JPH07109648B2 - 垂直磁気記録再生薄膜ヘッド用溝構造磁性基板 - Google Patents
垂直磁気記録再生薄膜ヘッド用溝構造磁性基板Info
- Publication number
- JPH07109648B2 JPH07109648B2 JP63286523A JP28652388A JPH07109648B2 JP H07109648 B2 JPH07109648 B2 JP H07109648B2 JP 63286523 A JP63286523 A JP 63286523A JP 28652388 A JP28652388 A JP 28652388A JP H07109648 B2 JPH07109648 B2 JP H07109648B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- magnetic
- thin film
- groove
- magnetic member
- head
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/1278—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive specially adapted for magnetisations perpendicular to the surface of the record carrier
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Magnetic Heads (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 利用産業分野 この発明は、電算機用、テープ用、映像記録用などの垂
直磁気記録再生薄膜ヘッドの溝構造磁性基板の改良に係
り、特に、非磁性材を充填し加工組立後に磁気記録媒体
との対向位置となる非磁性材を充填した溝部底面の形状
を、主磁極膜と平行に配置されたリターンパス用磁性部
材平行部幅が主磁極膜幅にほぼ等しく、かつ前記磁性部
材平行部以外のリターンパス用磁性部材の厚みを磁性部
材平行部の厚みより漸次減少する傾斜面を有するように
配設することにより、薄膜ヘッドのクロストーク特性及
びオフトラック特性の改善向上を計った垂直磁気記録再
生薄膜ヘッドを、容易にかつ効率よく製造するための溝
構造磁性基板に関する。
直磁気記録再生薄膜ヘッドの溝構造磁性基板の改良に係
り、特に、非磁性材を充填し加工組立後に磁気記録媒体
との対向位置となる非磁性材を充填した溝部底面の形状
を、主磁極膜と平行に配置されたリターンパス用磁性部
材平行部幅が主磁極膜幅にほぼ等しく、かつ前記磁性部
材平行部以外のリターンパス用磁性部材の厚みを磁性部
材平行部の厚みより漸次減少する傾斜面を有するように
配設することにより、薄膜ヘッドのクロストーク特性及
びオフトラック特性の改善向上を計った垂直磁気記録再
生薄膜ヘッドを、容易にかつ効率よく製造するための溝
構造磁性基板に関する。
背景技術 一般に、垂直磁気記録再生薄膜ヘッド（以下、薄膜磁気
ヘッドという）は、磁気回路が微小であること、高透磁
率、高飽和磁束密度の磁性薄膜を用いるという点で、磁
気記録の高密度化に適しており、半導体テクノロジーに
基づく製造プロセスで製造されるため、高精度の磁気ヘ
ッドを低コストで製造可能であり、今後、垂直磁気ヘッ
ドの主流となるものと考えられる。
ヘッドという）は、磁気回路が微小であること、高透磁
率、高飽和磁束密度の磁性薄膜を用いるという点で、磁
気記録の高密度化に適しており、半導体テクノロジーに
基づく製造プロセスで製造されるため、高精度の磁気ヘ
ッドを低コストで製造可能であり、今後、垂直磁気ヘッ
ドの主流となるものと考えられる。
薄膜磁気ヘッドには、記録、再生用ヘッドとして用いら
れるインダクティブヘッド、再生ヘッドとして用いられ
る磁気抵抗効果型ヘッド等がある。
