JPS5853522B2 - 弾性表面波素子の製造方法 - Google Patents
弾性表面波素子の製造方法Info
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- JPS5853522B2 JPS5853522B2 JP8897279A JP8897279A JPS5853522B2 JP S5853522 B2 JPS5853522 B2 JP S5853522B2 JP 8897279 A JP8897279 A JP 8897279A JP 8897279 A JP8897279 A JP 8897279A JP S5853522 B2 JPS5853522 B2 JP S5853522B2
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- JP
- Japan
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- electrode terminal
- transducer
- acoustic wave
- surface acoustic
- manufacturing
- Prior art date
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-
- H—ELECTRICITY
- H03—ELECTRONIC CIRCUITRY
- H03H—IMPEDANCE NETWORKS, e.g. RESONANT CIRCUITS; RESONATORS
- H03H3/00—Apparatus or processes specially adapted for the manufacture of impedance networks, resonating circuits, resonators
- H03H3/007—Apparatus or processes specially adapted for the manufacture of impedance networks, resonating circuits, resonators for the manufacture of electromechanical resonators or networks
- H03H3/08—Apparatus or processes specially adapted for the manufacture of impedance networks, resonating circuits, resonators for the manufacture of electromechanical resonators or networks for the manufacture of resonators or networks using surface acoustic waves
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- Physics & Mathematics (AREA)
- Acoustics & Sound (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Surface Acoustic Wave Elements And Circuit Networks Thereof (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は弾性表面波素子の圧電基板チップを製造する方
法の改善に関する。
法の改善に関する。
圧電基板上に少なくとも一対の入カドランスジューサと
出カドランスジューサを対向して形成し、前記入カドラ
ンスジューサに信号電圧を印加して弾性波を発生させ、
該弾性波を人力した前記出カドランスジューサがそれを
電気信号ｌこ変換して出力する弾性表面波素子は、超高
周波超音波技術・圧電単結晶育成加工技術及び微細パタ
ーン作成技術の展開により、通信工学的な立場から注目
されている。
出カドランスジューサを対向して形成し、前記入カドラ
ンスジューサに信号電圧を印加して弾性波を発生させ、
該弾性波を人力した前記出カドランスジューサがそれを
電気信号ｌこ変換して出力する弾性表面波素子は、超高
周波超音波技術・圧電単結晶育成加工技術及び微細パタ
ーン作成技術の展開により、通信工学的な立場から注目
されている。
第１図に、代表的弾性表面波素子の一つである弾性表面
波フィルタの基本的主要構造を示す。
波フィルタの基本的主要構造を示す。
図において、圧電材からなる基板１の表面には、導体か
らなる一対のすだれ状入カドランスジューサ２とすだれ
秋田カドランスジューサ３と、前記入カドランスジュー
サ２及び３に対応するところの導体からなる電極端子４
と、前記入出カドランスジューサ２及び３を前記電極端
子４に接続する導体５を形成したフィルタチップ６は、
