JPS5965918A - 薄膜磁気ヘツド - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 し発明の利用分野〕 本発明は、スパッタリング等の方法によシ形成した磁性
薄膜を用いたＶＴＲ用磁気ヘッドに関するものである。

〔従来技術〕

ＶＴＲの高密度記録、高性能化を達成するため記録媒体
として従来の酸化物テープに代シメタルテーブが注目さ
れている。このメタルテープは高磁束密度軒、高保磁力
Ｈｃを有しており、これに対応できるヘッドとして、従
来のフェライトヘッドにかえ高飽和磁束密度の金属磁性
材料の薄膜あるいは薄板をコア材とするヘッドが有望と
されている。既にいくつか報告されている薄膜磁気ヘッ
ドは、センダスト合金やパーマロイをスパッタリング等
の薄膜形成技術を用いて非磁性基板上にコア厚み相当分
の厚さ被着し一対のコアをつくり、互いのコアの位置を
合せながらボンディングを行い、作動ギャップを形成し
、磁性薄膜の厚さでヘッドトラック幅を形成したもので
ある。その製造方法を図を用いて説明する。

第１図は従来の薄膜磁気ヘッドの製造方法を示す工程図
である０（ａ）非磁性基板１上に（ｂ）磁性薄膜２をス
パッタリン等の手段によりコア厚すなわちトラック幅相
当分被着しくｃ）非磁性薄板６でこれを被覆して薄膜ブ
ロック４をつくる。

（ｄ）これを短冊状にスライスしてコアブロック５とし
くｅ）そのスライス面を研摩し、巻線溝６を加工してＣ
コアブロック５１と■コアブロック５２を形成する。ヘ
ッドアジマス角を得るには、（ｄ）のスライス工程でそ
のスライス面を基板の垂直面に対してアジマス角度分傾
ければよい。

研摩面にギャップ長規制用非磁性膜を被着しくｆ）一対
のＣコアブロック５１とエコアブロックの６Ｍ性膜を位
置を合せながら互いのコアを突合せポンディングブロッ
ク７をつくる。Ｃ？＞ボンディングブロックをチップ８
０寸法に切離しくｈ）各チップ８を薄肉化、円研、巻線
９を施して薄膜ｆｍ気ヘッド１０を得る０ 従来の薄膜磁気ヘッドの製造方法は、特に狭トラツクヘ
ッドの場合、次のような欠点を有していた。

工程ｅにおいて巻線溝６を加工しだＣコアブロック５１
とエコアブロック５２を加工する。

この時、必然的にＣコアブロックの磁気抵抗がエコアブ
ロックのそれよりも大幅にふえる、そのため記録時にコ
アが飽和ｊ、７て高保磁力テープに記録できない、ある
いは再生感度が劣化する問題があった　特に第１図にお
けるギャップ近傍２０および巻線部２１部分のコア断面
積が少さくなることが問題となった。

また工程（ｆ）におけるトラック合せ作業はボンディン
グブロック７の両端部ＡＸＡ’方向から両方のコアの磁
性薄膜の位置を観察しながらトラック合せを行い互いの
コアブロックを突合せてポンディングを行う。このボン
ディング際コアが機械的にずれ互いのコアブロックの磁
性薄膜がずれトラックずれを生じていた。

従来ヘッドでは磁性薄膜の厚さでトラック幅を規制する
ためずれ量も数ミクロン以内の必要がある。

これを防止するために非磁性基板１の厚み精度を向上さ
せて、コアブロック５１．５２の底面位置が同一面とな
るようにしてポンディングを行う方法も試みたが、（１
）非磁性基板の厚さ精度の大幅な向上が要求される。（
２）コアブロック５１゜５２の組合せは同一基板の隣接
位置としてベアリング作業を行うなどの対策が必要とさ
れトラック幅精度の向上には限界があった。

