JPS5857412B2 - ジアリ−ルエ−テルの製造方法 - Google Patents

ジアリ−ルエ−テルの製造方法

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JPS5857412B2
JPS5857412B2 JP55064135A JP6413580A JPS5857412B2 JP S5857412 B2 JPS5857412 B2 JP S5857412B2 JP 55064135 A JP55064135 A JP 55064135A JP 6413580 A JP6413580 A JP 6413580A JP S5857412 B2 JPS5857412 B2 JP S5857412B2
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Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、ジアリールエーテル類の製造方法、特に非活
性化ノ・ロゲノベンゼンを銅化合物の存在下でフェノラ
ート又はナフトラートと反応させることによるジアリー
ルエーテル類の製造方法に関するものである。
本明細書中において、「フェノラート」とはフェノラー
ト又はナフトラートを意味するものと理解される。
この反応は、従来技術で周知されており、エーテルのウ
ルマン反応であって、触媒としての銅化合物の存在下で
不活性ハロゲノベンゼン(すなわち、ハロゲン基に対し
オルト位置又はパラ位置に、このオルト位置およびパラ
位置を選択的に活性化させる基を含有しない)和ゲノベ
ンゼン)ヲフエノラートと反応させることを含んでいる
さらに正確には、3−フェノキシトルエンを得るためカ
リウムm−クレゾラートを活性化青銅の存在下でブロム
ベンゼンと反応させることを記載した英国特許第’10
52390号が知られている。
この反応はブロムベンゼン中において220℃〜240
℃にて行なわれる。
この種の方法の主たる欠点は、多量の臭素化誘導体が使
用されることであり、この臭素化誘導体は反応体及び溶
媒の両者として使用される。
当業者は、この臭素化誘導体が高価であることを充分承
知している。
反応を高温度で行なうことも、主要な欠点となる。
しかしながら、塩素化誘導体の使用を可能にする方法も
存在する。
特に、特願昭47−104672°号が知られており、
これはm−フェノキシトルエンの製造方法を記載してお
り、この方法によればm−クレゾールのアルカリ金属塩
を有機塩基の存在下でクロルベンゼンと反応させ、この
場合銅粉末又は銅化合物が触媒として使用される。
反応はキノリン中において200℃程度の温度で行なわ
れる。
この方法の大きな欠点は、その工業規模での使用に関し
、疑いもなくたとえばキノリンのような溶媒がその使用
に伴う困難性とその価格とに起因する多くの欠点を示す
という事実である。
他の日本国特許出願、すなわち特願昭52− ≧351
28号明細書は、溶媒を使用することなくクロルベンゼ
ンを銅又は銅化合物の存在下でm−クレゾラートと反応
させうる方法を記載している。
工業規模におけるこの方法の使用は大きな問題を提起す
る。
何故なら、これは加圧下かつ高温(200〜250℃)
下で行なわねばならないからである。
かくして、不活性ハロゲンベンゼンを銅化合物の存在下
でフェノラートと反応させることによるジアリールエー
テルの製造方法という範囲内において、従来技術はウル
マン反応の容易かつ一般的な利用を工業的に可能にしな
いことが判明した。
従来技術により満たされない要求を3つの点に関してこ
れらを個々に又は組合せて分析することができる。
第一点は溶媒に関するものである。工業的には、毒性が
低く、良好な熱的及び化学的安定性を有すると同時に工
程の経済性を損じないような溶媒を使用しうろことが望
ましいであろう。
特に、多(の場合、反応体の一種を溶媒として使用しう
ろことが有利であろう。
第二点は反応温度に関するものである。
