JPS5856522B2 - ポリα↓−オレフィンの精製法 - Google Patents
ポリα↓−オレフィンの精製法Info
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- JPS5856522B2 JPS5856522B2 JP8234978A JP8234978A JPS5856522B2 JP S5856522 B2 JPS5856522 B2 JP S5856522B2 JP 8234978 A JP8234978 A JP 8234978A JP 8234978 A JP8234978 A JP 8234978A JP S5856522 B2 JPS5856522 B2 JP S5856522B2
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- polyα
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Description
【発明の詳細な説明】
本発明はハロゲン含有金属触媒残渣を含むポリα−オレ
フィン、例えばチーグラー・ナツタ型触媒を用いて重合
して得られたポリα−オレフィンの精製法に関するもの
である。
フィン、例えばチーグラー・ナツタ型触媒を用いて重合
して得られたポリα−オレフィンの精製法に関するもの
である。
さらに詳述すれは本発明はいわゆるチーグラー・ナツタ
型触媒を用いて重合して得られたポリα−オレフィンを
常温以上で該ポリα−オレフィンの融点未満の温度にお
いてガス状のエポキシドで接触処理する工程において、
銅含有金属を触媒残渣に由来する酸性物質のエポキシド
による不活性化反応の触媒とじて使用することを特徴と
するポリα−オレフィンの精製法に関するものである。
型触媒を用いて重合して得られたポリα−オレフィンを
常温以上で該ポリα−オレフィンの融点未満の温度にお
いてガス状のエポキシドで接触処理する工程において、
銅含有金属を触媒残渣に由来する酸性物質のエポキシド
による不活性化反応の触媒とじて使用することを特徴と
するポリα−オレフィンの精製法に関するものである。
従来、チーグラー・ナツタ型触媒を用いてポリα−オレ
フィンを製造する方法は公知である。
フィンを製造する方法は公知である。
即ち、ポリα−オレフィンはα−オレフィンをハロゲン
化チタン等の遷移金属のハロゲン化合物と有機アルミニ
ウム化合物とよりなる触媒、あるいはこれにさらに必要
に応じて触媒第3成分を加えた触媒系の存在下に重合し
て得られる。
化チタン等の遷移金属のハロゲン化合物と有機アルミニ
ウム化合物とよりなる触媒、あるいはこれにさらに必要
に応じて触媒第3成分を加えた触媒系の存在下に重合し
て得られる。
従って生成重合物中にはこれらの触媒残渣が含有されて
いる。
いる。
この触媒残渣は主としてそれに由来する酸性物質(遊離
塩酸や触媒金属原子にきわめて不安定な状態で結合して
いるハロゲンイオンがその代表的なものである)の為に
重合体を不安定化し、その製品価値を著しく低下させる
ばかりでなくプロセス機器類の腐食問題をひきおこす。
塩酸や触媒金属原子にきわめて不安定な状態で結合して
いるハロゲンイオンがその代表的なものである)の為に
重合体を不安定化し、その製品価値を著しく低下させる
ばかりでなくプロセス機器類の腐食問題をひきおこす。
これらの問題を避ける為に従来、種々のポリα−オレフ
ィンの精製方法が提案されている。
ィンの精製方法が提案されている。
例えば溶媒重合で得られた重合体をアルコール類または
ジケトン類のようなキレート剤で処理し触媒成分を可溶
化して精製する方法(%公昭3512593号、特公昭
34−346号)、さらにはこれらの処理を施した後、
水で可溶化触媒成分を再抽出する方法(特公昭35−9
41号)などがある。
ジケトン類のようなキレート剤で処理し触媒成分を可溶
化して精製する方法(%公昭3512593号、特公昭
34−346号)、さらにはこれらの処理を施した後、
水で可溶化触媒成分を再抽出する方法(特公昭35−9
41号)などがある。
しかしながら、尚、このような処理を施しても触媒残渣
を、上記問題点を惹起しない程度まで十分低減をするこ
とはできなかった。
を、上記問題点を惹起しない程度まで十分低減をするこ
とはできなかった。
一方、高活性触媒を用いて相対的にポリα−オレフィン
中の触媒残渣を減少させることによって、重合体の精製
を省略する方法が提案されている(%公昭46−698
6号、特公昭46−16891号等)。
中の触媒残渣を減少させることによって、重合体の精製
を省略する方法が提案されている(%公昭46−698
6号、特公昭46−16891号等)。
しかしながら、この場合もポリα−オレフィン中には微
量ながら酸性物質を含有する触媒残渣が存在する為、高
品質の製品を得るには伺らかの安定化処理を施す必要が
あった。
量ながら酸性物質を含有する触媒残渣が存在する為、高
品質の製品を得るには伺らかの安定化処理を施す必要が
あった。
ポリα−オレフィンをガス状のエポキシドにより接触処
理することによってポリα−オレフイン中の触媒残渣に
由来する活性ハロゲンを不活性化する方法は工業的に優
れた方法であるとして注目されている。
