリオールであるが、その添加剤は、架橋ポリウ
レタン・バインダ・マトリックスの一部となる。この種
のポリエステル・ポリオールがポリオールとして選択さ
れるならば、分散剤を添加する必要はない。新規な磁性
粒子の方が熱に対して敏感なので、１時間未満の期間で
且つ約１９０℃（６７５°Ｆ）もしくはそれ以下の通常
のポリウレタンの反応温度囲ちキユアリング（硬化）温
度の方が、他の多くの被覆システムに必要な長時間で且
つはるかに高い温度よシも有利である。この特性をもつ
と増進させるため、触媒が使用され、これによって反応
速度を早め且つまたキユアリング温度をもっと低くする
。表面活性剤を用いると、滑らかで薄い被膜を形成する
間にバインダが磁性粒子の密度をもつと高く保持できる
。

キユアリングして冷却した後、磁性の記録面が研磨され
、これによって表面が超仕上げされる。

その表面の粗さの算術平均（ＡＡ）は０．１乃至０゜４
マイクロインチ（０，１〜０．４ｘ２５．４ｘ１０−’
ミリ）であシ、まだ厚さは約２μｍ　（８ｏ　Ｘ　２５
゜４Ｘ１０””ミリ）以下の厚さである。この結果得ら
れる磁性記録面は、目に見えるような筋や線、凹み、空
所もしくはざらざらのない非常に滑らかな連続した表面
である。

この被膜は、内部に均一に埋め込まれた磁性粒子の摩耗
や脱落に強い。それを更に表面仕上げすると、従来から
ある洗浄用の溶剤に対しても水洗中高い抵抗力を有する
。

仕上げ後の表面構造は、微小な箇所に小量の潤滑剤を保
持しており、これがディスク面を効果的に弔）滑する。

しかし静止した読取書込ヘッドがデ、イスクに突込んだ
り付着したりするなど、種々の動作速度で回転している
ディスクを損傷することもない。

〔実施例の説明〕

ここで説明する磁性被膜は、磁性粒子が分散されている
ポリウレタン・バインダを含み、しかもそれが現在の被
覆技法を用いて剛体の基板に与えられるものである。こ
のバインダはバインダの性質を増進し且つバインダの成
分物質もしくは中間組成物の反応性を増進するため並び
に高い密度の磁気粒子とともにバインダが機能で声るよ
うにするため触媒、表面活性剤及び分散剤逅いった添加
剤を含んでもよい。

剛いディスク被膜の応用例では、それは室温で安定なイ
ンク又は被膜物質を有することが望ましいが、高温で反
応して熱硬化性の破膜を形成する。

その状況を達成するために、いわゆる「ブロックの」イ
ンシアネートもしくは「スプリッタ」を用いて本実施例
のウレタン被曝系が得られる。この生成物は「見掛は上
の」インシアネート及び「キャップド」イソシアネート
とも呼ばれている。これらのブロックされたインシアネ
ートは、その添加生成物が熱的に限られた安定性しか有
しないような成る種の活性水素にイソシアネートを反応
させた結果得られる生成物である。典型例は、メチルエ
ーテル・ケトキシムからのウレタンである。

、：：・。

ただしＲはアロマチツクス（芳香族炭化水素）、脂肪族
もしくは両者を組合わせたアロマチック入／脂肪族炭化
水素の鎖状体である。

上記の式の右側に示したブロック・インシアネートは、
１２１℃（２５０’Ｆ）以上の温度で解離して式の左側
に示したイソシアネートを再度発生するかもしれない。

かくして、ポリイソシアネートをオキシムと反応させて
、室温で安定なウレタンを与えることができる。

このブロック・イソシアネートは、ポリエステル・ポリ
オール、アクリル酸ポリ、オール又はエポキシ・ポリオ
ール中で解離できて、室温で無限に貯蔵できるような混
合物を与える。しかし１４９℃（３００°Ｆ）乃至２０
４℃（４００°Ｆ）に加熱すると、そのウレタンは「脱
ブロック（ｄｅｂ　ｌ　ｏｃｋｅｄ　）されてポリイソ
シアネートを再度発生し、これがポリオールと再度反応
してポリウレタンを生じる。