反応温度を低下させることは、技術的観点からも経済的
観点からも極めて有利となることが明白である。
特に、反応体又は得られる生成物が熱作用に対し鋭敏で
ある場合は、できるだけ低温度で反応を行なう必要性を
強調しなげればならない。
第三点はハロゲンベンゼンに関するものである。
上記から明白なように、同様な反応条件の下では、臭素
化誘導体を対応の塩素化誘導体で代替するのが望ましい
本出願人の研究により、これらの要件を満足させるジア
リールエーテルの製造方法を完成した。
したがって、本発明は、非活性化ハロゲノベンゼンを銅
化合物の存在下でアルカリ金属フェノラートと反応させ
ることによるジアリールエーテルの製造方法に関するも
のであり、この方法は反応を式 〔式中、nは1又は2に等しい整数であり、R1、R2
、R3及びR4は水素原子を示し、R5は低級アルキル
基を示す〕 の少なくとも一種の金属イオン封鎖剤の存在下で行なう
ことを特徴とする。
反応は、溶媒の不存在下又は存在下で行なうことができ
る。
本発明は、式(I)の金属イオン封鎖剤が一方では銅化
合物により、他方ではアルカリ金属フェノラートにより
反応媒体中に可溶性の錯体を形成するのに対し、銅化合
物とフェノラートとは未錯体化型において前記媒体中に
不溶性又は極めて難溶性であるという事実に基いている
この錯体化は二重の効果を有する。
第一に、触媒とフェノラートとの可溶化を可能にし、し
たがって反応を起こさせることができる。
第二に、これは完全には説明されていないが、錯体化は
反応が従来の条件よりもずっと緩和な条件下で生ずるよ
うに反応系を活性化させる。
したがって、反応は、塩素化誘導体を使用してさえ、比
較的低温度かつ大気圧下にて行なわれる。
勿論、本発明はたとえばブロムベンゼンのような他のハ
ロゲンベンゼンについても同様に適用されるが、これら
状態下での工業的価値は大抵の場合大して顕著でない。
反応を溶媒なしで行なう場合、金属イオン封鎖剤により
錯体化された銅化合物と、同じ金属イオン封鎖剤により
錯体化されたアルカリ金属フェノラートとはハロゲノベ
ンゼン中に可溶性であり、金属イオン封鎖剤自体もこの
ノ・ロゲノベンゼン中に可溶性である。
反応を溶媒の存在下で行なう場合、金属イオン封鎖剤に
より錯体化される銅化合物と、金属イオン封鎖剤により
錯体化されるフェノラートとハロゲンベンゼンとは問題
とする溶媒中に可溶性であり、金属イオン封鎖剤自身も
この溶媒中に可溶性である。
本発明の好適具体例は、式(I)においてR1、R2、
R3及びR4が水素圧′子を示し、R5及びnが上記の
意味を有するような金属イオン封鎖剤を使用する。
これら金属イオン封鎖剤のうち、nが1又は2に等しく
、R5が1〜4個の炭素原子を有するアルキル基を示す
ものを使用するのが、特に好適である。
次の金属イオン封鎖剤を挙げることができる。
式 %式%) 式 のトリス(3・6−シオキサヘプチル)アミン、のトリ
ス(3・6・9−トリオキサデシル)アミン、のトリス
(3・6−シオキサオクチル)アミン、のトリス(3・
6・9−トリオキサウンデシル)アミン、 式 %式%) 式 のトリス(3・6・9−トリオキサドデシル)アミン、 式 のトリス(3・6−シオキサデシル)アミン、
式のトリス(3・6・9−トリオキサドデシル)ア
ミン、 式 %式% デシル)アミン、及び 式 のトリス(3・6・9・12・15・18−へキサオキ
ソノナデシル)アミン。
次の金属イオン封鎖剤も挙げることができる。
式 %式% ル)アミン及び 式 %式% ) 本発明の方法に使用されるアミンは、それ自体従来公知
である。
たとえばフランス特許第1、302365号明細書は、
第三アミンN−(CH2−CH2−0−CH3)及びN
−(CH2−CH20CH2−CH20CH3) 3を
対応する第−及び第二アミンの合成から副生物として製
造することを記載しており、ここでこれら第−及び第二
アミンは医薬物質合成用の中間体として、腐蝕抑制剤と
して、農業に価値ある化学品の合成用中間体として及び
