JPS585880B2 - 帯状シリコン結晶の製造方法 - Google Patents

帯状シリコン結晶の製造方法

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JPS585880B2
JPS585880B2 JP53041744A JP4174478A JPS585880B2 JP S585880 B2 JPS585880 B2 JP S585880B2 JP 53041744 A JP53041744 A JP 53041744A JP 4174478 A JP4174478 A JP 4174478A JP S585880 B2 JPS585880 B2 JP S585880B2
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band
shaped silicon
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rollers
pair
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JP53041744A
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JPS54134083A (en
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阿部昌匠
真木直明
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National Institute of Advanced Industrial Science and Technology AIST
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Agency of Industrial Science and Technology
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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C30CRYSTAL GROWTH
    • C30BSINGLE-CRYSTAL GROWTH; UNIDIRECTIONAL SOLIDIFICATION OF EUTECTIC MATERIAL OR UNIDIRECTIONAL DEMIXING OF EUTECTOID MATERIAL; REFINING BY ZONE-MELTING OF MATERIAL; PRODUCTION OF A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; SINGLE CRYSTALS OR HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; AFTER-TREATMENT OF SINGLE CRYSTALS OR A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; APPARATUS THEREFOR
    • C30B15/00Single-crystal growth by pulling from a melt, e.g. Czochralski method
    • C30B15/30Mechanisms for rotating or moving either the melt or the crystal

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は帯状シリコン結晶の製造方法に関する。
帯状シリコン結晶を得る装置として第1図に示すものが
ある。
具体的に説明すると石英で構成されたルツボ11にシリ
コン融液12が収容され、この融液中にカーボンで構成
された2枚のダイ1 3a , 1 3bが設置されて
いる。
この2枚のダイで、シリコン融液12が毛細管現象によ
り上昇するようにスリットが構成されている。
そしてこの上昇したシリコン融液に種子結晶(図示せず
)を接触させ、その種子結晶を引き上げると、前記ダイ
13a,13bの間隔(スリット)で規定された帯状シ
リコン結晶14が得られる。
ところでこのように構成された帯状シリコン結晶の製造