この脱ブロツク温度は、ブロッキング剤及びインシアネ
ートの型に依存する。例えば、１４９℃（３００°Ｆ）
というキユアリング温度は、フェノール又はメチルエー
テル・ケトキシムでもってブロックにされたポリイソシ
アネートととも、（ポリエステル、のキユアリングに頻
繁に使用される。その１２１℃（２５０°Ｆ）という最
低のキユアリング温度は、ＨＣＮが使用されるとき達成
され得るものである。ブロック・インシアネートを用意
するのに使用されるブロッキング組成物は、フェノール
、ｍ−クレゾール、ジエチル・マロネート＼エチルアセ
トアセテート、エチルシアノアセテート及びカプロラク
タムを含む。

本発明のバインダで使用されるポリイソシアネート組成
物は、ＮＣＯ基あたり１５０乃至６００、好ましくは１
５０乃至５００の分子量を有する。

またそのイソシアネートは、交差結合及び熱硬化性の性
質が結髪生成物としてのポリウレタンのバインダでも得
られるよう鎖状体あたり少なくとも３個の反応箇所、Ｎ
ＧＯ基を有する。

このバインダを形成するのにもつとも容易に、使用され
るポリオールの組成物は、ポリエステル、ポリアクリリ
ンク及びポリエポキシである。これらはヒドロキシを末
端か又は分岐に有する組成物であり、それがイソシアネ
ートと反応して高度に交差結合された熱硬化性のポリウ
レタンのバインダを形成する。エポキシが真性のポリオ
ールではないが、その基の一部を形成する。それはビス
フェノールのＡエポキシとそのイソシアネートのＮＣ０
反応箇所の場合のように２次的なヒドロキシの分岐箇所
相互間の反応を通じてそこで生成される組成物が、真の
ポリオールの性質とほぼ同じか又は非常に似た性質を有
する熱硬化性のポリウレタンを提供するからである。

更に、ヒドロキシの反応箇所あたシクロ０乃至８００の
範囲内の分子量を、そのポリオール組成物が有しなけれ
ばならないことがわかった。１箇所あたり８００を超え
る分子量をもつ長い重合体の鎖状物が柔か過ぎること、
また１箇所あたり２００を超えない分子量の重合体鎖状
物をもつポリオールがあまりにももろいことがわかった
。またポリオールの混合物が１鎖状体あた９２個又はそ
れ以上の反応性のヒドロキシ箇所を有しなければならな
いことがわかった。１鎖状体あた９２個よシも少ない反
応箇所しか存在しない場合、その結果生じるポリウレタ
ンは、必要な架橋結合を生じ損なうので、熱硬化性とい
うよシも熱可塑性になる。

等価な重量値は、ポリイソシアネートの場合、−ＮＣＯ
の１重量部か又はポリオールの場合−〇Ｈの１重量部を
含むポリインシアネート又はポリオールの・重量である
。ヒドロキシルに対するイソシアネートの比は、ウレタ
ン被膜の性質を制御する１つの要素である。ＮＣ０１０
Ｈ値の物理的及び／もしくは化学的な効果は、その被膜
の分子構造の型及びその分子量に関係付けられる。理論
的にはＮＣ０１０Ｈの比が１．・０のとき、分子量に関
係するその性質は最適になる。一般に、２成分のウレタ
ン被膜は、ＮＣ０１０Ｈの比が、０．８乃至１．２の範
囲内の比を有するよう公式化される。

との被膜は更に触媒、分散剤及び／もしくは表面活性剤
、非反応性ｉ剤として動作する１個もしくはそれ以上の
添加□剤門含む。キユアリング時度及びキユアリング時
間の両方を少なくするためイソシアネートとポリオール
との間の反応を促進する触媒が使用される。コバルトで
修正された鉄の゛ような今日の磁性粒子の磁気的な質−
これは従来のものよりも磁気的に優れているが長時間、
高い温度に露されると従来のものより劣化し易いｍ−を
損なう可能性を制限するためキユアリング温一度をでき
るだけ下げ、しかもキユアリング時間を短くすることが
重要である。