乳化剤として貴重な生成物である。
上記フランス特許第1302365号で得られる化合物
並びに本発明の主題を構成する方法に使用されるアミン
の応用分野は、本発明の分野と全く異なるものであるこ
とを強調する価値がある。
本発明による方法は、一般式 のノ叩ゲノベンゼンの反応に適用することができ、この
式においてnは1又は2であり、基Xは同−又は異なる
ものであってCI及びBrよりなる群から選択され、基
R6は水素、低級アルギル基、−CF3、並びに基F、
−NO2−1−CN、 及び−C02R〔式中、Rは低
級アルギル基を示す〕よりなる群から選択される。
R6が置換基Xに対しオルト−又はパラ−位置に存在す
る場合は、これは上記した基−No2、−CN、−Co
2R1の一つを示すことができず、これら基は事実これ
らのオルト−又はパラ−位置を選択的に活性化する。
本発明の方法に使用しうるフェノラートは式を有し、こ
こでArは適宜置換されたフェニル基を示し、M+はア
ルカリ金属から生ずる陽イオンよりなる群から選択され
る陽イオンを示し、rは1又は2の整数である。
さらに詳しくは、本発明は式 の化合物に関するものであり、ここでrは1に等しく、
陽イオンMはNa十及びに+よりなる群から選択され、
基R7は水素、1〜12個の炭素原子を有するアルキル
基、基F1並びに基−COHよりなる群から選択される
限定的ではないがさらに詳細には、本発明は1個の置換
基Xのみを有する弐■の化合物と、1個の置換基0−M
+のみを有する式■の化合物との反応に関するものであ
り、さらに1個の置換基Xのみを有する式■の化合物と
、数個の置換基0−M+を有する式■の化合物との反応
にも関し、またその逆すなわち数個の置換基Xを有する
式■の化合物と、1個の置換基0−M+のみを有する式
■の化合物との反応にも関するものである。
次の化合物を式Mのハロゲノベンゼンの例として挙げる
ことができる: フェノール及びナフトールから誘導される次の化合物を
式1111raのフェノラートの例として挙げることが
できる。
:本発明の方法を実施するのに最も適する金属イオン封
鎖剤の選択は、陽イオンM十の大きさに関して行なわね
ばならない。
陽イオンの大きさが大きい程、金属イオン封鎖剤の分子
中に存在する酸素原子の数は多くなげればならない。
たとえば、カリウムフェノラートを使用する場合はトリ
ス(3・6・9−トリオキサデシル)アミンが好適であ
るのに対し、対応するナトリウム塩の場合はトリス(3
・6−シオキサヘプチル)アミンが好適である。
溶媒を使用する場合は、幾つかの条部を満足せねばなら
ない。
第一に、これは金属イオン封鎖剤を溶解しなければなら
ない(金属イオン封鎖剤は大多数の通常の溶剤に可溶性
である)。
さらに、これは溶解すべき塩に対して化学的に不活性で
なげればならない。
また、本発明による方法から最良の結果を得るには、選
択溶媒の非極性が顕著になればなる程、金属イオン封鎖
剤の親油性も一層顕著でなければならない(すなわち、
金属イオン封鎖剤に存在する炭素原子の数がより多くな
げればならない)ことにも注目すべきである。
使用しうる溶媒の例はジフェニルエーテル、アニソール
、トルエン、グリコールポリエーテル、ベンゼン及びキ
シレンである。
触媒として使用し・うる銅化合物は従来公知である。
次の化合物を挙げることができる:CuC1、CuBr
、CuI、CuOCOCH3及びCu2O。
好ましい具体例によれば、CuC1又はCuBr が
使用される。
本発明による方法は約50℃〜200℃の温度で行なわ
れる。
好ましくは、約り00℃〜約180℃の温度で行なわれ
る。
上記したように、本方法は通常大気圧下で行なわれる。
勿論、大気圧より低い又は高い圧力も、本発明から排除
されない。
使用する金属イオン封鎖剤の量は、銅化合物対式Iの金
属イオン封鎖剤のモル比が好ましくは約0.05〜10
になるような量である。
この比は、より好ましくは約0.1〜5の範囲である。
銅化合物対フェノラートのモル比は、好ましくは約0.
