JPS586132A - 電子ビ−ム露光装置および電子ビ−ム偏向補正方法 - Google Patents

電子ビ−ム露光装置および電子ビ−ム偏向補正方法

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Publication number
JPS586132A
JPS586132A JP56104024A JP10402481A JPS586132A JP S586132 A JPS586132 A JP S586132A JP 56104024 A JP56104024 A JP 56104024A JP 10402481 A JP10402481 A JP 10402481A JP S586132 A JPS586132 A JP S586132A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
deflection
correction
circuit
electron beam
scanning
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP56104024A
Other languages
English (en)
Inventor
Seigo Igaki
井垣 誠吾
Toshihiro Ishizuka
俊弘 石塚
Yasuo Furukawa
古川 泰男
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujitsu Ltd
Original Assignee
Fujitsu Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Fujitsu Ltd filed Critical Fujitsu Ltd
Priority to JP56104024A priority Critical patent/JPS586132A/ja
Publication of JPS586132A publication Critical patent/JPS586132A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/30Electron-beam or ion-beam tubes for localised treatment of objects
    • H01J37/304Controlling tubes by information coming from the objects or from the beam, e.g. correction signals

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Electron Beam Exposure (AREA)
  • Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は電子ビーム露光装置における電子ビーム偏肉補
正方法とその装置に関する。
電子ビーム露光装置には電子ビームを偏向するためO偏
向器が用iもれて一為、鎗記働崗IIO偏向感1′#1
lRIIIi数に対′して一電ではなく、高−周緻数に
一均1しては儒肉感j11が低下して(To畳倫を有し
”thゐ@11目的には馬−陶皺黴管で7ラツト電もO
が良%/%0″tIあるが、夷−には高−馬毅黴になる
と角電#l勢の影響によ)儒崗感II!が低下してくる
(1)式は、従来性なわれてvhた偏向量の鴫!管機わ
す式である。
(1)弐Kか−て、ム〜D紘X軸◇補正係歇鳶−H、#
iy軸の補正係数で6カ、ム、Iはジアジl1lE量、
11、Fはアイー身rtイI補正係数、c、oは間転補
正係数、F、iiは台形歪補正係数である・崗tX e
 Yは補正鍾個肉量、X’、71は補正偏向量である・ 〈υ弐Itch−て、高−周波微1c対する偏向感旋〇
低下は74−ル、P貨イI@正係歇の低下をil昧する
謝1gは傭向感fO低下による−一□IIa−化t示す
図である。装置が要求している線幅Fi(i)に示す線
1を要求していたとする。しかしながら繰シ返し周期が
短い走査で行なった場合には偏向感度が低下してしまい
、(b)に示す線幅しか得る・ことがで亀ない。
近年に至り、電子レジスト等や露光感度が向上し、露光
時間を短縮するため、走査線の速度は高速化してきた。
しかしながら前記偏向感度の高域での低下によって高速
化には限度があった。
本発明の目的に電子ビーム露光装置における高速走査を
行なっても偏向感度が一定となる電子ビーム偏向補正方
式を提供することにある。
本発明の%黴とするとζろは電子ビーム露光装置におい
て、走査速度によって決定される偏向信号の繰〕返し周
期に対応した予め求めたメモリに格納されている偏向感
度補正データを用いて描画矩形の走査幅の補正を行なう
電子ビーム偏向補正方式を提供すると七にある。
以下、本発明の実施例を用いて本発明の詳細な説1lI
Iを行なう。
111図は本穐@O與論例である。走査信号軸生回路3
0偏向l出力4は偏向補正回路zの偏向量入力6に、走
査幅デーI出カフは繰)返し111g算出回絡8の走査
幅データ入カ参にそれヤれ蒙続畜れる。繰〉返し周期算
出am魯t)In、夕入力10にはクロック趨路11が
接続されて−る。繰)返し絢期算出回路80周期算出出
力l雪はアドレスセレクタ13【介して偏肉感度補正メ
峰914のアドレス11に入る。偏向感度補正メモリ1
44D補正出力16は偏向感度補正量W14!111路