ここで使用された触媒は、ベーシス（第三アミン）型の
触媒、例えばＤＭＰ　３０として知られている２、４．
６トリ（デメチルアミノメチル）フェノールや、トルエ
チルアミン、Ｎ、Ｎ−ジメチルアミノエタノールや、１
．４−ジアザビシクロ（２，２，２）オクタンや、ビス
（２−ジメチルアミノエチル）エーテルアミン、又は他
の第三アミン・アダクツや金属化合物、例えばオクトエ
ート第１錫（ｓｔａｎｎｏｕｓ　　０ｃｔｏａｔｅ）や
、オクトエート鉛（１ｅａｄ　　ｏｃｔｏａｔｅ）　　
や、ジラクリン酸オクトエートジブチルチンカリウム（
ｐｏｔａａｓｉｕｍ　　ｏｅｔｏａｔｅ　　ｄｉｂｕｔ
ｙｌｔｉｎｄｉｌａｕｒａｔｅ）　　又は他の有機化合
物などが、金属化合物を第三アミンと組合せたものとと
もに触媒として使用できる。

この分散剤添加物は、磁性粒子が浮遊しているインク又
、は被覆混合物の付与後に、ディスク表面に沿って所望
の接線方向に最大の配向を可能ならしめるよう、キユア
リングされていないバインダの中で個別に浮遊されてい
るところの磁性粒子をキレートする働きがある。それは
放っておくと互いにくっつきがちな磁性粒子を外離した
状態で維持する点で分散剤の効果を有し、これが被覆混
合物のシェルフライフを決定する。被覆物質が露される
ときの温度を制限することによって、インシアネートと
ポリオールとの間の化学反応が簡単に妨げるので、シェ
ルフライフの真の決定要素は、最終的に被覆されるディ
スクにおいて高い配向比を生じるための被覆混合物の能
力である。

１つの分散剤竺ＵＬＴＲＯＮ　　Ｒ−２２１−７５（Ｍ
ｏｂａｙ　　）社の商標は分散剤としてのみ効果がある
のではなく、ポリエステル・ポリオールとしても効果が
あるが、インシアネートと反応して架橋結合のポリウレ
タンバインダ組成物の一部をそのキユアリング過程後に
生じる。このポリエステル混合物は、そのカルボキシル
基の側鎖がキレート機能を生じるが故に、効果的な分散
剤となる。

このポリエステル混合物が、インシアネートと反応する
ポリオールとして使用されるとき、別個の分散剤を与え
る必要がない。亜燐酸基又は燐酸基を含む有機混合物又
は無機混合物も、分散剤添加物として効果がある。例と
しては、チタン酸塩の結合剤（ｋｅｎｒ’ｉｃｈ　　ｐ
ｅｔｒｏｃｈｅｍｉｃａｌｓ）があり、これはＫＲ−１
１２Ｓ、ＫＲ−２１２、ＫＲ−４８５、ＫＲ−５５とし
て市販されている。またエポキシ燐酸エステルがあり、
これはエポキシ樹脂と燐酸塩との反応生成物である。

この表面活性剤は、湿式の、レベル制御、流量制御機能
を、表面張力を減らすことによって与え、これが滑らか
で、欠陥のない被膜を可能ならしめるとともに、バイン
ダ混合物の中での磁性粒子の密度を高くすることができ
る。

最適の磁性被膜を得るため、この磁性粒子はバインダ中
でのマイクロ・スケール的分散を得る必要がある。理想
的には、各粒子がそのバインダ中で独立に保持されるよ
う分散されるべきであろう。これは所望の方向の粒子の
配向を最大にできるであろう。上述のＭＵＬＴＲＯＮ　
　Ｒ２２１ポリ工ステル分散剤を使用すれば、少なくと
も６週乃至８週間の保存が可能な優れた分散を与え、そ
の被覆工程によって分散を維持できる。他にもスプレー
コーティングやロール・コーティングのような被覆技法
があるが、ディスク基板をスピン・コーティングするの
が最も普通の方法である。

内側から外側の被覆領域への被覆の中で粒子が分散する
ことと一様に分布している事との両方を維持する必要が
ある。即ちディスクの外側領域での粒子密度を増すため
バインダと粒子とを分離する遠心力の作用がなければな
らない。更に、スピン・コーティング中に与え（してい
た半径方向の位置から完成後のディスクの所望の接線方
向の位置までの配向を可能にするためバインダが粒子に
十分な自由度と運動性とを与える必要がある。また粒子
が磁界によって方向付けられた後は、キユアリング段階
によって交差結合のマトリックスの中で粒子が動けなく
なるまではそのバインダが運動性を制限しなければなら
ない。