005〜約0.15であり、さらに好ましくは約0.0
1〜0.1である。
ハロケンベンゼン対フェノラートのモル比は好ましくは
約0.8〜約50であり、より好ましくはこの比は約0
.9〜約30である。
この比の高い値は、ハロゲノベンゼンを溶媒としても使
用する場合に相当する。
本発明により得られる化合物は、次の一般式■を有する
: 次の化合物を、式■の化合物の例として挙げることがで
きる: これらは、特に植物保護作用及び医薬活性を有する化合
物を合成するための中間体として有用である。
本発明の方法に使用される式Iの金属イオン封鎖剤は式
、 〔式中、R3、R4,R5及びnは上記の意味を有し、
Mはナトリウム、カリウム及びリチウムから選択される
アルカリ金属原子を示す〕 の塩を一般式 〔式中、R7及びR2は上記の意味を有し、Xは塩素又
は臭素を示す〕 のアミン又は対応する塩酸塩若しくは臭化水素酸塩のい
ずれかと縮合させて製造することができる。
アルカリ金属塩/アミンのモル比は約3〜約5である。
縮合操作は、たとえばクロルベンゼン又は好ましくは式
R3−(0−CHR4−CHR3) n−OHのエチレ
ングリコールモノアルキルエーテルテアってもよい溶媒
の存在下に、100〜150℃の温度で1〜15時間行
なわれる。
本方法は、好ましくは、溶液が溶媒11当り2〜5モル
のアルカリ金属塩を含有するようにして行なわれる。
反応の終りに、混合物は主として式 の第三アミンを含有するだけでなく、少量割合の対応す
る第三アミン 及び微量の第一アミン をも含有する。
第三、第二及び第一アミンは一般に蒸留後それぞれ90
:8 :2の比で存在する。
本発明の方法においては、最初の蒸留の後に得られる混
合物、すなわち三種のアミンを含有する混合物をそのま
ま使用することができる。
本発明からより良好な結果を得るには、はぼ純粋な第三
級アミンを得るため上記の混合物の一層完全な蒸留を行
なうことが好ましい。
本発明のさらに特徴及び利点は、以下の例の記載から一
層明白になるであろう。
これらの例は、決して本発明を限定するものと考えては
ならない。
例1 塩化第一銅CuC1の存在下におけるナトリウムm−ク
レゾラート とクロルベ ンゼン とからのm−フエノキシトルエ (a)式 %式%) ) 攪拌機と温度計と滴下F斗と分別用分離器とを備えた2
1の三首丸底フラスコに、216グ(2モル)のm−ク
レゾールと81’(2モル)の水酸化ナトリウムと60
1の水と1251(11モル)のクロルベンゼンとを導
入した。
次いで、混合物を133℃まで加熱し、水を共沸混合物
として蒸留した。
ナトリウムフェノラートのスラリーは135℃で流動性
となった。
この時点で、不活性ガス(窒素)の流れを通し、11(
0,18モル)の塩化第一銅と382(0,104モル
)のトリス(3・6−シオキサオクチル)アミンとを導
入した。
6時間還流を保ち、クロルベンゼンの消失とフェノキシ
トルエンの出現とを検査することにより反応の経過をク
ロマトグラフィーにより追跡した。
135℃にて6時間後、転化度は89%であり、収率は
97%であった。
冷却後、塩化ナトリウムを酸性水及び次いでアルカリ性
水で抽出し、そして有機混合物を蒸留して30210m
−フェノキシトルエンを得た:沸点、:120℃、a利
0 : 1.045゜(b)式 %式%) 216P(2モル)のm−クレゾールと60P(1−5
モル)の水酸化ナトリウムと287(0,5モル)の水
酸化カリウムと601の水と1251’(11モル)の
クロロベンゼントラ、上記と同じ装置に導入した。
環生成を例1(a)と同様にして行ない、次いで混合物
を水素の流れの下に置いた後、17S’(0,17モル
)の塩化第一銅と30?(0,093モル)のトリス(
3・6−シオキサヘプチル)アミンとを加えた。
還流を6時間保ち、反応の経過を追跡した。
この期間が経過すると、クレゾールの転化度は90%に
達し、収率は97%に達した。
比較実験二本発明による金属イオン封鎖剤を添加しない
以外は、上記の手順に従った。
5時間後、反応の完結程度は僅か5%であり、転化度5
0%を得るには106時間の還流を必要とした。
例2 塩化第一銅CuC1及びトリス(3・6−シオキサオク
チル)アミンN−(CH2−CH2−0−CH2−CH
2−OC2H3)3の存在下におけるナトリウムフェノ
ラート、 と3−クロ ルトルエン とからのm−フエ ノキシトルエン 磁気攪拌棒を備えかつ窒素シールの下に置かれた100
771/三角フラ、スコに1.16S’(0,01モル