理することによってポリα−オレフイン中の触媒残渣に
由来する活性ハロゲンを不活性化する方法は工業的に優
れた方法であるとして注目されている。
(%公昭49−32313号、特開昭52−25888
号等) ところで、エポキシドは高価である為、その使用量(或
いは使用時の濃度)はでき得る限り少量(或いは低濃度
)であることが望ましいが、その場合、これら従来技術
においては十分な反応速度ないし反応性が得られないと
いう欠点があった。
号等) ところで、エポキシドは高価である為、その使用量(或
いは使用時の濃度)はでき得る限り少量(或いは低濃度
)であることが望ましいが、その場合、これら従来技術
においては十分な反応速度ないし反応性が得られないと
いう欠点があった。
所期の効果を十分期待しようとすれば、処理時間の延長
或いは処理温度の上昇を要する等という問題点があった
。
或いは処理温度の上昇を要する等という問題点があった
。
さらに、エポキシドによるポリα−オレフィンの接触処
理工程において水やアルコール類が共存するようなプロ
セスにおいては、これらとエポキシドとが反応しエポキ
シドが浪費されるという問題点があった。
理工程において水やアルコール類が共存するようなプロ
セスにおいては、これらとエポキシドとが反応しエポキ
シドが浪費されるという問題点があった。
この現象はエポキシドによる接触処理工程が長時間であ
り高温下である程また、エポキシドが高濃度である程著
しくなることが認められている。
り高温下である程また、エポキシドが高濃度である程著
しくなることが認められている。
従って、比較的低濃度、少量のエポキシドを使用してで
きる限り短時間でまたできる限り低い温度でポリα−オ
レフィンを接触処理することによりポリα−オレフィン
中に含まれる触媒残渣に由来する酸性物質を十分満足で
きるまで不活性化し或いは除去するポリα−オレフィン
の精製法の提供は工業的に極めて重要な意義を有するも
のである。
きる限り短時間でまたできる限り低い温度でポリα−オ
レフィンを接触処理することによりポリα−オレフィン
中に含まれる触媒残渣に由来する酸性物質を十分満足で
きるまで不活性化し或いは除去するポリα−オレフィン
の精製法の提供は工業的に極めて重要な意義を有するも
のである。
本発明の課題は、従って、ハロゲン含有金属触媒残渣を
含有するポリα−オレフィンをガス状のエポキシドで接
触処理するに当り極めて効率的で、かつ、経済的にも有
利な方法を提供することにある。
含有するポリα−オレフィンをガス状のエポキシドで接
触処理するに当り極めて効率的で、かつ、経済的にも有
利な方法を提供することにある。
本発明者らは以上述べた問題点にかんがみ、本課題の実
現を目的として多方面から、鋭意検討をすすめた結果、
本発明を完成するに至ったものである。
現を目的として多方面から、鋭意検討をすすめた結果、
本発明を完成するに至ったものである。
即ち、ハロゲン含有金属触媒残渣を含有するポリα−オ
レフィンを常温以上で該ポリα−オレフィンの融点未満
の温度においてガス状のエポキシドで接触処理する工程
において銅含有金属を触媒残渣に由来する酸性物質のエ
ポキシドによる不活性化反応の触媒として使用すること
によってポリα−オレフィン中に含まれる活性ハロゲン
などの酸性物質を極めて効果的に短時間に大幅に減少さ
せ触媒残渣を安定化し、極めて高品質の製品を得ると共
に製造装置の腐食問題をも解決できることを見出したも
のである。
レフィンを常温以上で該ポリα−オレフィンの融点未満
の温度においてガス状のエポキシドで接触処理する工程
において銅含有金属を触媒残渣に由来する酸性物質のエ
ポキシドによる不活性化反応の触媒として使用すること
によってポリα−オレフィン中に含まれる活性ハロゲン
などの酸性物質を極めて効果的に短時間に大幅に減少さ
せ触媒残渣を安定化し、極めて高品質の製品を得ると共
に製造装置の腐食問題をも解決できることを見出したも
のである。
本発明で使用されるチーグラー・ナツタ型触媒は、a)
ハロゲン化チタン化合物、b)有機アルミニウム化合物
を主成分として構成されるものである。
ハロゲン化チタン化合物、b)有機アルミニウム化合物
を主成分として構成されるものである。
具体的には、a)成分としては、三塩化チタン、四塩化
チタンが使用される。
チタンが使用される。
三塩化チタンの場合は四塩化チタンを水素還元したもの
、または金属アルミニウムで還元したもの、有機アルミ
ニウム化合物で還元し、高活性化したものが使用される
。
、または金属アルミニウムで還元したもの、有機アルミ
ニウム化合物で還元し、高活性化したものが使用される
。
さらには、担体として他金属化合物を含有するチタンハ
ロゲン化物当も使用される。
ロゲン化物当も使用される。
b)成分としては、アルキルアルミニウム、またはアル
キルアルミニウムハロゲン化物が代表的なものである。
キルアルミニウムハロゲン化物が代表的なものである。
例えは、トリエチルアルミニウム、ジエチルアルミニウ
ムクロライド、エチルアルミニウムセスキクロライドが
あげられる。
ムクロライド、エチルアルミニウムセスキクロライドが
あげられる。
この他、さらにこれらa) 、 b)成分の他に酸素窒
素、リン等の電子供与基を含む化合物を第三成分として