〔発明の目的〕

本発明の目的は上記した従来技術の欠点をなりシ、トラ
ックすれかなくかつ高精度なトラック幅を実現した磁気
ヘッドを提供することである。

〔発明の概要〕

上記目的を実現するため本発明においては、一対のコア
ブロックのＣコアについて磁性薄膜の厚さをトラック幅
よシも厚くしておき他方の■コアの磁性薄膜の厚さでヘ
ッドトラック幅を構成する。

このようにすることにより前記したコアの飽和をさける
ことが可能となシ、また■コア側でトラック幅が高精度
に規定される。さらにギャップ部でのトラック合せが容
易になり、プロセスが大幅に簡単にされた。

〔発明の実施例〕

以下、本発明による薄膜磁気ヘッドの実施例を図を用い
て説明する。

第２図は本発明の１実施例の磁気ヘッド１１を示したも
ので、同図において第１図と同一の符号は、同一まだは
同等部分をあられしている。

非磁性基板１．６間に磁性薄膜２をはさんだコアブロッ
ク１２とそれに巻線窓６加工をほどこしたコアブロック
１３をヘッドギャップを規制する非磁性薄膜１４を介し
て接着し磁気ヘッドを構成している。ここでコアブロッ
ク１３の磁性薄膜の厚さＴ１はコアブロック１６の厚さ
Ｔ２よシも厚くなっている。

第６図は第２図に示した磁気ヘッドのトラック部を示し
たもので、磁性薄膜？の厚さＴ１と磁性薄膜２′の厚さ
Ｔ２が’Ｉ”＋　　Ｔ２の値だけ異っている、このヘッ
ドのトラック幅Ｔｗはギャップ規制を行う非磁性薄膜１
４を介して磁性薄膜２と２′が合っている部分とな９、
す々わちＴｚと等しくなる。このように互いのコアブロ
ックの磁性薄膜の厚さを変えることにより、ヘッドのト
ラック幅〜は厚さの薄いコアブロックで規制される。そ
こでボンディング工程で互いのコアフ。

ロックにズレが生じてもトラック幅を規制する磁性薄膜
２′が磁性薄膜２の厚さＴｓ以内で、合っていればよく
、そのズレの許容範囲はＴ＋　Ｔｚとなる。

具体例を示すと２０μｍのトラック幅を有する磁気ヘッ
ドの場合、磁性薄膜の厚さをヘッドトラック幅と等しく
２０μｍとし、他方の磁性薄膜の厚さを３０μｍとする
。その差（ＴＩＴ２）は１０μｍであるのでボンディン
グ工程においてズレが生じても±５μｍ以内であれば問
題がない。さらに本発明による磁気ヘッドでは片側のコ
アブロックの磁性薄膜の厚さでトラック幅を規制するた
めに、スパッタリング等の手段を用いればその厚さの制
御は１μｍ以下も可能であるため、高精度トラック幅を
有する薄膜磁気ヘッドを容易に得るととができる。

第４図は本発明による薄膜磁気ヘッドの一つの製造方法
を示す工程図である。（ａ）非磁性基板１上にセンダス
ト薄膜２をスパッタリング等の手段により２０μｍの厚
さすなわちトラック幅相当分被着する。

同様にして非磁性基板１′上にセンダスト薄膜２′を３
０μｍ厚さ被着する。非磁性基板の材質としては、ヘッ
ドの耐摩耗性、熱膨張係数等を考慮し非磁性フェライト
、結晶化ガラスが適当である。

（ｂ）非磁性薄板６．６′でガラスを用いて被覆してコ
アブロック１５．１６をつくる。（Ｃ）コアブロック１
５１６の側面を切削、研摩して（ｄ）コアブロック１５
に巻線溝６を加工してＣコアブロックとしコアブロック
１６をエコアブロックとする、この場合巻線溝６を磁性
薄膜の厚いコアブロック１６１Ｉ！ｌに加工してもよい
。ヘッドアジマス角を得るには（Ｃ）の切削、研摩工程
で基板の垂直面に対してアジマス角度分傾けてブロック
の側面を切削、研摩すればよい。研摩面に５ｊＣｈ等の
非磁性薄膜をスパッタリング等の手段により被着しくｆ
）一対のＣコアブロック１５とエコアブロック１６を突
合せボンディングブロック１７を得る。このボンディン
グの際Ｃコアブロック１５およびエコアブロック１６の
側面を観察しながら互いの磁性膜の位置を合せるが、Ｃ
コアブロックの磁性膜の位置はエコアブロックの磁性膜
の存在する範囲内にあればよい。（２）ボンディングブ
ロックをチップ８の寸法に切離しくｈ）各チップ１８を
薄肉化、内研、巻線９を施して本発明による薄膜磁気ヘ
ッド１９を得る。