本組成の生成時に、固体の中味を減じるためと非常に薄
い被膜を基板に与えることをできるようにするためとで
幾つかの型の揮発性の、反応しない溶剤が使用できる。

樹脂及び粒子の分散に加えることのできる種々のクラス
の溶剤の例は下記のとお９である。即ち芳香族の溶剤〔
トルエン、キシレン、エチルベンゼン〕やケトン類〔メ
チルエチルケトン、イソホロン、メチルアミルケトン、
エチルアミルケトン、メチルインブチルケトン〕やアセ
テート類〔エチルアセテート、セロソルブアセテート、
カルピトールアセテート、ブチルアセテート、プチルセ
ロンルプアセテート〕がある。

この組成で使用される好適な溶剤は、６０重量部のイソ
ホロン、２０部のキシレン及び２０部のメチルアミルケ
トンである。上記の例示のリストが除去されないこと、
及び他の非反応性溶剤も使用できることに留意されたい
。

本発明のコーティング即ち被膜を用いれば、約２０９・
ｔｌ：：（３５０°Ｆ）の温度の中、４５分間でその被
覆され且つ方向付けされたディスクをキユアリングでき
る。これは従来の被覆技法でもっと高い温度の中、長い
期間のキユアリングを要したことに比べて温度も低く、
また期間もはるかに短くてすむ。

被覆されたディスクのキユアリング後、その被膜はパフ
仕上げ、洗浄及び潤滑といったその後の工程にも耐える
ものでなければならない。この被膜は、その表面から粒
子を剥がすことなく滑らかな表面にパフ仕上げできるよ
うにしなければならナイ。洗浄は、水の洗浄液やイング
ロビルアルコールなどの溶剤を用いて行なわれても良い
工最後に、その表面は被膜表面と、協働する読取／書込
ヘッドとの間、で始動停止作用を促進するだめの潤滑作
用を溝室保持していなければならない。

上述の被覆技法を用いると、化学反応が生じる前に浴剤
が蒸発して、その反応と脱ブロックとが同時に生じる。

その表面活性剤は、最初捕捉されているが後で逃げ出す
ガスの気泡が次のような構造を形成できるようにする。

即ち、その気泡が潤滑油を、ディスクの使用中も遠心力
の作用で飛散ることのないように保持する構造である。

下記は本発明の被膜の典型例である。この中で主要な被
膜成分と添加剤とは、それに関連する酸剤を除外したも
のの重量部を有する。ここで示した酸剤の中味は、他に
指示がなければ、ポリイソシアネートとポリオールとの
組成物に関連して存在するものを含む混合した酸剤の成
分である。例１及び例２は、エポキシと、異なる分散剤
との組合せにおけるイソシアネートを含む。一方、例６
及び例４は異なる型のポリオールを用いるノくインダ組
成を示す。

ビスフェノール−Ａエポキシを用いて、オキサゾリドン
のリングの形成、が、２被膜を可撓性及び高い温度抵抗
を以って与えるが、特別の触媒とともに高い温度の焼成
（約２３８°叩ち４５０°Ｆ　以上）を必要とする。本
発明の被膜は、２次的なヒドロキシで以ってインシアネ
ートを反応きせ、らユと：こより形成される。エポキシ
樹脂の分子量が高くなれば、ヒドロキシ基の箇所が増え
、その結果生じる被膜も硬くなる。