添加したものも含まれる。
素、リン等の電子供与基を含む化合物を第三成分として
添加したものも含まれる。
本発明で使用されるエポキシドとしては、炭素数2〜8
のエポキシドが好ましく、例えばエチレンオキシド、プ
ロピレンオキシド、■、2−エポ干シブクン、2,3−
エポキシブタン、1.2−エポキシペンクン、1,2−
エポキシペンテン、2.3−エポキシペンクン、■、2
−エホキシヘキサン、1,2−エポキシヘキセン、メチ
ルグリシジルコニ−チル チルグリシジルエーテル、シクロヘキセンオキシド、ス
チレンオキシド、エピクロルヒドリンなどのアルキレン
オキサイド、グリシジルエーテル類があげられるが、特
に好ましくはエチレンオキシド、プロピレンオキシドが
あげられる。
のエポキシドが好ましく、例えばエチレンオキシド、プ
ロピレンオキシド、■、2−エポ干シブクン、2,3−
エポキシブタン、1.2−エポキシペンクン、1,2−
エポキシペンテン、2.3−エポキシペンクン、■、2
−エホキシヘキサン、1,2−エポキシヘキセン、メチ
ルグリシジルコニ−チル チルグリシジルエーテル、シクロヘキセンオキシド、ス
チレンオキシド、エピクロルヒドリンなどのアルキレン
オキサイド、グリシジルエーテル類があげられるが、特
に好ましくはエチレンオキシド、プロピレンオキシドが
あげられる。
ポリα−オレフィンの接触処理時のエポキシドの態様と
しては1種又は2種以上のエポキシドだけのガスを使用
することも可能ではあるが、窒素、アルゴンなどの不活
性ガスやメタン、エタン、プロパン等の炭化水素ガス等
で稀釈して使用する方法が有利に採用され得る。
しては1種又は2種以上のエポキシドだけのガスを使用
することも可能ではあるが、窒素、アルゴンなどの不活
性ガスやメタン、エタン、プロパン等の炭化水素ガス等
で稀釈して使用する方法が有利に採用され得る。
(以下このようなエポキシドを含有する処理ガスを単に
該処理ガスと略称する。
該処理ガスと略称する。
)エポキシドの使用量はポリα−オレフィン中のハロゲ
ン含有金属触媒残渣に含まれるハロゲンに対し、通常、
当モル量〜5000モル倍量であり、特に好ましくは1
0モル倍量ないし1000モル倍量の範囲が有利に使用
され得るが、本発明の場合においては特に低モル倍量に
おいても著しい所期の効果を期待し得るのである。
ン含有金属触媒残渣に含まれるハロゲンに対し、通常、
当モル量〜5000モル倍量であり、特に好ましくは1
0モル倍量ないし1000モル倍量の範囲が有利に使用
され得るが、本発明の場合においては特に低モル倍量に
おいても著しい所期の効果を期待し得るのである。
ポリα−オレフィンを該処理ガスにより接触処理する工
程においては銅含有金属を触媒残渣に由来する酸性物質
のエポキシドによる不活性化反応の触媒として使用する
ことが重要である。
程においては銅含有金属を触媒残渣に由来する酸性物質
のエポキシドによる不活性化反応の触媒として使用する
ことが重要である。
銅含有金属は該反応を触媒的に促進させる効果を有する
物質の探索を鋭意推進する過程で見出されたものであり
、その触媒作用の本質的作用機構は現在は不明であるも
のの工業的に十分なる所期の効果を招来し得たことは本
発明において初めて明らかにせられたものであり、この
ことは実に驚くべきことであった。
物質の探索を鋭意推進する過程で見出されたものであり
、その触媒作用の本質的作用機構は現在は不明であるも
のの工業的に十分なる所期の効果を招来し得たことは本
発明において初めて明らかにせられたものであり、この
ことは実に驚くべきことであった。
本発明において使用される銅含有金属の銅含有率は1重
量%以上もあれば十分であるが、尚、好ましくは10重
量%以上のものが有利に使用され得る。
量%以上もあれば十分であるが、尚、好ましくは10重
量%以上のものが有利に使用され得る。
具体例としては燐青銅、黄銅、洋白および精製鋼等が挙
げられる。
げられる。
該銅含有金属の使用時の態様としては棒状、板状、管状
、綿状、粒状、粉床状のいずれをもこれを使用すること
ができるが、単位量あたりの表面積が犬なる形態で使用
する方が有利であることは申すまでもない。
、綿状、粒状、粉床状のいずれをもこれを使用すること
ができるが、単位量あたりの表面積が犬なる形態で使用
する方が有利であることは申すまでもない。
金属銅ないし該銅合金の使用量は比表面積にもよるが、
これが触媒的に作用するものである所からほんの極微量
で十分である。
これが触媒的に作用するものである所からほんの極微量
で十分である。
通常、該処理ガスの単位量(−)あたり0.001m2
以上もあれば十分であることが本発明者らの検討によっ
て明らかとなった。
以上もあれば十分であることが本発明者らの検討によっ
て明らかとなった。
銅含有金属は以上の様にして該反応の触媒として使用さ
れるのであるが、このことはポリα−オレフィンと銅含
有金属が直接的に接触することを要するものではない。
れるのであるが、このことはポリα−オレフィンと銅含
有金属が直接的に接触することを要するものではない。
即ちポリα−オレフィンは直接、銅含有金属と接触する
ことがあっても本発明におけるその接触態様は一過性の
ものである為、ポリα−オレフィンに対する悪影響の心