)のナトリウムフエナートと20S’(0,158モル
)の3−クロルトルエンと0.0991(0,001モ
ル)の塩化第一銅と0.36P(0,001モル)のト
リス(3・6−シオキサオクチル)アミンとを導入した
4時間還流した後、転化度は91%に達した。
比較実験ニドリス(3・6−シオキサオクチル)アミン
を加えない以外は、上記の手順に従った。
4時間還流の後、転化度は0.6%であった。
例3 塩化第一銅CuC1とトリス(3・6−シオキサオクチ
ル)アミンN−(CH2−CH2−0−CH2−CH2
0C2H3)3との存在下におけるナトリウム0−クレ
ゾラート とクロルベンゼン とからの0−フェノ キシトルエン の製造 磁気攪拌棒を備えた100m/三角フラスコに1.30
? (0,01モル)のナトリウム0−クレゾ7−1と
21(0,18モル)のクロルベンゼンと0.099′
f!(0,001モル)の塩化第一銅と0.31’(0
,001モル)のトリス(3・6−シオキサオクチル)
アミンとを導入した。
6時間還流した後、転化度は92%に達した。
比較実験ニドリス(3・6−シオキサオクチル)アミン
を加えない以外は同じ実験を行なった。
6時間還流した後、転化度は僅か1.2%であつた。
例4 塩化第一銅とトリス(3・6−シオキサオクチル)アミ
ンとの存在下におけるナトリウムフェノラートφ−ON
a+と0−ジクロルベンゼン とからの1・2−ジフェノキ シベンゼン の製造 磁気攪拌機を備えた100m/三角フラスコに、アニソ
ール207中の2.32P(0,002モル)のナトリ
ウムフエナートと1.4.7 P (0,01モル)の
o−ジクロルベンゼンと0.2f(0,002モル)の
塩化第一銅と0.72 ? (0,002モル)のトリ
ス(3・6−シオキサオクチル)アミンとを導入した。
20時間還流した後、転化度は1・2−ジフェノキシベ
ンゼンに関し60%であり、1−クロル−2−フェノキ
シベンゼンに関し5%であった。
比較実験ニドリス(3・6−シオキサオクチル)アミン
を加えない以外は同じ実験を行なった。
アニソールの還流温度で20時間後、転化度は零であっ
た。
例5 塩化第一銅CuC1とトリス(3・6−シオキサオクチ
ル)アミンとの存在下における1−クロル−2−フルオ
ルベンゼン とナト リウムm−クレゾラート とから の2−(3’−メチルフェノキシ)フルオルベン磁気攪
拌機を備えかつ水素の流れの下に置かれた100771
/三角フラスコに、20 ? (0,15モル)の1−
クロル−2−フルオルベンゼント1.37P(0,01
モル)のナトリウムm−クレゾラートと0.0997(
0,001モル)の塩化銅と0゜36グ(o、ooiモ
ル)のトリス(3・6−シオキサオクチル)アミンとを
導入した。
混合物を還流下に24時間加熱した。
1−フルオル−2−(3’−メチルフェノキシ)ベンゼ
ンに関する転化度は75%に達した。
比較実験ニドリス(3・6−シオキサオクチル)アミン
を加えない以外は、上記の手順に従った。
24時間の還流後、転化度は11%であった。
例6 塩化第一銅CuC1とトリス(3・6−シオキサオクチ
ル)アミンとの存在下における3−クロルトルエン とナトリウムm− フルオルフェノラー とからの 3−(3’−フルオルフェノキシ)トルエン、の製造 攪拌機を備えかつ油浴により加熱される500rrLl
丸底フラスコに、110f(0,87モル)の3−クロ
ルトルエンと8P(0,06モル)のナトリウムm−フ
ルオルフエナートと0.61(0,006モル)の塩化
第一銅と2.2P(0,006モル)のトリス(3・6
−シオキサオクチル)アミンとを導入した。
混合物を還流下(180℃)に8時間30分加熱した。
かくして、m−(3’−フルオルフェノ、キシ)トルエ
ンに関する転化度は65.9%に達した。
比較実験:金属イオン封鎖剤を加えない以外は、上記の
手順に従い、転化度は5%であった。
例7 塩化第一銅CuC1とトリス(3・6−シオキサオクチ
ル)アミンとの存在下における3−クロルベンゾニトリ
ル とナトリウム フェノラート とからのm−フェ ノキシベンゾニトリル の製造 (a) アニソールの存在下 10M’(0,73モル)の3−クロルベンゾニトリル
と98P(0,84モル)のナトリウムフエナートと7
.2f(0,072モル)の塩化第一銅と10.1’
(0,028モル)のトリス(3・6−シオキサオクチ
ル)アミンと5707のアニソールとを、例1のような
装備の11丸底フラスコに導入した。
