JPS5853019A - 磁気ヘツドの製造方法 - Google Patents
磁気ヘツドの製造方法Info
- Publication number
- JPS5853019A JPS5853019A JP15074081A JP15074081A JPS5853019A JP S5853019 A JPS5853019 A JP S5853019A JP 15074081 A JP15074081 A JP 15074081A JP 15074081 A JP15074081 A JP 15074081A JP S5853019 A JPS5853019 A JP S5853019A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- film
- soft magnetic
- head
- magnetic
- substrate
- Prior art date
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- Pending
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/31—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive using thin films
- G11B5/3103—Structure or manufacture of integrated heads or heads mechanically assembled and electrically connected to a support or housing
Landscapes
- Magnetic Heads (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は磁気ヘッドの製造方法にかかわり、特に、高保
磁力テープに対して好適な磁気ヘッドの製造方法に関す
るものである。
磁力テープに対して好適な磁気ヘッドの製造方法に関す
るものである。
従来ＶＴＲヘッドとしては、フエ・ライトコア１ヲ用い
た第１図（Ａ）〜（Ｃ）のような形状のものが考案・実
用化されてきたが１記録の高密度化をねらった高保磁力
テープに対しては、コアの飽和磁束密度の低さが原因し
て十分カ配縁特性の向上が望めなくなり、第２図に示す
ような高飽和磁束密度の軟磁性膜８を応用したヘッドが
考案された。しかしこのヘッドでは、上記軟磁性膜８を
付着させる非磁性基板７の厚さが原因してテープタッチ
が悪くなり、ヘッド特性の劣化を招くという問題を抱え
ている。この問題は、上記ヘッドのテープ摺動部の厚さ
が２００μｍ程度であれば避けることができるが、上記
基板を上述のごとくあまり薄くすると、軟磁性膜を形成
するときの応力で基板が反りやすくなり、ヘッド化プロ
セスでのトラブルの原因となり１歩留まりを低化させる
。従って、テープ摺動部のみを２００μｍ程度にしなけ
れ、ばならない。この加工方法としては、第１、図（Ａ
）に用いた加工方法（第６図）の応用が考えられるが、
この加工方法は、加工が各ヘッドチップごとに行われる
こと、また基板と軟磁性膜、との境界部に対しては加工
刃の横ぶれにより軟磁性膜の剥離や基板割れなどのトラ
ブルを引き起こすこと、などの問題がある。
た第１図（Ａ）〜（Ｃ）のような形状のものが考案・実
用化されてきたが１記録の高密度化をねらった高保磁力
テープに対しては、コアの飽和磁束密度の低さが原因し
て十分カ配縁特性の向上が望めなくなり、第２図に示す
ような高飽和磁束密度の軟磁性膜８を応用したヘッドが
考案された。しかしこのヘッドでは、上記軟磁性膜８を
付着させる非磁性基板７の厚さが原因してテープタッチ
が悪くなり、ヘッド特性の劣化を招くという問題を抱え
ている。この問題は、上記ヘッドのテープ摺動部の厚さ
が２００μｍ程度であれば避けることができるが、上記
基板を上述のごとくあまり薄くすると、軟磁性膜を形成
するときの応力で基板が反りやすくなり、ヘッド化プロ
セスでのトラブルの原因となり１歩留まりを低化させる
。従って、テープ摺動部のみを２００μｍ程度にしなけ
れ、ばならない。この加工方法としては、第１、図（Ａ
）に用いた加工方法（第６図）の応用が考えられるが、
この加工方法は、加工が各ヘッドチップごとに行われる
こと、また基板と軟磁性膜、との境界部に対しては加工
刃の横ぶれにより軟磁性膜の剥離や基板割れなどのトラ
ブルを引き起こすこと、などの問題がある。
本発明の目的は、上述の従来技術が有していた問題点を
解決し２歩留まり良く、高保磁力テープに対しても優れ
た記録特性を発揮する磁気テープの製造方法を提供する
にある。本発明は、上記目的を達成するため、軟磁性膜