配はなく何らさしつかえないが、また敢えて必ずしも直
接的に接触させる必要があるわけではなく、該処理ガス
を通じて間接的に接触させる方法が有利に採用され得る
。
ことがあっても本発明におけるその接触態様は一過性の
ものである為、ポリα−オレフィンに対する悪影響の心
配はなく何らさしつかえないが、また敢えて必ずしも直
接的に接触させる必要があるわけではなく、該処理ガス
を通じて間接的に接触させる方法が有利に採用され得る
。
即ち、該処理ガスは、通常、ポリα−オレフィンと銅含
有金属を充填した触媒層との間を交互に接触する仕方で
循環再使用する方法が有利に採用され得る ポリα−オレフィンの該処理ガスによる接触処理時の態
様としてはポリα−オレフィンは一般に湿潤ないしほぼ
乾燥状態のものが使用される。
有金属を充填した触媒層との間を交互に接触する仕方で
循環再使用する方法が有利に採用され得る ポリα−オレフィンの該処理ガスによる接触処理時の態
様としてはポリα−オレフィンは一般に湿潤ないしほぼ
乾燥状態のものが使用される。
ポリα−オレフィンは金属のハロゲン化合物を触媒残渣
として含有するものであれば特に限定されない。
として含有するものであれば特に限定されない。
重合方法の異なるものについても特に差別がなく、例え
ばα−オレフィン自体の媒体下で重合したものなら、触
媒失活後、未反応α−オレフィンを分離したものをその
まま使用する事が可能である。
ばα−オレフィン自体の媒体下で重合したものなら、触
媒失活後、未反応α−オレフィンを分離したものをその
まま使用する事が可能である。
勿論一旦、未反応α−オレフ・fンを分離したものを再
び精製α−オレフィンあるいはその他の炭化水素類で洗
滌後それらを分離したものをも使用することができる。
び精製α−オレフィンあるいはその他の炭化水素類で洗
滌後それらを分離したものをも使用することができる。
また炭化水素媒体の存在下で溶媒重合ないし懸濁重合し
たものなら触媒失活後、単に炭化水素媒体を分離したも
のを、あるいは、必要に応じて触媒残渣の水による抽出
を行った後で炭化水素媒体を分離したものを、あるいは
精製炭化水素による洗滌を一度以上繰り返した後、洗滌
用炭化水素を分離したものを使用することができる。
たものなら触媒失活後、単に炭化水素媒体を分離したも
のを、あるいは、必要に応じて触媒残渣の水による抽出
を行った後で炭化水素媒体を分離したものを、あるいは
精製炭化水素による洗滌を一度以上繰り返した後、洗滌
用炭化水素を分離したものを使用することができる。
該処理ガスによるポリα−オレフィンの接触処理工程に
おける接触時間、接触温度はポリα−オレフィン中に含
有される触媒残渣の種類や量によって異り、−概には限
定できないが、一般的に採用され得る範囲は以下の通り
である。
おける接触時間、接触温度はポリα−オレフィン中に含
有される触媒残渣の種類や量によって異り、−概には限
定できないが、一般的に採用され得る範囲は以下の通り
である。
接触時間は10秒以上5時間以内、特に好ましくは30
秒以上1時間以内の時間が有利に採用され得る。
秒以上1時間以内の時間が有利に採用され得る。
接触温度は常温(通常25℃)以上でポリα−オレフィ
ンの融点未満の温度が採用されるか、特に好ましくはポ
リプロピレンにあっては80℃を越え150°C以下、
ポリエチレンにあっては80℃を越え110℃以下、プ
ロピレンとエチレンの共重合体にあっては80℃を越え
、110〜1500Cの範囲よりえらばれる該共重合体
の融点より10°C好ましくは20°C低い温度が使用
される。
ンの融点未満の温度が採用されるか、特に好ましくはポ
リプロピレンにあっては80℃を越え150°C以下、
ポリエチレンにあっては80℃を越え110℃以下、プ
ロピレンとエチレンの共重合体にあっては80℃を越え
、110〜1500Cの範囲よりえらばれる該共重合体
の融点より10°C好ましくは20°C低い温度が使用
される。
本発明におけるポリα−オレフィンと該処理ガスとの接
触装置は公知のものが使用されるが、該処理ガスを装置
下部から供給し、装置上部もしくは側方部よりポリα−
オレフィンを供給し、流動状態で接触させる方式、流動
乾燥機が最も一般的なものであるが、その他粉体攪拌式
(通・称パドルドライヤー)、円筒式回転乾燥機等、通
常一般に使用されている乾燥装置でもよい。
触装置は公知のものが使用されるが、該処理ガスを装置
下部から供給し、装置上部もしくは側方部よりポリα−
オレフィンを供給し、流動状態で接触させる方式、流動
乾燥機が最も一般的なものであるが、その他粉体攪拌式
(通・称パドルドライヤー)、円筒式回転乾燥機等、通
常一般に使用されている乾燥装置でもよい。
またこの他、サイロ状の竪型円筒貯槽にポリα−オレフ
ィンの一定量を貯留させた状態で貯槽下部もしくは側方
部より該処理ガスを供給し、貯槽上部よりポリα−オレ
フィンを供給し、貯槽下部より抜き出す方式の接触装置
(特願昭52−1184325号)も有利に使用され得
る。
ィンの一定量を貯留させた状態で貯槽下部もしくは側方
部より該処理ガスを供給し、貯槽上部よりポリα−オレ
フィンを供給し、貯槽下部より抜き出す方式の接触装置
(特願昭52−1184325号)も有利に使用され得
る。