従来のヘッド製造工程ではトラックズレを防止するだめ
にエコアブロックおよびＣコアブロックのベアリング作
業を必要としていたが、本発明では１つのコアブロック
のみでトラック幅が規制され、しかもボンディング工程
においてコアブロックのズレが生じても他方のコアブロ
ックの磁性薄膜の存在範囲内では問題がない。

したがって前述のベアリング作業を必要とせず、エコア
ブロック、Ｃコアブロックをそれぞれ単独の工程で製作
することができる。

以上の説明はへラドコア材としてセンダスト薄膜の場合
であったが、パーマロイ、アモルファス等の強磁性薄膜
を用いた薄膜磁気ヘッドにおいても本発明が有効である
。

〔発明の効果〕

以上述べたように本発明によれば、一対のコアブロック
の磁性薄膜の厚さをかえて厚さの薄いほうのコアブロッ
クでヘッドのトラック幅を規制し、他方のコアブロック
の磁性薄膜の厚さの差でコアズレによるトラックズレを
吸収するようにしだので、磁性薄膜の膜厚制御により高
精度なトラック幅を有する薄膜磁気ヘッドを得ることが
できる。また従来技術で障害となっていた非磁性基板の
厚み精度およびベアリング作業等を必要とせず量産性に
も優れている。もちろんＣコアの磁気抵抗も大幅（約５
０％）に低減されＨｅ＝１５００のメタルバクターテー
プにも余裕をもって記録再生可能となった。

【図面の簡単な説明】

第１図は従来の薄膜磁気ヘッドの製造工程図、第２図は
本発明による薄膜磁気ヘッドの外観図、 第３図は本発明による薄膜磁気ヘッドのトラック部の拡
大図、 第４図は本発明による薄膜磁気ヘッドの製造工程は１を
示す。 １、１．’　３．３’・・・・・・非磁性基板２２′　
　・・・・・磁性薄膜 ６　・・・・・・巻線溝 ９　・・・・・・巻線 １４　　・・・・・・非磁性薄膜 オ　１　区 第２口 、　　ｌ乙 ７ オ　３０ １ 、ｆ４　　口 ２′ （２ 第１頁の続き ０発　明　者　小野桁間 横浜市戸塚区吉田町２９２番地株 式会社日立製作所家電研究所内 ０発　明　者　田中克之 横浜市戸塚区吉田町２９２番地株 式会社日立製作所家電研究所内 ０発　明　者　石原徹 勝田市大字稲田１４１０番地株式会 社日立製作所東海工場内 １１１−

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １　第１の非磁性基板と第２の非磁性基板で磁性薄膜を
   挾み込んだ一対のコアブロック（Ｃコアブロック及び■
   コアブロック）をその端面において非磁性薄膜を介して
   互いに突合せ既非磁性薄膜の＋＋＋４厚で作動ギャップ
   を形成し、既磁性薄膜の膜厚でヘッドトランク幅を構成
   した薄膜磁気ヘッドにおいて、上記Ｃコアブロックの厚
   みを厚くして、かつ上記■コアブロックを薄くシ、上記
   ■コアブロックの膜厚によシヘッドトラック幅を構成し
   たことを特徴とした薄膜磁気ヘッド。 ２、　　Ｃ及び■コアブロックのイｍｌ性薄膜の膜厚の
   差が１０μｍ以内であることを特徴とする特許請求の範
   囲第１項記載の薄膜磁気ヘッド。