を付着・加工した非磁性基板の裏面からテープ摺動部と
なる部分の厚さが２００μｍ程度となるようにスライシ
ングマシンにより溝切り加工を施し、ついでヘッドチッ
プを切り出すことを要点とするもので、これにより軟磁
性膜の剥離もなく０歩留まり良く、同一基板上で多数個
分のヘッドチップの加工を可能としたものである。
解決し２歩留まり良く、高保磁力テープに対しても優れ
た記録特性を発揮する磁気テープの製造方法を提供する
にある。本発明は、上記目的を達成するため、軟磁性膜
を付着・加工した非磁性基板の裏面からテープ摺動部と
なる部分の厚さが２００μｍ程度となるようにスライシ
ングマシンにより溝切り加工を施し、ついでヘッドチッ
プを切り出すことを要点とするもので、これにより軟磁
性膜の剥離もなく０歩留まり良く、同一基板上で多数個
分のヘッドチップの加工を可能としたものである。
以下、第４図（Ａ）〜（Ｆ）を用いて本発明による磁気
ヘッドの製造方法の具体的な一実施例について説明する
。まず、厚さが１履程度の鏡面加工した非磁性基板１５
に真空蒸着あるいはスノぐツタリング法によりトラック
幅寸法に等しい膜厚の第１の軟磁性膜１６を付着せしめ
、多数のギャップ面１７を側面とする綾差あるいは溝加
工を施す（同図（Ａ））。なお、軟磁性膜１６は、膜作
成時にギャップ面１７を側面として有する段差が設けら
れたものでもよい。次に、ギャップスペーサ膜１８を所
定の厚さ付着させ、しかる後第２の軟磁性膜１９を付着
させる（同図（Ｂ））。次に。
ヘッドの製造方法の具体的な一実施例について説明する
。まず、厚さが１履程度の鏡面加工した非磁性基板１５
に真空蒸着あるいはスノぐツタリング法によりトラック
幅寸法に等しい膜厚の第１の軟磁性膜１６を付着せしめ
、多数のギャップ面１７を側面とする綾差あるいは溝加
工を施す（同図（Ａ））。なお、軟磁性膜１６は、膜作
成時にギャップ面１７を側面として有する段差が設けら
れたものでもよい。次に、ギャップスペーサ膜１８を所
定の厚さ付着させ、しかる後第２の軟磁性膜１９を付着
させる（同図（Ｂ））。次に。
第２の軟磁性膜１９の不要部分を研摩やエツチング等の
手法で除去し、所定のトラック幅寸法に仕上げられた動
作ギャップ２０とヘッド磁路を多数個形成する。次に、
上記加工を施された軟磁性膜１６．１９の上に、耐摩耗
性に優れた非磁性材質の０．１謬程度の薄板を接着する
か、あるいは高速スパッタリング、蒸着、プラズマ溶射
等の方法で２０μｍ以上の非磁性厚膜２１を付着させ、
所定位置に巻線窓穴２２を超音波加工であける（同図（
Ｃ））。
手法で除去し、所定のトラック幅寸法に仕上げられた動
作ギャップ２０とヘッド磁路を多数個形成する。次に、
上記加工を施された軟磁性膜１６．１９の上に、耐摩耗
性に優れた非磁性材質の０．１謬程度の薄板を接着する
か、あるいは高速スパッタリング、蒸着、プラズマ溶射
等の方法で２０μｍ以上の非磁性厚膜２１を付着させ、
所定位置に巻線窓穴２２を超音波加工であける（同図（
Ｃ））。
次に、基板裏面を上にしてスライシングマシン（図示せ
ず）にセットし、所定厚さのスライシング刃２３を用い
て、テープ摺動部から巻線窓ｉ穴２２までの、基板の厚
さが２００′μｍ以下となるように溝加工を施し、すべ
ての加工溝２４を形成する（同図（Ｄ））。次に、刃を
板体切断の位置まで落とし、まず上記加工溝２４に平行
に１次に加工溝２４に直角な切断部２５に沿って、板体
を切断し、ヘッドチップ２６を切り出す（同図（Ｅ）（
Ｆ））。なお、この場合、加工溝２４の加工と。
ず）にセットし、所定厚さのスライシング刃２３を用い
て、テープ摺動部から巻線窓ｉ穴２２までの、基板の厚
さが２００′μｍ以下となるように溝加工を施し、すべ
ての加工溝２４を形成する（同図（Ｄ））。次に、刃を
板体切断の位置まで落とし、まず上記加工溝２４に平行
に１次に加工溝２４に直角な切断部２５に沿って、板体
を切断し、ヘッドチップ２６を切り出す（同図（Ｅ）（
Ｆ））。なお、この場合、加工溝２４の加工と。
溝に平行な板体の切断とを交互に行ってもよい。
上記のように切り出されたヘッドチップ２６をヘッド支
持板（図示せず）に貼り付け、コイル（図示せず）を巻
き、テープ摺動面力ｑ工を施して、磁気ヘッドが完成す
る。
持板（図示せず）に貼り付け、コイル（図示せず）を巻
き、テープ摺動面力ｑ工を施して、磁気ヘッドが完成す
る。
以上説明したように１本発明の磁気ヘッドの製造方法に
よれば、従来のヘッド加工技術に比較してはるかに多数
のへラドチップを同時に加工し。
よれば、従来のヘッド加工技術に比較してはるかに多数
のへラドチップを同時に加工し。
かつテープ摺動部の基板の薄肉化が可能となり。
従来技術におけるトラブル発生も避けることが可能とな
る。
る。
第１図（Ａ）〜（０）はそれぞれフェライトコアを用い