本発明におけるポリα−オレフィンと接触させた該処理
ガスならびにエポキシドと触媒残渣に由来する酸性物質
との反応生成物をポリα−オレフィンから分離する方法
としては一般に蒸発分離する方法が採用される。
ガスならびにエポキシドと触媒残渣に由来する酸性物質
との反応生成物をポリα−オレフィンから分離する方法
としては一般に蒸発分離する方法が採用される。
即ち処理後のポリα−オレフィンに対して精製した不活
性ガス、例えば窒素ガスを接触させ洗滌する方式が採用
され得るが、単に新鮮な該処理ガスで洗浄する方式も採
用され得る。
性ガス、例えば窒素ガスを接触させ洗滌する方式が採用
され得るが、単に新鮮な該処理ガスで洗浄する方式も採
用され得る。
本発明におけるポリα−オレフィンと接触処理後の処理
ガスの精製に当っては通常、一般的によく使用される精
製塔でエポキシドと触媒残渣に由来する酸性物質との反
応生成物を分離することにより、或いは、水および/ま
たは液状炭化水素と接触させる方式で処理済ガス中より
該反応生成物を分離除去することにより簡単に精製され
リサイクル使用される。
ガスの精製に当っては通常、一般的によく使用される精
製塔でエポキシドと触媒残渣に由来する酸性物質との反
応生成物を分離することにより、或いは、水および/ま
たは液状炭化水素と接触させる方式で処理済ガス中より
該反応生成物を分離除去することにより簡単に精製され
リサイクル使用される。
また、この場合吸収用に使用される水および/または液
状炭化水素はアルカリを含有することが可能である。
状炭化水素はアルカリを含有することが可能である。
本発明で精製の対象とされるポリα−オレフィンはα−
オレフィンの単独重合体であってもよく、また2種以上
のα−オレフィンの共重合体であってもよく、α−オレ
フィンを主体とする、これと共重合可能な他のコモノマ
ーとの共重合体であっても特に限定されず使用すること
ができる。
オレフィンの単独重合体であってもよく、また2種以上
のα−オレフィンの共重合体であってもよく、α−オレ
フィンを主体とする、これと共重合可能な他のコモノマ
ーとの共重合体であっても特に限定されず使用すること
ができる。
次に本発明の主たる効果について列挙する。
本発明の主たる効果の第1の金属のハロゲン化合物を触
媒残渣として含有するポリα−オレフィンを常温以上で
ポリα−オレフィンの融点未満の温度においてガス状の
エポキシドで接触処理する工程において銅含有金属を触
媒残渣に由来する酸性物質のエポキシドによる不活性化
反応の触媒として使用することにより該酸性物質を少量
(或いは低濃度)のエポキシドを用いて極めて短時間の
間に不活性化し無害な形態に変えることができることで
ある。
媒残渣として含有するポリα−オレフィンを常温以上で
ポリα−オレフィンの融点未満の温度においてガス状の
エポキシドで接触処理する工程において銅含有金属を触
媒残渣に由来する酸性物質のエポキシドによる不活性化
反応の触媒として使用することにより該酸性物質を少量
(或いは低濃度)のエポキシドを用いて極めて短時間の
間に不活性化し無害な形態に変えることができることで
ある。
本発明の主たる効果の第2は以上のようにして酸性物質
の不活性化を行った際に生成する反応生成物が、比較的
低沸点である為にポリα−オレフィンからの蒸発分離が
容易であることである。
の不活性化を行った際に生成する反応生成物が、比較的
低沸点である為にポリα−オレフィンからの蒸発分離が
容易であることである。
本発明の主たる効果の第3はポリα−オレフィンの通常
の乾燥工程において以上のようにして本発明の該処理ガ
スによりポリα−オレフィンに接触処理を施すことによ
り乾燥気流中の酸性物質の濃度を著ずく低減せしめるこ
とができる結果、乾燥工程まわりあるいはそれ以降の装
置類の腐蝕を十分抑制し得ることである。
の乾燥工程において以上のようにして本発明の該処理ガ
スによりポリα−オレフィンに接触処理を施すことによ
り乾燥気流中の酸性物質の濃度を著ずく低減せしめるこ
とができる結果、乾燥工程まわりあるいはそれ以降の装
置類の腐蝕を十分抑制し得ることである。
本発明の主たる効果の第4はポリα−オレフィン中の触
媒残渣に由来する酸性物質の濃度を著しく低減せしめる
ことができる結果、押出製膜加工時の冷却ロール付着物
の発生(通常ロール汚れと称する)を抑制することがで
き、製膜作業の作業性を大幅に改善し得ることである。
媒残渣に由来する酸性物質の濃度を著しく低減せしめる
ことができる結果、押出製膜加工時の冷却ロール付着物
の発生(通常ロール汚れと称する)を抑制することがで
き、製膜作業の作業性を大幅に改善し得ることである。
本発明の主たる効果の第5はポリα−オレフィン中の酸
性物質の濃度を著しく低減せしめる事ができる結果、ポ
リα−オレフィン成形品の色相が改善される事並びに延
伸フィルムを製造した場合、透明性の著しく優れたフィ
ルムを得ることができることである。
性物質の濃度を著しく低減せしめる事ができる結果、ポ
リα−オレフィン成形品の色相が改善される事並びに延
伸フィルムを製造した場合、透明性の著しく優れたフィ
ルムを得ることができることである。
延伸フィルムの透明性はフィルム中の通常ボイドと称す
る微少気泡の多少によって左右される。