装置で、帯状シリコン結晶14を得る場合ダイ13a,
13b上端付近の温度の変化或いはシリコン融液のゆれ
などにより、成長される帯状シリコン結晶14とダイ1
3a,13b上端トが固着することがしばしばあった。
このだめ、帯状シリコン結晶14を引き上げる際に、ダ
イまでが持ち上げられてしまいダイ13a,13b上端
付近の温度分布が乱れ、成長を再開しても得られる帯状
シリコン結晶14の厚み及び幅が異なってしまうという
問題があった。
そして本発明は上記した問題に鑑みなされたもので、成
長中にダイと成長される帯状シリコン結晶とが固着して
もダイまでが持ち上げられないようにしてダイ上端付近
の温度分布を乱すことのないように構成し、均一な厚さ
及び幅を有する帯状シリコン結晶の製造方法を提供する
ものである。
即ち本発明は、成長された帯状シリコン結晶を回転可能
な少なくとも一対のローラで挾持し、該ローラの挾持力
を石英ルツボ、ルツボホルダ、一対のダイ、ダイホルダ
及び熱遮蔽板からなる高温部構成部品より小さくなるよ
うにし、前記ダイと成長される帯状シリコン結晶とが固
着した場合にローラが空回りしてそのま捷の状態に維持
するようにし、その状態で固着した部分を溶融せしめて
帯状シリコン結晶の再引き上げを可能にした帯状シリコ
ン結晶の製造方法である。
以下図面を参照して本発明の一実施例を説明する。
第2図は本発明の製造方法を説明するために用いた製造
装置の一実施例を示すものであって、帯状シリコン結晶
を挾持し且つ引き上げる回転可能な一対のローラ付近を
拡大して示した斜視図である。
この第2図において、一対のダイ24a,24bのスリ
ットを介して成長さるる帯状シリコン結晶23は矢印方
向に引き上げられ、回転可能な一対のローラ21a,2
1bによって挾持されている。
このローラ21a,2lbの挾持はこのローラを支持す
る部材に設けたバネ22a,22bによって調整される
この装置を模形的に示すと第3図に示す如く、回転可能
な一対のローラ31a,3lbが、3組設けられ、この
ローラ3 1 a * 3 l bに加わる力を調節す
るバネ32が3組のローラに名々備えつけられている。
このバネ32は0.5φのステンレス線で構成され長さ
24cm,バネのコイル部の中心径0.5cm、巻数2
0、バネ定数0.0 2 5であり、ローラ31a,3
lbが帯状シリコン結晶33をはさみ込む力と成長帯状
シリコン結晶内の摩擦によって生じる力で成長帯状シリ
コン結晶33はローラ31a,31b間に支えられ、垂
直上方に引き上げられるまだ成長シリコン結晶33の先
端にはバネ秤34が設置されている。
ところで成長帯状シリコン結晶33がダイ先端部で固着
した場合、ダイを持ち上げるか否かはローラが結晶をは
さみ込む力(挾持力)と成長結晶間の摩擦力により垂直
上方に働く力(以下F と称す)と垂直下方に働く力(
以下F2 と称す)つまり引き上げる重量のバランスで
決定される。
つまりF1がF2 より犬とければ(固着した場合)、
高温部構成部品を持ち上げ、逆にF1がF2 より小さ
ければローラは空回りして、高温部構成部品を持ち上げ
ず、同じ位置に保つた状態になる。
従ってこの実施例においては、ある引き上げ速度の時に
、前述したバネ秤34で垂直下方に力を加えることによ
り、引き上げが中止状態になる力、つまりF2 を決定
した。
前述した0.5φステンレス線で構成したバネが1組の
ローラを水平方向に内側に押す力は600グラム重であ
り、ローラと成長結晶間の運動摩擦係数をA(一定)と
すると1組のローラにより成長結晶が引き上げられる力
は、600・Aグラム重となり、成長結晶は3組のロー
ラで支えられているので前述したF1は1800・Aグ
ラム重となる。
従って実際にバネ秤34で垂直下方に力を加えることに
より、3組のローラが空回りし、引き上げが中止する状
態に至る力、つまり前述したF2 を調べたところF2
が700グラム重より小さい状態では垂直上方への引き
上げは連続して行なわれるが、F2が700グラム重よ
り大きい状態では、ローラは空回りして、すぐに引き上
げができないようになる。
そこで本発明者等は上記した事実に基づいて、次のよう
な実験を行った。
即ち第4図に示す成長装置を用いて行ったもので、成長
結合を引λ上げるだめの1対のローラ41a,4lbが
3組設置され、各々に前述した特性を有する1対のバネ
4 2 a ,4 2 b t 4 2 cが備え,付
けられ、成長帯状シリコン結晶48は3組のローラによ