７０／３０の工′チルグリコールアセテート／キシレン
？ＨＩＪ中の４２％のケトキシム・ブロックの芳香族／
脂肪族のポリイノシアネート／イソシアヌレート共重合
体ＭｏｎｄｕｒＨＣＢ　（Ｍｏｂａｙ社の商標）　　　
　　　　　　　　６０．７６０／２０／２０のイソホロ
ン／キシレン／メチルアミルケトンｍ剤中の５０％ビス
フェノール−Ａエポキシ樹脂ＤＥＲ６６７ＣＤｏｗ社の
商標）’　　　　　　　　　　　　　　６４．９不飽和
ポリ力ルボキシ化酸分散剤ＢＹＫＰ　　１０４８（Ｍａ
ｌｌｉｎｃ１０４８（社の商標）０．６ フルオロカーボン表面活性剤ＦＣ−４３０（３Ｍ社の商
標）０．１ オルガノ金属触媒オクトエート第１錫Ｔ−９（ＭＡＴ　
　Ｃｈｅｍ社の商標）０．６磁性コバルトで修正した酸
化鉄粒子（ Ｐｆｉｚｅｘ　　ＥＸ　　２５６０）　　　　　　　　
　　１００イソホロン俗削　　　　　　　　　　　　　
　　　　９５キシレン溶剤　　　　　　　　　　　　　
　　　　１４．２メチルアミルケトン溶剤　　　　　　
　　　　　　　１４．２例１の被膜組成は、図によると
下記のようにして得られる。

１、コバルトでドープした酸化鉄の母性粒子１００部を
、０．６部の分散剤並びに５７部のイソホロン、１４．
２ｇのキシレン及び１４．２部のメチルアミルケトンを
、含む酸剤の一部に加えてまず磁性粒子の分散剤が得ら
れる。この混合物は１乃至２時間攪拌される。その混合
物全体は、団塊がなくなるまでボールミル又は他の混合
機など従来の粉砕混合技法を用いて混線シされる。

２、その後、１９部のイソホロン溶剤中の４２％Ｍｏｎ
ｄｕｒ　ＨＣＢ、　　６２．７部に６４．９部の５゜％
ＤＥ　Ｒ６６７が混合され、上述の第１段階でできた混
合物に加えられる。

′５．１９部のイソホロン溶剤とともに０．６部の触媒
と０．１部の表面活性剤とを加えその全体の混合物の最
終的な粘度を、フエランチ・シャーリイ粘度計により１
５００ｓｅｃ−’　　で測ったとき２５℃で約４００Ｐ
Ｓになるよう調整する。インク粘度を調節した後、その
混合物は２乃至８μｍの完全なフィルタを通し、ちりや
汚れを除去する。

ケトキシム・ブロック・ポリイソシアネー）　　Ｍｏｎ
ｄｕｒ　　ＨＣＢ　　（Ｍｏｂａｙ社の商標）　　　　
　　　　　　　　　　　　　４２．８ビスフェノール−
Ａエポキシ樹１１ＷＥｐｏｎ１００７（Ｓｈｅｌｌ　　
社の商標）　　　　　　　　　４７．５ホリエステル・
ポリオール　ＭｕｌｔｒｏｎＲ−２２１（Ｍｏｂａｙ社
の商標）８．１チタネ一ト結合剤　ＫＲ−３８５（ Ｋｅｎｒｉｃｈ　　社の商標）１．６ フルオロ力−ボン表面活性剤　ＦＣ４３０（３Ｍ社の商
標）　　　　　　　　　　　　　　　　　０．１５有機
金属触媒　オクトエート第１錫Ｔ−９（Ｍ＆Ｔ　　Ｃｈ
ｅｍ　　社の商標）０．５磁性粒子　　　　　　　　　
　　　　　　　　　１８０醪剤−４２０ イソホロン／キンレン／メチルアミルケトン６０：２０
：０ ウレタン被膜中でポリエステル系のものを使用するとい
うのは、利用可能なポリエステル樹脂の限られた高い官
能性による成る種の兼ね合いを含む。エポキシやアクリ
ル樹脂のように、ヒドロキシル・ポリエステルがその鎖
状体の端部につながれる。ポリエステル樹脂の重量が増
す結果、被覆能力及び粒子の分′散可能性が増すが、被
覆の硬さが減るという改良が得られる。

この種の被膜の硬さを改良するため、スチレンアリルア
ルコ−ルー−例としてＲＪ１’０１（Ｍｏｎｓａｎｔｏ
社の商標）−のような高い官能性と剛性をもったポリマ
ーセグメントを導入する必要がある。ヘッドの繰返し負
荷に耐える摩耗特性のためだけでなく、パフ仕上げ及び
洗浄工程のためにも被膜の硬いことが必要である。