る微少気泡の多少によって左右される。
以下、実施例により、さらに詳細に説明するが、本発明
はこれにより不当に拘束されるものではない。
はこれにより不当に拘束されるものではない。
実施例1〜3、比較例1〜2
触媒として市販の三塩化チタン(は”;TiC/、・3
Al、C13の組成を有する)5gとジェルアルミニウ
ムクロライド6gとを使用して50tオートクレーヴに
プロピレンを30kg/iG圧に仕込み、気相水素濃度
10%、温度60°Cの条件下で6時間重合反応を行っ
た。
Al、C13の組成を有する)5gとジェルアルミニウ
ムクロライド6gとを使用して50tオートクレーヴに
プロピレンを30kg/iG圧に仕込み、気相水素濃度
10%、温度60°Cの条件下で6時間重合反応を行っ
た。
反応終了後1−ブタノール20m1を投入し、触媒失活
後、スラリーを済過器付加圧容器に導き、一旦未反応プ
ロピレンを加圧下で炉別した。
後、スラリーを済過器付加圧容器に導き、一旦未反応プ
ロピレンを加圧下で炉別した。
次いで、精製プロピレンヲ30kg/論G圧下に15k
y導入し、65℃で30分間攪拌後プロピレンを加圧下
で炉別し、次いで蒸発除去してほぼ乾燥状態の淡紫色を
有する結晶性ポリプロピレン4−を得た。
y導入し、65℃で30分間攪拌後プロピレンを加圧下
で炉別し、次いで蒸発除去してほぼ乾燥状態の淡紫色を
有する結晶性ポリプロピレン4−を得た。
この淡紫色ポリプロピレンパウダー0.5 kgを第1
図記載の触媒充填塔(内径5CrfLφ、第1表記載の
触媒金属充填層高5 cm )とループを形成した内径
20cIrL1高さ50Crnの流動乾燥機に投入し、
第1表記載の組成の該処理ガスにより所定温度で所定時
間接触処理を施した後50℃で減圧乾燥して結晶性ポリ
プロピレンパウダーを回収した。
図記載の触媒充填塔(内径5CrfLφ、第1表記載の
触媒金属充填層高5 cm )とループを形成した内径
20cIrL1高さ50Crnの流動乾燥機に投入し、
第1表記載の組成の該処理ガスにより所定温度で所定時
間接触処理を施した後50℃で減圧乾燥して結晶性ポリ
プロピレンパウダーを回収した。
この結晶性ポリプロピレンパウダーを135℃、テトラ
リン中で測定した極限粘度は2.3で、アイソタクチッ
ク部分は98%であった。
リン中で測定した極限粘度は2.3で、アイソタクチッ
ク部分は98%であった。
この結晶性ポリプロピレンパウダー100gに対して抗
酸化剤として2,6−ジーt−ブチル4−メチルフェノ
ールを0.2g1ステアリン酸カルシウム0.1gを加
えたあと、ミキサーで充分混合し、研究用プラストグラ
フ(ローラー混練りイプ、容積60mのにて温度190
℃、回転数5Qrpluで5分間混練後浴融物を切断し
放冷してポリプロピレンペットを得た。
酸化剤として2,6−ジーt−ブチル4−メチルフェノ
ールを0.2g1ステアリン酸カルシウム0.1gを加
えたあと、ミキサーで充分混合し、研究用プラストグラ
フ(ローラー混練りイプ、容積60mのにて温度190
℃、回転数5Qrpluで5分間混練後浴融物を切断し
放冷してポリプロピレンペットを得た。
得られたペットをホットプレス(プレス温度220℃)
にて300μの厚み(プレスシートAと称する)および
2關の厚み(プレスシートBと称する)に溶融後40℃
で急冷してプレスシートを作成した。
にて300μの厚み(プレスシートAと称する)および
2關の厚み(プレスシートBと称する)に溶融後40℃
で急冷してプレスシートを作成した。
プレスシートBから5ommφの円形サンプルを打ちぬ
き螢光X線分析機にかけ、(FX分析と称する)ポリプ
ロピレン中の残留塩素濃度苦曇を測定し、結果を第1表
に示した。
き螢光X線分析機にかけ、(FX分析と称する)ポリプ
ロピレン中の残留塩素濃度苦曇を測定し、結果を第1表
に示した。
次にプレスシートAを延伸原反とし、若木製作所製研究
用二軸延伸機により延伸温度120℃、延伸倍率4×4
倍で同時二軸延伸して厚さ約15μの延伸フィルムを作
成した。
用二軸延伸機により延伸温度120℃、延伸倍率4×4
倍で同時二軸延伸して厚さ約15μの延伸フィルムを作
成した。
この延伸フィルムICI?Lあたりの直径10μ以上の
ボイド数を光学顕微鏡の位相差法(ブライトコントラス
ト、倍率100倍)により計数し、厚さ15μあたりに
換算した結果を第1表に示した。
ボイド数を光学顕微鏡の位相差法(ブライトコントラス
ト、倍率100倍)により計数し、厚さ15μあたりに
換算した結果を第1表に示した。
次にプレスシートBを50mmφに打ちぬいたものをサ
ンプルとし、これを日本重色工業KK製色差計にかけて
色相を測定した。
ンプルとし、これを日本重色工業KK製色差計にかけて
色相を測定した。
ポリプロピレンの色相は黄色の着色度で代表されること
ができ、このメジャーとしてb値があるが、その数値が
大きい程着色度が犬であり、数値が小さい程着色が小で
無色に近いと言える。
ができ、このメジャーとしてb値があるが、その数値が
大きい程着色度が犬であり、数値が小さい程着色が小で
無色に近いと言える。
その結果を第1表に示した。
一方、ペレットの一部を粉砕しn−へブタンで抽出し、
ガスクロマトグラフィーでステアリン酸カルシウムが分
解して生成するステアリン酸の量を測定し残存した活性