絶縁材からなる容器基板７に搭載される。
らなる一対のすだれ状入カドランスジューサ２とすだれ
秋田カドランスジューサ３と、前記入カドランスジュー
サ２及び３に対応するところの導体からなる電極端子４
と、前記入出カドランスジューサ２及び３を前記電極端
子４に接続する導体５を形成したフィルタチップ６は、
絶縁材からなる容器基板７に搭載される。
容器基板７には、フィルタチップ６の電極端子４にそれ
ぞれ対応する複数の導体バッド８が形成してあり、該導
体バラ＋゛８には外部リード端子９を固着すると共に、
導体ワイヤ１０を介して、電極端子４と接続されている
。
ぞれ対応する複数の導体バッド８が形成してあり、該導
体バラ＋゛８には外部リード端子９を固着すると共に、
導体ワイヤ１０を介して、電極端子４と接続されている
。
然る後、図示しない容器カバーを容器基板７に固着して
、フィルタチップ６が容器内に封入される。
、フィルタチップ６が容器内に封入される。
このようなフィルタチップ６は、通常数量程度の大きさ
であり、直径数の程度の圧電材からなるウェーハより複
数個を同時作製している。
であり、直径数の程度の圧電材からなるウェーハより複
数個を同時作製している。
その主要工程は、従来、捷ず圧電ウェー・・上にアルミ
ニウム等のトランスジューサ形成材からなる膜を被着し
、ついで前記トランスジューサ形成材膜をホトリソグラ
フィによって選択的に除去して入出カドランスジューサ
２と３及び接続導体５を形成し、金や銅等の電極端子形
成材をリフト・オフ法又はマスク蒸着法等によって選択
的に被着して電極端子４を形成していた。
ニウム等のトランスジューサ形成材からなる膜を被着し
、ついで前記トランスジューサ形成材膜をホトリソグラ
フィによって選択的に除去して入出カドランスジューサ
２と３及び接続導体５を形成し、金や銅等の電極端子形
成材をリフト・オフ法又はマスク蒸着法等によって選択
的に被着して電極端子４を形成していた。
そのため、電極端子４を形成する際には、予め充分な洗
滌工程を経るに掛わらず、前工程における微視的汚染の
残ることがあり、該残余汚染は電極端子４の密着性を損
う欠点があった。
滌工程を経るに掛わらず、前工程における微視的汚染の
残ることがあり、該残余汚染は電極端子４の密着性を損
う欠点があった。
本発明の目的は上記欠点を除去することであり、この目
的は、圧電基板上にトランスジューサ形成材を被膜する
工程、前記トランスジューサ形成膜上に電極端子形成材
を所要間隔の縞状に被膜する工程、露出する前記トラン
スジューサ形成膜を選択的に除去してトランスジューサ
を形成する工程、前記電極端子形成膜を選択的に除去し
て電極端子を形成する工程を順次含むことを特徴とする
弾性表面波素子の製造方法を提供して達成される。
的は、圧電基板上にトランスジューサ形成材を被膜する
工程、前記トランスジューサ形成膜上に電極端子形成材
を所要間隔の縞状に被膜する工程、露出する前記トラン
スジューサ形成膜を選択的に除去してトランスジューサ
を形成する工程、前記電極端子形成膜を選択的に除去し
て電極端子を形成する工程を順次含むことを特徴とする
弾性表面波素子の製造方法を提供して達成される。
以下、図面を用いて本発明の一実施例を説明する。
第２図〜第５図は、本発明による方法を用いて第１図に
示すフィルタチップ６を作製する主要工程を示す。
示すフィルタチップ６を作製する主要工程を示す。
ただし、第２図と第３図のａ図及び第４図及び第５図は
、各工程処理を施した圧電材ウェーハの平面図であり１
第２図と第３図のｂ図は、それぞれのａ図の断面図であ
る。
、各工程処理を施した圧電材ウェーハの平面図であり１
第２図と第３図のｂ図は、それぞれのａ図の断面図であ
る。
１ず、第２図において、圧電材例えばニオブ酸リチウム
（ＬｉＴａ０８）の単結晶を焼鈍、分極操作の後に切断
、研摩してなるウェーハ１１の上面には、例えば導電性
に優れた軽金属であるアルミニウムからなる入出カドラ
ンスジューサ形成膜１２を被着する。
（ＬｉＴａ０８）の単結晶を焼鈍、分極操作の後に切断
、研摩してなるウェーハ１１の上面には、例えば導電性
に優れた軽金属であるアルミニウムからなる入出カドラ
ンスジューサ形成膜１２を被着する。
ついで第３図において、入出カドランスジューサ形成Ｊ
［１２の上には、例えばニッケルクローム又はクローム
の蒸着膜に金又は銅の蒸着膜を積層してなる電極端子形
成膜１３を、所要幅と所要間隔の縞状に被着する。
［１２の上には、例えばニッケルクローム又はクローム
の蒸着膜に金又は銅の蒸着膜を積層してなる電極端子形
成膜１３を、所要幅と所要間隔の縞状に被着する。
ただし、前記所要幅は、第１図の電極端子４の上下方向
幅と同じ又はやや広い幅とし、前記所要間隔は、第１図
の入出カドランスジューサ２及び３の上下方向幅と、導
体５を形成するための幅と、ウェーハ１１をフィルタチ
ップ６に切断するための幅を加算した値と同程度の寸法
とする。
幅と同じ又はやや広い幅とし、前記所要間隔は、第１図
の入出カドランスジューサ２及び３の上下方向幅と、導