次いで混合物を窒素雰囲気下で還流下(155℃)に6
時間加熱した。
転化度は85%であり、蒸留されたm−フェノキシベン
ゾニトリルに関する収率は70%であった。
(b)ジフェニルエーテルの存在下 アニソールの代りにフェニルエーテルを使用した以外は
(a)に示した手順に従い、これにより混合物を180
℃にて6時間加熱することができた。
かくして、転化度は95%であり、蒸留されたm−フェ
ノキシベンゾニトリルに関する収率は70%であった。
比較実験ニドリス(3・6−シオキサオクチル)アミン
を加えない以外は(b)に示した手順に従った。
6時間後の転化度は15%であった。例8 塩化第一銅CuC1とトリス(3・6・9−トリオキサ
デシル)アミンとの存在下におけるとからのm−フ エノキシベンゾニトリル の製造 192f(・343モル)の水酸化カリウムと2522
の水と3.2oP(3,8モル)のフェノールと675
7のアニソールとを、例1のように装備した31丸底フ
ラスコに導入した。
水を共沸混合物として除去するため混合物を還流下に加
熱して、塩生成を行なった。
次いで装置を窒素下に置き、5007のアニソール中に
溶解させた4602(3,34モル)のクロルベンゾニ
トリルト36P(0,36モル)の塩化第一銅と26
P (0,057モル)のトリス(3・6・9−トリオ
キサデシル]アミンとを導入した。
還流(140℃)を6時間保ち、転化度は80%に達し
た。
混合物を冷却した後、塩化物を酸性化水で抽出し、デカ
ンテーションにより水性層を分離除去した後、アニソー
ルと未反応フェノールとm−フェノキシベンゾニトリル
(沸点。
、5:127℃、収率73%)とを蒸留により回収した
例9 塩化第一銅CuC1とトリス(3・6−シオキサオクチ
ル)アミンとの存在下におけるm−クロルニトロベンゼ
ン とナトリウ ムフェノラート とからのm−フェノキシニトロベ ンゼン の製造 磁気攪拌棒を備えかつ窒素雰囲気下に置かれた100m
/三角フラスコに、アニソール50m/中の7.9 P
(0,05モル)のm−クロルニトロベンゼンと5.
1’(0,05モル)のナトリウムフエナートと0.5
P(0,005モル)の塩化第一銅と1.8El(0,
005モル)のl・リス(3・6−シオキサオクチル)
アミンとを導入した。
混合物を還流下に6時間加熱した。
かくして、転化度は72%に達した。
比較実験:この方法をトリス(3・6−シオキサオクチ
ル)アミンの添加なしに行なった場合、転化度は僅か1
2%であった。
例10 塩化第一銅CuC1とトリス(3・6−シオキサオクチ
ル)アミンとの存在下におけるナトリウムフェノラート とm−クロル安 息香酸メチル とからのm −フェノキシ安息香酸メチル の製造 アニソール300グ中の17.1 ? (0,098モ
ル)のm−クロル安息香酸メチルと11.1’(0,1
モル)のナトリウムフエナートと17(0,001モル
)の塩化第一銅と3.7 P (0,001モル)のト
リス(3・6−シオキサオクチル)アミンとを、例1と
同様に装備した11丸底フラスコに導入した。
6時間還流した後、転化度は75%であった。
比較実験ニドリス(3・6−シオキサオクチル)アミン
なしに行なった同じ実験によれば、転化度は僅か1.5
%であった。
例11 塩化第一銅CuC1とトリス(3・6−シオキサヘプチ
ル)アミンとの存在下におけるp−クロルトリフルオル
メチルベンゼン とナト リウムm−クレゾラート らの1−(2’−メチルフェノキシ)−4−トリフルオ
ルメチルベンゼン の製造 65P(0,5モル)のナトリウムm−クレゾラートと
90.25P(0,5モル)のp−クロルトリフルオル
メチルベンゼンと5P(0,005モル)の塩化第一銅
と18P(0,056モル)のトリス(3・6−シオキ
サヘプチル)アミンと3001のアニソールとを、例1
と同じ装備の11丸底フラスコに導入した。
150℃にて6時間還流した後、転化度は75%に達し
た。
比較実験:トリス(3・6−シオキサヘプチル)アミン
を用いない場合、転化度は6時間後、僅か3.4%であ
った。
例12 塩化第一銅CuC1とトリス(3・6−シオキザオクチ
ル)アミンとの存在下におけるナトリウムm−クレゾラ
ート及びカリウムm−クレゾラとクロルベンゼン とからのm−フェノキシトルエン 蒸留カラムを備えた1001ステンレス鋼製装置に、1
4.3kg(132,4%ル)のm−クレゾールと75
kg(667モル)のクロルベンゼンと9.24kgの