た従来のＶＴＲ用磁気ヘッドの斜視図。 第２図は軟磁性膜を用いた磁気ヘッドの斜視図。 第５図は第１図（Ａ）の磁気ヘッドの加工方法を示す説
明図、第４図（Ａ）〜（Ｆ）は本発明による磁気ヘッド
の製造方法で軟磁性膜を用いたヘッドを加工する工程を
示す説明図である。 符号の説明 １・・・フェライトコア ７・・・非磁性基板８・・
・軟磁性膜 １５・・・非磁性基板１６・・・軟
゛磁性膜 １７・・・ギャップ面１８・・・ギャ
ップスペーサ膜 １９・・・軟磁性膜 ２０・・・動作ギャップ２
１・・・非磁性厚膜 ２２・・・巻線窓穴２３・・
・スライシング刃 ２４・・・加工溝２５・・・切断部
２６・・・ヘッドチップ代理人弁理士 中村
純之助 第１ 醜 （Ａ） （Ｂ） （Ｃ） １’２ｆｉ 第３図 図 （Ｆ）
た従来のＶＴＲ用磁気ヘッドの斜視図。 第２図は軟磁性膜を用いた磁気ヘッドの斜視図。 第５図は第１図（Ａ）の磁気ヘッドの加工方法を示す説
明図、第４図（Ａ）〜（Ｆ）は本発明による磁気ヘッド
の製造方法で軟磁性膜を用いたヘッドを加工する工程を
示す説明図である。 符号の説明 １・・・フェライトコア ７・・・非磁性基板８・・
・軟磁性膜 １５・・・非磁性基板１６・・・軟
゛磁性膜 １７・・・ギャップ面１８・・・ギャ
ップスペーサ膜 １９・・・軟磁性膜 ２０・・・動作ギャップ２
１・・・非磁性厚膜 ２２・・・巻線窓穴２３・・
・スライシング刃 ２４・・・加工溝２５・・・切断部
２６・・・ヘッドチップ代理人弁理士 中村
純之助 第１ 醜 （Ａ） （Ｂ） （Ｃ） １’２ｆｉ 第３図 図 （Ｆ）
Claims (1)
- 非磁性基板上に、該基板面に平行でない非磁性膜と、該
非磁性膜を挾む一組の軟磁性膜とを付着せしめて動作ギ
ャップとヘン１ド磁路とを形成してなる磁気ヘッドの製
造方法において、多数個分の動作ギャップとヘッド磁路
とが形成されている上記非磁性基板の裏面より該ヘッド
磁路のテープ摺動部に該当する部分に溝切り加工を施し
た後に個々のへラドチップを切り出すことにより、それ
ぞれ該基板におけるテープ摺動部が他の部分よりも薄く
なった複数個のへラドチップを作ることを特徴とする磁
気ヘッドの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15074081A JPS5853019A (ja) | 1981-09-25 | 1981-09-25 | 磁気ヘツドの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15074081A JPS5853019A (ja) | 1981-09-25 | 1981-09-25 | 磁気ヘツドの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5853019A true JPS5853019A (ja) | 1983-03-29 |
Family
ID=15503373
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP15074081A Pending JPS5853019A (ja) | 1981-09-25 | 1981-09-25 | 磁気ヘツドの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5853019A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| FR2605783A1 (fr) * | 1986-10-28 | 1988-04-29 | Thomson Csf | T ete magnetique d'enregistrement/lecture en couches minces et son procede de realisation |
-
1981
- 1981-09-25 JP JP15074081A patent/JPS5853019A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| FR2605783A1 (fr) * | 1986-10-28 | 1988-04-29 | Thomson Csf | T ete magnetique d'enregistrement/lecture en couches minces et son procede de realisation |
| US4942490A (en) * | 1986-10-28 | 1990-07-17 | Thomson-Csf | Thin layer magnetic read/write head |
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