り支えられ、成長帯状シリコン結晶は3組のローラ41
a,4lbがはさみ込む力と摩擦力によって成長帯状シ
リコン結晶48は引き上げられる。
一の場合、成長帯状シリコン結晶48を垂直上方に引き
上げようとする力、つ1りF1 は上記説明と同様に1
800 .Aグラム重となる。
1ず第4図の成長装置で、石英ルツボ44、ダイホルダ
46、ダイ4 9 a v 4 9 b、シリコン融液
43、熱遮蔽板41等の高温部構成部品の重量を650
グラムに構成した。
この構成では垂直下方に働く力、つまりF は650グ
ラム重となり、結晶成長実験を行った。
その結果成長帯状シリコン結晶48とダイ49a ,4
9bが固着した状態でも、ローラ41a,4lbは回転
し、高温部構成部品を持ち上げ均一であったダイ先端部
の温度分布に5〜10℃程度の温度差が生じ、再び成長
実験を再開しても、成長帯状シリコン結晶48の形状は
ダイ49a,49bの開放孔(幅30gn、厚さ0.8
一の形状と異なり幅5〜10mm、厚さ0.3〜0.1
mm長さ100〜200mmであった。
また最悪の場合成長帯状シリコン結晶48は切れたりし
て、ダイ49a,49bの開放孔とほぼ同じ幅と厚みを
有する帯状シリコン結晶を成長させることができなかっ
た。
そこで、次に第4図の成長装置で、前記高温部構成部品
の重量を700グラムに構成したこの構成では、垂直下
方に働く力つまりF2は700グラム量となり、この構
成で成長実験を行った。
その結果、成長帯状シリコン結晶48とダイ49at4
9bが固着した瞬間にローラ41a,4lbは空回りし
て成長帯状シリコン結晶48の引き上げが中止し、その
ままの状態に維持され高温部構成部品を持ち上げなかっ
た。
従ってダイ49a,49b先端部の温度分布は帯状シリ
コン結晶48が成長するのに適した均一な温度状態を保
ち、ローラが空回りした時に固着部を溶融せしめ、引き
上げを再開する。
このようにして得られた帯状シリコン結晶48の形状は
ダイ49a,49bの開放孔(幅30mm、厚さ0.8
mm)とほぼ同じ幅と厚みで、幅30mm±0 . 5
mm,厚さ0.8mm±0.0 3mm,、長さ100
0mmの帯状シリコン結晶48を成長させることができ
ミその歩留りも50%向上した。
次に本発明の他の実施例として、バネの強さを240グ
ラム重に構成した。
この場合、上記実施例と同様にF1 は960・Aグラ
ム重となり、高温部構成部品の重量を180グラムと2
50グラムに構成して成長実験を行った。
重量が180gの場合、成長結晶がダイと固着してもロ
ーラは回転し、高温部構成部品を持ち上げ、ダイ先端部
の温度分布は均一な状態から変化し温度差が生じた。
重量が250gの場合成長結晶がダイと固着すると、す
ぐにローラは空回りして、高温部構成部品を持ち上げな
かった。
従ってダイ先端部の温度分布は均一に保たれ、成長実験
を再開すると、ダイの開放孔の形状とほぼ同等の断面形
状を有する帯状シリコン結晶を歩留り良く成長させるこ
とかできた。
さらに本発明の他の実施例としてバネの強さを800グ
ラム重にし、高温部構成部品の重量を1000グラムと
1200グラムに構成して成長実験を試みた。
重量が1000グラムの場合、成長結晶がダイと固着す
ると、高温部構成部品を持ち上げ、ダイ先端部に温度差
が生じた。
重量が1200グラムの場合、成長結晶がダイと固着す
ると、ローラは空回りして高温部構成部品を持ち上げず
、ダイ先端部の温度も均一に保った状態であった。
成長実験再開後も、ダイの開放孔の形状とほほ同等の断
面形状を有する。
帯状シリコン結晶を歩留り良く成長させることができた
なお、上記実施例においてダイが1個の場合であるが、
ダイを複数設けて同時に複数の帯状シリコン結晶を引き
上げるようにしても良い。
例えば第5図に示すようにシリコン融液53が収容され
たルツボ54に3個のダイ59a,59b,59c ,
59d ,59e ,59fを設置し、これに対応して
3台のローラ51a,5lb,51c.51d,51e
,51fが備え付けられている。
なお第5図において、第4図と同様ルツボ54を支持す
るルツボホルダ55、ダイを支持するダイホルダ56、
熱を遮蔽する熱遮蔽板が設置されており、帯状シリコン
結晶58a ,ssb ,58cが引き上げられる。
このように構成された装置の場合も、1台のローラ59
a ,59bによって垂直上方に引上げようとする力は
、1800・Aグラム重であるので、3台の場合540
0・Aグラム重となる。