塩素の尺度とした。
ガスクロマトグラフィーでステアリン酸カルシウムが分
解して生成するステアリン酸の量を測定し残存した活性
塩素の尺度とした。
その結果を第1表1こ示した。実施例4〜6、比較例3
〜4 溶媒としてヘプタン16t1触媒として市販の三塩化チ
タン5gとジエチルアルミニウムクロライド6gとを使
用し、分子量調節剤として水素を6に!91cyiiG
下で550招lを50tオートクレーヴに仕込み、プロ
ピレンを70℃、9kg/iG下で6時間導入し重合し
てポリプロピレンの重合ヘプタンスラリーを得た。
〜4 溶媒としてヘプタン16t1触媒として市販の三塩化チ
タン5gとジエチルアルミニウムクロライド6gとを使
用し、分子量調節剤として水素を6に!91cyiiG
下で550招lを50tオートクレーヴに仕込み、プロ
ピレンを70℃、9kg/iG下で6時間導入し重合し
てポリプロピレンの重合ヘプタンスラリーを得た。
次に1−ブタノール500Mを投入し70’Cで1.5
時間攪拌して触媒失活後スラリーを濾過器付加圧容器に
導き可溶性ポリプロピレンを含むヘプタン相を炉別した
。
時間攪拌して触媒失活後スラリーを濾過器付加圧容器に
導き可溶性ポリプロピレンを含むヘプタン相を炉別した
。
次いで、精製へブタンを167加え65℃で0.5時間
攪拌後再びヘプタン相を炉別しポリプロピレンのへブタ
ンケーキ約4kgを得た。
攪拌後再びヘプタン相を炉別しポリプロピレンのへブタ
ンケーキ約4kgを得た。
このポリプロピレンケーキ(約30%のへブタンを含む
ポリプロピレンパウダー)O565kgを実施例1〜5
、比較例1〜2と同じ触媒充填塔とループを形成した流
動乾燥機に投入し、第2表記載の該処理ガスにより所定
温度の下で、所定時間、接触処理を施した後、50℃で
減圧乾燥して結晶性ポリプロピレンパウダーを回収した
。
ポリプロピレンパウダー)O565kgを実施例1〜5
、比較例1〜2と同じ触媒充填塔とループを形成した流
動乾燥機に投入し、第2表記載の該処理ガスにより所定
温度の下で、所定時間、接触処理を施した後、50℃で
減圧乾燥して結晶性ポリプロピレンパウダーを回収した
。
苦蕾
このポリプロピレンパウダーを135℃テトラリン中で
測定した。
測定した。
極限粘度は2.1でアイソタクチック部分は98%であ
った。
った。
以下、実施例1〜3、比較例1〜2と同様の処理を施し
て評価した結果を第2表に示した。
て評価した結果を第2表に示した。
実施例7〜9、比較例5〜6
1−ブクノール投入による触媒失活処理までは実施例6
〜10.比較例5〜8記載の操作を施して得られたポリ
プロピレンのへブタンスラリーに純水16.Cを添加し
て60℃で2時間攪拌した。
〜10.比較例5〜8記載の操作を施して得られたポリ
プロピレンのへブタンスラリーに純水16.Cを添加し
て60℃で2時間攪拌した。
静置すると上層はポリプロピレンのへブタンスラリーで
あり、下層は水相からなる上下二層に分離した。
あり、下層は水相からなる上下二層に分離した。
下層を分離後再び純水167を添加して60℃で0.5
時間攪拌した。
時間攪拌した。
水相を分離し、次いで、可溶性ポリプロピレンを含むヘ
プタン相を炉別しポリプロピレンのへブタンケーキ約4
kgを得た。
プタン相を炉別しポリプロピレンのへブタンケーキ約4
kgを得た。
このポリプロピレンケーキ(約30%のヘプタンを含む
ポリプロピレンパウダー)0.65kgを実施例1〜5
、比較例1〜4と同じ触媒充填塔とループを形成した流
動乾燥機に投入し、第3表記載の組成の該処理ガスによ
り所定温度のもとで、所定時間接触処理した後、50’
Cで減圧乾燥して、結晶性ポリプロピレンパウダーを回
収した。
ポリプロピレンパウダー)0.65kgを実施例1〜5
、比較例1〜4と同じ触媒充填塔とループを形成した流
動乾燥機に投入し、第3表記載の組成の該処理ガスによ
り所定温度のもとで、所定時間接触処理した後、50’
Cで減圧乾燥して、結晶性ポリプロピレンパウダーを回
収した。
このポリプロピレンパウダーを135℃テトラリン中で
測定した極限粘度は2.1でアイソタクチック部分は9
8%であった。
測定した極限粘度は2.1でアイソタクチック部分は9
8%であった。
以下、実施例1〜3、比較例1〜2と同様の処理を施し
て評価した結果を第3表に示した。
て評価した結果を第3表に示した。
実施例10〜12、比較例7〜8
溶媒としてヘプタン16t1触媒として市販の三塩化チ
タン5!1とジエチルアルミニウムクロライド6gとを
使用し、分子量調節剤として水素を6 ky/crrt
、G下で550rul:、次いで、プロピレンとエチレ
ン(エチレンは60℃、 9kg/Cr?L−G圧下で
の全導入量が5tとなるよう導入量を平均して制御する
。
タン5!1とジエチルアルミニウムクロライド6gとを
使用し、分子量調節剤として水素を6 ky/crrt
、G下で550rul:、次いで、プロピレンとエチレ
ン(エチレンは60℃、 9kg/Cr?L−G圧下で
の全導入量が5tとなるよう導入量を平均して制御する
。
)とを50tオートクレーヴに仕込み、600C29k
g/d−G下で6時間にわたって導入し、プロピレン−
エチレンコポリマーの重合ヘプタンスラリーを得た。