例６ 重量部 ケトキシム拳ブロックΦポリイソシアネー配 ）　　Ｍｏ１ｄｕｒ　　ＨＣＢ　（Ｍｏｂａｙ社の商標
）　　　３５．８ポリエステルポリオール　Ｍｕｌｔｏ
ｎ　　Ｒ−２２１（Ｍｏｂａｙ社の商標）２０ ポリアクリリツクポリオール　ＲＪＩｏｌ（Ｍｏｎｓａ
ｎｔｏ社の商標）２０ フルオロカーボンの表面活性剤　Ｆｃ４３０（３Ｍ社の
商標）０．３ 有機金属触媒　オクトエート第１錫（Ｍ＆Ｔ　　Ｃｈｅ
ｍ社の商標）０．６ 磁性粒子　　　　　　　　　　　　　　　　　　１００
非反応性溶剤　　　　　　　　　　　　　　　１２ａ３
１イソフロン／キ／レン／メチルアミルケトン６０：２
０：０ インホロン　　　　　　　　　　　　　　　　　２４．
４５熱硬化性のアクリリックは、酸及びヒドロキシの両
方の型で存在する。このヒドロキシ物質は、このウレタ
ンアクリリック被膜に際し興味ある働きをする。ポリエ
ステルとは異なシ、ヒドロキシアクリＩＪツクはその測
鎖に、反応性のあ渇箇所を有する。なお上記非反応性宕
剤は、上記の割合のにか１００乃至８００重量部であっ
てもよい。

例４ 重量部 ケトキシムブロックポリイソシアネートＭｏｎｄｕｒ　
　ＨＣＢ　（Ｍｏｂａｙ社の商標）６１ポリアクリリツ
クポリオール　ＡＴ　４００（Ｒｏｈｍ　＆Ｈａａｓ　
　社の商標）　　　　　１６２ポリ工ステルポリオール
分散剤　ＭｕｌｔｏｎＲ−２２１（Ｍｏｂａｙ社の商標
）６．１フルオロ力−ボン表面活性剤　Ｆｃ４６０（３
Ｍ社の商標）０．１ 有機金属触媒　オクトエート第１錫Ｔ−９（Ｍ＆Ｔ　　
Ｃｈｅｍ　　社の商標）１．０磁性粒子　　　　　　　
　　　　　　　　　　３００溶剤　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　４００イソホロン／キシレン／
メチル／アミルケトン６０：２０：２０ 本発明により得られるこの被膜組成は、従来知られたス
ピン・コーティング技法を用いてアルミニウムのディス
ク基板に与えられる。そこで、磁化可能な粒子が、従来
の磁界配向の慣用技法を用いてディスク表面の周囲に向
かって方向付けされ、その後約２０９℃（６５０°Ｆ）
という高温で約４５分間キユアリングされる。冷却後、
このディスクは、０．１乃至０．４　Ａ　Ａという粗さ
の表面になるまで研磨される。この研磨されたディスク
はイオンを除去した（ＤＩ）水及びイソプロピルアルコ
ールを用いて、パフ仕上げのときのゴミなどをとるよう
洗浄される。この処理済みのディスク面はフルオロカー
ボン型の潤滑剤を用いて潤滑され、それから磁性のテス
トを受ける。

このように用意されたディスク上には、５５ｍＡの記録
用電流と３２０Ｏｒｐｍの回転速度下でマグネシウムフ
ェライトヘッドを用い８ＭＨｚの信号が記録された。こ
の再生出力は、外周面で６００μＶ、内周面で５００μ
Ｖである。

【図面の簡単な説明】

図は被頃組成物を形成し、剛い基板に被膜を与えて、仕
上げし、潤滑性を良くするといった種々のステップを示
すフローチャートである。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 剛直な非磁性基板に約２μｍｆ超えない厚さの膿として
   与えられるような熱硬化性樹脂のバインダであって、２
   ０乃至５０重量パーセントの上記バインダに対し５０乃
   至８０重量パーセントの磁性粒子を分散させて成る上記
   バインダを含む磁気記録媒体において、上記膜が 鎖状体あたシ少なくとも３箇所の反応性箇所を有する、
   ブロック・イソシアネート、２０乃至６０重量部と、 重合体の鎖状体あたり少なくとも・２箇所の反応性箇所
   を有し且つヒドロキシの箇所あたシタ００乃至８００の
   分子量を有するポリオール、４０乃至８０重量部と、 ３０重量部を超えない添加剤と を含むところの磁気記録媒体。