36°Be′濃度の水酸化ナトリウム溶液と4.48k
gの50%濃度の水酸化カリウム溶液とを導入した。
水を共沸混合物として蒸留することにより塩生成を行な
った。
混合物の温度が132℃に達したら直ちに、1.6kg
(t6モル)の塩化第一銅と2kg(5,sモル)のト
リス(3・6−シオキサオクチル)アミンとを導入し、
水素の流水を通した。
135℃にて5時間還流した後、転化度は88%に達し
、収率は93%であった。
80℃まで冷却後、生成した塩を酸性水で抽出し、次い
で有機混合物を蒸留して過剰のクロロベンゼンと未反応
クレゾールと次いでm−フェノキシトルエンとを取り出
した。
かくして、216kgのm−フェノキシトルエンが得ら
れ、これは収率89%であった。
例13 m−ヒドロキシベンズアルデヒドから生成された2、8
8P、すなわち0.02モルのナトリウム塩と607の
ブロモベンゼンと0.2P((1002モル)のCuC
1と0.1Elのトリス(3−6−シオキサオクチル)
アミンとを、撹拌棒を備えかつ窒素雰囲気下に置かれた
1001rLl三角フラスコに導入し、混合物を150
℃にて8時間加熱した。
m−フェノキシベンズアルデヒドに関する反応の収率は
75%であった。
比較実験ニドリス(3・6−シオキサオクチル)アミン
を加えずにこの方法を行なった場合、m−フェノキシベ
ンズアルデヒドに関する転換度は僅か1%であった。
例14 トリス(3・6−シオキサオクチル)アミンの製造 (a) 機械攪拌機と温度計と凝縮器とを備えた11
の三筒丸底フラスコに、450P(5モル)の2−エト
キシエタノールを導入した。
混合物の温度を40℃に保ちながら、ナトリウム231
(1モル)を3時間かけて加えた。
(b) 5 ]、、6 ? (すなわち0.215モ
ル)のトリス(2−クロルエチル)アミン塩酸塩を上記
混合物に加えた。
次いで、混合物を2−エトキシエタノールの還流温度で
12時間加熱し、次いで溶媒を減圧下に蒸留した。
12m1の塩酸水溶液(1ON)を加えて過剰のナトリ
ウム2−エトキシエタノ−ルを中和した。
塩化ナトリウムを沢去し、溶液を蒸留した。
トリス(3・6−シオキサオクチル)アミンは、1mi
Hgの圧力下で200〜210℃にて留出し、収率は6
8%であった。
例15 トリス(3・6−シオキサヘプチル)アミンの製造 (a) 機械攪拌機と温度計と凝縮器とを備えた11
の三筒丸底フラスコに380f(5モル)の2−メトキ
シエタノールを導入した。
2.1(1モル)のナトリウムを3時間かけて加え、そ
の間混合物の温度を40℃に保った。
(b)51.6P(すなわち0.215モル)のトリス
(2−クロルエチル)アミン塩酸塩を上記の混合物に加
えた。
次いで、混合物を2−メトキシエタノールの還流温度(
125℃)にて12時間加熱し、次いで溶媒を減圧下に
蒸留した。
IONのHCI 水溶液11.6mrを加えて、過剰の
ナトリウム2−メトキシエタノ−ルを中和した。
塩化ナトリウムをr過除去し、溶液を蒸留した。
例16 トリス(3・6・9−トリオキサデシル)アミンの製造 機械攪拌機と凝縮器と温度計とを備えた11の三筒丸底
フラスコに、60C1すなわち5モルのジエチレングリ
コールモノメチルエーテル(3゜6−シオキサヘブタン
ー1−オール)を導入し、次いですl・リウム2.1(
1モル)を少量づつ加えてナトリウム3・6−シオキサ
ヘプタノラートを生成させた。
ナトリウムが完全に転化したら、51.8?(すなわち
0.215モル)のトリス(2−クロルエチル)アミン
塩酸塩を加えた。
攪拌しながら混合物を130℃にて8時間加熱し、次い
で冷却し、10%濃度の塩酸水溶液で過剰のすトリウム
アルコラードを中和した。
130℃で20mmHgの圧力下に蒸留して3・6−シ
オキサヘブタンー1−オールを除去した。
得られた混合物を濾過して塩化ナトリウムを除去し、次
いで溶液を蒸留した。
か(して、189℃かつ0.1 mmHgにて留出する
トリス(3・6・9−トリオキサデシル)アミン832
が得られた。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 次式 ※〔式中、nは1又は2であり、基Xは同−又は異なる
    ものであってCI及びBrよりなる群から選択され、基
    R6は水素、低級アルキル基、基−CF3、基F、並び
    に基−N02、−CN及び−CO2R〔式中、Rは低級
    アルキル基を示す〕よりなる群から選択される〕 の非活性化ハロゲンベンゼンを銅化合物の存在下で次式 〔式中、rは1に等しく、陽イオンM十はNa+及びに