g/d−G下で6時間にわたって導入し、プロピレン−
エチレンコポリマーの重合ヘプタンスラリーを得た。
次に1−ブタノール500−を投入し、70℃で1.5
時間攪拌して触媒失活した後、純水16tを添加して6
0°Cで2時間攪拌し、静置後下層の水相を分離し、再
び純水16tを添加して60’Cで0.5時間攪拌し、
静置後下層の水相を分離した。
時間攪拌して触媒失活した後、純水16tを添加して6
0°Cで2時間攪拌し、静置後下層の水相を分離し、再
び純水16tを添加して60’Cで0.5時間攪拌し、
静置後下層の水相を分離した。
次いて可溶性ポリプロビレ(注1)ND二1m以下
ンを含むヘプタン相を炉別しプロピレン−エチレンコポ
リマーのへブタンケーキ約4kgを得た。
リマーのへブタンケーキ約4kgを得た。
このヘプタンケーキ(約40%のへブタンを含む)0.
7kgを実施例1〜3、比較例1〜2と同じ触媒充填塔
とループを形成した流動乾燥機に投入し、第4表記載の
組成の該処理ガスにより所定温度のもとで、所定時間接
触処理した後、50℃で減圧乾燥シてプロピレン−エチ
レンコポリマーパウダーを回収した。
7kgを実施例1〜3、比較例1〜2と同じ触媒充填塔
とループを形成した流動乾燥機に投入し、第4表記載の
組成の該処理ガスにより所定温度のもとで、所定時間接
触処理した後、50℃で減圧乾燥シてプロピレン−エチ
レンコポリマーパウダーを回収した。
このプロピレン−エチレンコポリマーパラターを135
℃、テトラリン中で測定したところ極限粘度は2.6で
アイソタクチック部分は92%であり、赤外線吸収スペ
クトル法による分析の結果得られたエチレン含有量は4
.0重量%であった。
℃、テトラリン中で測定したところ極限粘度は2.6で
アイソタクチック部分は92%であり、赤外線吸収スペ
クトル法による分析の結果得られたエチレン含有量は4
.0重量%であった。
以下、実施例1〜3、比較例1〜2と同様の処理を施し
て評価した結果を第4表に示した。
て評価した結果を第4表に示した。
第1図は本発明の精製方法を実施するための概略工程図
を示す。 1・・・・・・触媒充填塔、2・・・・・・触媒金属充
填層、3・・・・・・送風機、4・・・・・・流動乾燥
機、5・・・・・・加熱部、6・・・・・・分離機、7
〜11・・・・・・配管、12・・・・・・窒素および
エポキシド供給部。
を示す。 1・・・・・・触媒充填塔、2・・・・・・触媒金属充
填層、3・・・・・・送風機、4・・・・・・流動乾燥
機、5・・・・・・加熱部、6・・・・・・分離機、7
〜11・・・・・・配管、12・・・・・・窒素および
エポキシド供給部。
Claims (1)
- 1 ハロゲン含有金属触媒残渣を含むポリα−オレフィ
ンを常温以上でポリα−オレフィンの融点未満の温度(
こおいてガス状のエポキシドで接触処理する工程におい
て銅含有金属を触媒残渣に由来する酸性物質のエポキシ
ドによる不活性化反応の触媒として使用することを特徴
とするポリα−オレフィンの精製法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP8234978A JPS5856522B2 (ja) | 1978-07-05 | 1978-07-05 | ポリα↓−オレフィンの精製法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP8234978A JPS5856522B2 (ja) | 1978-07-05 | 1978-07-05 | ポリα↓−オレフィンの精製法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS559653A JPS559653A (en) | 1980-01-23 |
JPS5856522B2 true JPS5856522B2 (ja) | 1983-12-15 |
Family
ID=13772081
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP8234978A Expired JPS5856522B2 (ja) | 1978-07-05 | 1978-07-05 | ポリα↓−オレフィンの精製法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS5856522B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7601255B2 (en) | 2006-09-06 | 2009-10-13 | Chemtura Corporation | Process for removal of residual catalyst components |
-
1978
- 1978-07-05 JP JP8234978A patent/JPS5856522B2/ja not_active Expired
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS559653A (en) | 1980-01-23 |
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