れるインダクティブヘッド、再生ヘッドとして用いられ
る磁気抵抗効果型ヘッド等がある。
垂直磁気記録再生用のインダクティブヘッドは、例え
ば、第８図に薄膜ヘッドのトランスジューサー部の媒体
対向面及び縦断側面説明図を示す如く、ソフトフェライ
ト等の磁性部材（10）と、これにギャップ層たる非磁性
材（３）と薄膜導体コイル（４）と絶縁層（５）を介し
て配設するパーマロイ、センダスト、あるいはCo系アモ
ルファス等からなる主磁極膜（７）と、該主磁極膜の記
録時の磁気飽和を防ぐための厚膜磁性膜（８）と保護膜
（９）とからなる。製造に際しては、磁性基板に複数の
平底溝の横溝部を一定間隔で設け、該横溝部に非磁性材
を充填し、該横溝部の非磁性材表面上と隣接する基板の
磁性部材表面に、薄膜形成、導体形成、積層、エッチン
グを行う半導体テクノロジーにて所要のパターンの薄膜
磁気ヘッドを複数形成し、例えば、横溝部の中央で溝に
平行にかつ溝に直交する方向に所定幅で切断することに
より、上述した第８図の構成を得ており、横溝部の中央
で溝方向に平行に切断した断面が記録媒体（30）の対向
面となり、上記の溝部の底面である磁性部材面（境界面
（12））と平行に非磁性材（３）を介して主磁極膜
（７）が形成されることになる。
ば、第８図に薄膜ヘッドのトランスジューサー部の媒体
対向面及び縦断側面説明図を示す如く、ソフトフェライ
ト等の磁性部材（10）と、これにギャップ層たる非磁性
材（３）と薄膜導体コイル（４）と絶縁層（５）を介し
て配設するパーマロイ、センダスト、あるいはCo系アモ
ルファス等からなる主磁極膜（７）と、該主磁極膜の記
録時の磁気飽和を防ぐための厚膜磁性膜（８）と保護膜
（９）とからなる。製造に際しては、磁性基板に複数の
平底溝の横溝部を一定間隔で設け、該横溝部に非磁性材
を充填し、該横溝部の非磁性材表面上と隣接する基板の
磁性部材表面に、薄膜形成、導体形成、積層、エッチン
グを行う半導体テクノロジーにて所要のパターンの薄膜
磁気ヘッドを複数形成し、例えば、横溝部の中央で溝に
平行にかつ溝に直交する方向に所定幅で切断することに
より、上述した第８図の構成を得ており、横溝部の中央
で溝方向に平行に切断した断面が記録媒体（30）の対向
面となり、上記の溝部の底面である磁性部材面（境界面
（12））と平行に非磁性材（３）を介して主磁極膜
（７）が形成されることになる。
従来技術の問題点 前述した露出する積層端面で記録媒体と対向する構成の
垂直薄膜ヘッドにおいて、第８図（ａ）に示す如く、記
録媒体（30）に対するリターンパス用磁性部材（10）の
横溝部（２）に充填される非磁性材（３）との境界面
（12）が主磁極膜（７）と平行になっているため、主磁
極膜（７）下部以外の前記境界面（12）における隣接ト
ラックの再生が原因し、薄膜ヘッドにおいて、クロスト
ーク特性及びオフトラック特性が十分でなく、高トラッ
ク密度化に対して問題があった。
垂直薄膜ヘッドにおいて、第８図（ａ）に示す如く、記
録媒体（30）に対するリターンパス用磁性部材（10）の
横溝部（２）に充填される非磁性材（３）との境界面
（12）が主磁極膜（７）と平行になっているため、主磁
極膜（７）下部以外の前記境界面（12）における隣接ト
ラックの再生が原因し、薄膜ヘッドにおいて、クロスト
ーク特性及びオフトラック特性が十分でなく、高トラッ
ク密度化に対して問題があった。
またさらに、従来の薄膜磁気ヘッドにおいて、記録媒体
に対向する面に主磁極膜以外にリターンパス用磁性部材
のエッジ形状部分が露出し、前記露出部形状効果（コン
ター効果）によって、そのエッジ部に媒体からの漏洩磁
束が集中することにより、再生波形に発生するノイズピ
ーク、すなわち、主ピーク以外に副ピーク（コンター効
果によるピーク）が発生し、波形歪み及び記録密度特性
の劣化を招来する問題があった。
に対向する面に主磁極膜以外にリターンパス用磁性部材
のエッジ形状部分が露出し、前記露出部形状効果（コン
ター効果）によって、そのエッジ部に媒体からの漏洩磁