体５を形成するための幅と、ウェーハ１１をフィルタチ
ップ６に切断するための幅を加算した値と同程度の寸法
とする。
ついで第４図において、トランスジューサ形成膜１２の
露出部分をホトリングラフィによって選択的に除去し、
第１図に示す如く、互に入り組んだすだれ状の入出カド
ランスジューサ２及び３並びに接続導体５を形成する。
露出部分をホトリングラフィによって選択的に除去し、
第１図に示す如く、互に入り組んだすだれ状の入出カド
ランスジューサ２及び３並びに接続導体５を形成する。
ついで第５図に訃いて、電極端子形成膜１３をホトリソ
グラフィによって選択的に除去し、前工程で形成された
接続導体５の一端に接続す電極端子４を形成する。
グラフィによって選択的に除去し、前工程で形成された
接続導体５の一端に接続す電極端子４を形成する。
然る後、第５図に一点鎖線１４で示す如く、ウェーハ１
１を切断して、複数のフィルタチップ６を得る。
１を切断して、複数のフィルタチップ６を得る。
以上説明したように、本発明による弾性表面波素子の製
造方法は、１ず必要な被膜工程を連続して実施した後、
その選択的除去工程を連続して遂次実施するため、被膜
間の密着性が向上して製品の信頼度を高めたと共に、工
程間流れが単純化し、所要パターンを形成するためのマ
スク合せが容易になった経済効果がある。
造方法は、１ず必要な被膜工程を連続して実施した後、
その選択的除去工程を連続して遂次実施するため、被膜
間の密着性が向上して製品の信頼度を高めたと共に、工
程間流れが単純化し、所要パターンを形成するためのマ
スク合せが容易になった経済効果がある。
第１図は弾性表面波フィルタの構造概要図、第２図〜第
５図は本発明の一実施例における弾性表面波フィルタチ
ップの主要工程説明図。 １・・・・・・圧電基板、２・・・・・・入カドランス
ジューサ、３・・・・・・出カドランスジューサ、４・
・・・・・電極端子、５・・・・・・接続導体、６・・
・・・・フィルタチップ。
５図は本発明の一実施例における弾性表面波フィルタチ
ップの主要工程説明図。 １・・・・・・圧電基板、２・・・・・・入カドランス
ジューサ、３・・・・・・出カドランスジューサ、４・
・・・・・電極端子、５・・・・・・接続導体、６・・
・・・・フィルタチップ。
Claims (1)
- １ 圧電基板上に少なぐとも一対の入カドランスジュー
サ出カドトランスジューサ及び前記入出カドランスジュ
ーサに導体接続した電極端子を形成してなる弾性表面波
素子において、前記圧電基板上にトランスジューサ形成
材を被膜する工程、前記トランスジューサ形成膜上に電
極端子形成材を所要間隔の縞状に被膜する工程、露出す
る前記トランスジューサ形成材膜を選択的に除去して前
記トランスジューサ及び前記導体を形成する工程、前記
電極端子形成膜を選択的に除去して前囮電極端子を形成
する工程を順次含むことを特徴とする弾性表面波素子の
製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8897279A JPS5853522B2 (ja) | 1979-07-13 | 1979-07-13 | 弾性表面波素子の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8897279A JPS5853522B2 (ja) | 1979-07-13 | 1979-07-13 | 弾性表面波素子の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5613818A JPS5613818A (en) | 1981-02-10 |
| JPS5853522B2 true JPS5853522B2 (ja) | 1983-11-30 |
Family
ID=13957720
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8897279A Expired JPS5853522B2 (ja) | 1979-07-13 | 1979-07-13 | 弾性表面波素子の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5853522B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE3687783D1 (de) * | 1985-12-05 | 1993-03-25 | Siemens Ag | Oberflaechenwellenbauelement. |
-
1979
- 1979-07-13 JP JP8897279A patent/JPS5853522B2/ja not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5613818A (en) | 1981-02-10 |
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