この装置で高温部構成部品の重量を2100グラム以上
に構成して、結晶成長実験を行うと、3本の成長結晶が
同時に固着した場合でも高温部構成部品を持ち上げない
従ってダイ先端部の温度は帯状シリコン結晶が成長する
のに適した均一な温度状態に保たれ、再現性良く3本の
帯状シリコン結晶を成長させることができる。
尚複数個成長の場合も同様にローラが結晶をはさみ込む
力、つまりバネの力に応じて、高温部構成部品の重量を
決定できる。
この発明の効果はダイか複数個になったときに顕著であ
る。
上述したバネによって圧縮力を調整したローラは成長結
晶に無理なく上昇運動と、空回りによる停止を伝達する
このため複数個のダイの少数個が固化したときに、次に
どのダイが結晶と固着できるか予測できる。
少数個の固着の分布をみながら固着しないように温度制
御を行い得ることになる。
この効果により一つのルツボに多数のダイを有する引上
げ装置はその生産効率が著しくあがる。
また、そのほかの作用効果としてバネを調整することで
ローラは帯状シリコン結晶に密着し、表面を清浄にする
ことが認められた。
そのうち特別は別として、ルツボより成長した帯状シリ
コン結晶表面に枝状附着物がついて突起状の形状を示し
ていたが、ローラはこれを折り平滑な面を生じさせた。
附着物の原因は炉内の揮発性物質例えばSiO による
ものと思われる。
平滑な面は空気運搬に必要な条件である。
この効果によって処理法は簡単になるがその経済性は見
落せない。
【図面の簡単な説明】 第1図は従来の帯状シリコン結晶の製造装置の成長部を
示した断面図、第2図は本発明の一実施例を説明するた
めの帯状シリコン結晶を挾持する一対のローラ部を拡大
して示した斜視図、第3図は第2図の装置でローラを3
組用いた場合の断面図、第4図は第3図の装置で帯状シ
リコン結晶を成長する部分を含めて示した断面図、第5
図は本発明の変形例を説明するためのもので、3本の帯
状シリコン結晶を引き上げる装置の断面図である。 21a,2lb−・・一対のローラ、22a,22b・
・・ローラの挾持するためのバネ、23・・・帯状シリ
コン結晶、24a,24b・・・ダイ。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1 シリコン融液を収容する石英ルツボと、該ルツボを
    支持するルツボホルダと、前記ルツボ内に設けられたス
    リットを有する一対のダイと、前記ルツボ上に設けられ
    た前記一対のダイを保持するダイホルダと、該ダイホル
    ダ上に設けられた熱遮蔽板と、前記一対のダイのスリッ
    トを毛細管現象により前記シリコン融液を上昇せしめる
    手段と、該手段により上昇したシリコン融液に種子結晶
    を接触させ、該種子結晶を引き上げることにより帯状シ
    リコン結晶を得る手段と、該手段により得られた帯状シ
    リコン結晶を挾持して上方に引き上げるように設けられ
    た回転可能な少なくとも一対のローラと、該ローラを支
    持する部材に設けられたローラの挾持力を調整するバネ
    とを備えだ装置を用いて帯状シリコン結晶を製造する際
    、前記バネによって前記ローラの挾持力を前記石英ルツ
    ボ、ルツボホルダ、一対のダイ、ダイホルダ及び熱遮蔽
    板からなる高温部構成部品の重量より小さくなるように
    調整し、前記引き上げられる帯状シリコン結晶と前記一
    対のダイとが固着した場合に、前記ローラが空回りして
    そのままの状態に推持するようにし、その推持した状態
    で固着した部分を溶融せしめ、再び帯状シリコン結晶を
    上方に引き上げて、前記一対のダイのスリットの形状に
    応じた帯状シリコン結晶を連続引き上げ可能としたこと
    を特徴とする帯状シリコン結晶の製造方法。
JP53041744A 1978-04-11 1978-04-11 帯状シリコン結晶の製造方法 Expired JPS585880B2 (ja)

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JPS5265718A (en) * 1975-11-29 1977-05-31 Nippon Mining Co Ltd Furnace for refining zinc by distillation

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