170補正入力111に入る。フィーkftイI補正係
歇1は偏向感度補正量−瞥鵡路170補正係数入力l−
に入る。偏向感度補正量gp**a路17の出力2゜は
偏向補正回路5の補正入力21に入る。偏肉補正回路5
の出力22は偏向アンf2aを介して偏向コイル24に
接続される。
走査信号置去回路3によってll生された偏向量XFi
偏向補正回路6に入る。鵞た走査幅データは繰ル返し周
期算゛出回路8において繰)返し周期が求められる。繰
p返し周期算出−路8にて求めら九た#虻繰夛返し周期
はアドレスセレクタ13によって周期に対応したアドレ
スに変換される。アドレスセレクタ13の出力は偏向感
度補正メモリ14のアドレスに入)、前記繰シ返し周期
に対応し大偏向感度補正値4Bを選択する。前記−向感
度補正メモ1714の出力すなわち偏向感度補正値iB
は偏向感度補正量調整回路17に入シ、他の入力すなわ
ち、フィールドサイズ補正係数Bと前記偏向感度補正量
調整回路17で加算される。偏向感度補正量調整回路1
7の出力信号すなわち(B+ΔB)は偏向補正回路5に
入る。偏向補正回路5では先に入力された偏向量Xと前
記(Bx4B)とさらに予め前記偏向補正回路内に格納
されているシフト補正量ム、回転補正係数C1台形歪補
正係数Ft用いて補正後偏向量X′ヲ求める。偏向補正
回路5においては(2)式のような計算が行なわれる。
X−ム+(1千B+ΔII)X+CY+DXY   (
2)(2)式Fi(1)式の右辺#!2項のXの係数に
iBが加わったものである。すなわち、ノBが従来、走
査幅によって偏向感度が異なりてしまう一1itを補正
するも(5) のである。
偏向補正回路5の出力すなわち補正後偏向量X′は偏向
アンプに入夛、偏向アンlではX’0 @を増幅して偏
向コイル24に出力すゐ。
実施例で#iX軸のみKついて説明したが、Y軸も同様
にして行なうことがで龜る。そO場合には(3)式に示
す計算が偏向補正回路器で行なわれる。
Y’−E+(HF+)F)Y+GX+ HXY    
    (3)第2図の本発明の実施例において、偏向
補正回路5の各係数A、C,Dが予め格゛納されている
場合について説明したが、これは外部から入力すること
も可能である。さらにり■、り回路11は繰シ返し周期
算出回路80周期#19!におけるクロ。
りを与えているものであ)、繰シ返し周期算出回路8内
に有することもできる。
以上、本発明の集施例會用いて本発@を詳細にわたりて
説明した。本発明の電子ビーム偏向補正方式によれば、
走査密度によって決定される偏向信号の繰〕返し周期に
対応した偏向感度補正データを用いて描画矩形の走査幅
の補正を行なうこと(6) によシ、高速走査が可能となる。
【図面の簡単な説明】
第1図は走査線を示す図、第2図は零発−の実施例を示
す図である。 3・・・走査信号発生回路、5・−偏向補正回路、8・
・・繰シ返し周期算出回路、13−アドレスセレクタ、
14・・・偏向感度補正メモリ、17・・・偏向感度補
正量駒整回路。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1)描−矩形の走査幅を決める走査信号発生手段と前記
    走査信号の繰シ返し周期を算出する周期算出手段と前記
    周期に対応した偏向感度の補正値ムるζ七を41黴とす
    る電子ビーム露光装置。 2) 走査適度によりて決定される偏向信号の繰 −p
    返し周期に対応した予め求めたメモリに格納されて−る
    偏向感度補正データを用いて描画矩形の走査−の補正を
    行なうことを特徴とする電子ビーム偏向補正方法。
JP56104024A 1981-07-03 1981-07-03 電子ビ−ム露光装置および電子ビ−ム偏向補正方法 Pending JPS586132A (ja)

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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS60119199A (ja) * 1983-11-30 1985-06-26 Yokogawa Medical Syst Ltd 超音波探触子
JPH07177599A (ja) * 1993-12-07 1995-07-14 Ge Yokogawa Medical Syst Ltd 超音波探触子の製造方法及び超音波探触子
DE202010018479U1 (de) 2009-10-02 2017-01-10 Tgw Mechanics Gmbh Fördereinrichtung mit verbesserter Positionserkennung geförderter Objekte

Cited By (4)

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JPH051680B2 (ja) * 1983-11-30 1993-01-08 Yokokawa Medeikaru Shisutemu Kk
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DE202010018479U1 (de) 2009-10-02 2017-01-10 Tgw Mechanics Gmbh Fördereinrichtung mit verbesserter Positionserkennung geförderter Objekte

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