    十よりなる群から選択され、基R7は水素、1〜12個
    の炭素原子を有するアルキル基、基F及び基−COHよ
    りなる群から選択される〕のアルカリ金属フェノラート
    と反応させることによりジアリールエーテルを製造する
    にあたり、反応を式 〔式中、nは1又は2に等しい整数であり、R1、R2
    、R3及びR4は水素原子を示し、R5は低級アルキル
    基を示す〕 の少なくとも一種の金属イオン封鎖剤の存在下で行なう
    ことを特徴とするジアリールエーテルの製造方法。 2 式(I)においてR5が1〜4個の炭素原子を有す
    るアルキル基を示すことを特徴とする特許請求の範囲第
    1項記載の方法。 3 式(1)においてR1、R2、R3及びR4が水素
    原子を示し、nが1又は2に等しい整数であり、R5が
    1〜4個の炭素原子を有するアルキル基を示すことを特
    徴とする特許請求の範囲第1項記載:の方法。 4 式(I)の金属イオン封鎖剤が式 のトリス(3・6−シオキサヘプチル)アミンであるこ
    とを特徴とする特許請求の範囲第3項記載の方法。 5 式(I)の金属イオン封鎖剤が式 のトリス(3・6・9−トリオキサデシル)アミンであ
    ることを特徴とする特許請求の範囲第3項記載の方法。 6 式(I)の金属イオン封鎖剤が式 のトリス(3・6−シオキサオクチル)アミンであるこ
    とを特徴とする特許請求の範囲第3項記載の方法。 7 反応がジフェニルエーテル、アニソール、トルエン
    、キシレン、グリコールエーテル及ヒヘンゼンよりなる
    群から選択される溶媒の存在下で行なわれることを特徴
    とする特許請求の範囲第1項乃至第6項のいずれかに記
    載の方法。 8 式(I)の金属イオン封鎖剤の使用量が、銅化合物
    対式(I)の金属イオン封鎖剤のモル比を約0.05〜
    10とするような量であることを特徴とする特許請求の
    範囲第1項乃至第6項のいずれかに記載の方法。 9 モル比が約0.1〜約5であることを特徴とする特
    許請求の範囲第8項記載の方法。 10 反応を約50°C〜約200℃の温度で行なう
    ことを特徴とする特許請求の範囲第1項乃至第9項のい
    ずれかに記載の方法。 11 温度が約り00℃〜約180℃であることを特
    徴とする特許請求の範囲第10項記載の方法。 12 ナトリウムm−クレゾラートを塩化第一銅の存
    在下でクロルベンゼンと反応させるに際し、反応をトリ
    ス(3・6−シオキサオクチル)アミン及びトリス(3
    ・6−シオキサヘプチル)アミンよりなる群から選択さ
    れる金属イオン封鎖剤の存在下で行なうことを特徴とす
    る特許請求の範囲第1項記載のm−フェノキシトルエン
    の製造方法。 13 ナトリウムフェノラートを塩化第一銅の存在下
    で3−クロルトルエンと反応させるに際し、反応をトリ
    ス(3・6−シオキサオクチル)アミンの存在下で行な
    うことを特徴とする特許請求の範囲第1項記載のm−フ
    ェノキシトルエンの製造方法。 143−クロルベンゾニトリルを塩化第一銅の存在下で
    ナトリウムフェノラートと反応させるに際し、反応なト
    リス(3・6−シオキサオクチル)アミンの存在下かつ
    アニソール及びジフェニルエーテルよりなる群から選択
    される溶媒の存在下に行なうことを特徴とする特許請求
    の範囲第1項記載のm−フエノキシベンゾニI・リルの
    製造方法。 15 ナトリウムフェノラートを塩化第一銅の存在下
    でメチルm−クロルベンゾニー1・と反応させるに際し
    、反応をアニソール中にてトリス(3・6−シオキサオ
    クチル)アミンの存在下に行なうことを特徴とする特許
    請求の範囲第1項記載のメチルm−フェノキシベンゾエ
    ートの製造方法。 16 m−ヒドロキシベンズアルデヒドのナトリウム
    塩を塩化第一銅の存在下にブロムベンゼンと反応させる
    に際し、反応をトリス(3・6−シオキサオクチル)ア
    ミンの存在下に行なうことを特徴とする特許請求の範囲
    第1項記載のm−フェノキシ−ベンズアルデヒドの製造
    方法。
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