束が集中することにより、再生波形に発生するノイズピ
ーク、すなわち、主ピーク以外に副ピーク（コンター効
果によるピーク）が発生し、波形歪み及び記録密度特性
の劣化を招来する問題があった。
発明の目的 この発明は、かかる現状に鑑み、従来の薄膜磁気ヘッド
のクロストーク特性及びオフトラック特性の向上させた
薄膜ヘッド、さらに同時に、コンター効果による問題を
低減、解消できる垂直磁気記録再生薄膜ヘッドを、容易
にかつ効率よく製造するための溝構造磁性基板の提供を
目的としている。
のクロストーク特性及びオフトラック特性の向上させた
薄膜ヘッド、さらに同時に、コンター効果による問題を
低減、解消できる垂直磁気記録再生薄膜ヘッドを、容易
にかつ効率よく製造するための溝構造磁性基板の提供を
目的としている。
発明の概要 発明者は、磁気記録媒体に対向するリターンパス用磁性
部材と溝部に充填された、非磁性材との接触部における
隣接トラックの再生出力を低減させ、クロストーク特性
及びオフトラック特性の改善を目的に、リターンパス用
磁性部材形状について種々検討した結果、磁気記録媒体
との対向面に露出するリターンパス用溝磁性部材部底面
の形状を、主磁極膜と平行に配置されたリターンパス用
磁性部材平行部幅が主磁極膜幅にほぼ等しく、かつ前記
磁性部材平行部以外のリターンパス用磁性部材厚みを前
記磁性部材平行部より漸次減少させる傾斜面とすること
により磁気抵抗の増加及び磁性部材の傾斜面によるアジ
マスクロスの増大を計り、薄膜ヘッドのクロストーク特
性及びオフトラック特性は向上、改善されることを知見
した。
部材と溝部に充填された、非磁性材との接触部における
隣接トラックの再生出力を低減させ、クロストーク特性
及びオフトラック特性の改善を目的に、リターンパス用
磁性部材形状について種々検討した結果、磁気記録媒体
との対向面に露出するリターンパス用溝磁性部材部底面
の形状を、主磁極膜と平行に配置されたリターンパス用
磁性部材平行部幅が主磁極膜幅にほぼ等しく、かつ前記
磁性部材平行部以外のリターンパス用磁性部材厚みを前
記磁性部材平行部より漸次減少させる傾斜面とすること
により磁気抵抗の増加及び磁性部材の傾斜面によるアジ
マスクロスの増大を計り、薄膜ヘッドのクロストーク特
性及びオフトラック特性は向上、改善されることを知見
した。
また、同時に、リターンパス用磁性部材と前記非磁性材
との交互角部への磁束集中による波形劣化を防止するに
は、磁性部材に配設された溝部の所要内面を階段状の特
定形状にすればよいことを知見した。
との交互角部への磁束集中による波形劣化を防止するに
は、磁性部材に配設された溝部の所要内面を階段状の特
定形状にすればよいことを知見した。
そこでさらに、前記磁性部材を特定形状にした薄膜ヘッ
ドを、容易にかつ効率よく製造するための素材について
種々検討した結果、磁性基板の一主面に、非磁性材を充
填する平底または凸型底溝の横溝部を一定間隔で複数設
け、かつこの溝部に直行するＶまたはＵ型溝の縦溝部を
一定間隔で設けた溝構造磁性基板を用いることにより、
横溝部に充填された非磁性材上とその隣接磁性基板上に
所要のパターンで薄膜を形成積層後、横溝部の溝方向の
所要平行位置並びに縦溝部の溝方向の所要平行位置で切
断することにより、薄膜ヘッド組立後に媒体対向面にお
ける主磁極膜と対向するリターンパス用磁性部材の厚み
を磁性部材平行部の厚みより漸次減少する傾斜面を有す
るよう構成した薄膜磁気ヘッドが容易に得られ、製造性
が著しく向上することを知見した。
ドを、容易にかつ効率よく製造するための素材について
種々検討した結果、磁性基板の一主面に、非磁性材を充
填する平底または凸型底溝の横溝部を一定間隔で複数設
け、かつこの溝部に直行するＶまたはＵ型溝の縦溝部を
一定間隔で設けた溝構造磁性基板を用いることにより、
横溝部に充填された非磁性材上とその隣接磁性基板上に
所要のパターンで薄膜を形成積層後、横溝部の溝方向の
所要平行位置並びに縦溝部の溝方向の所要平行位置で切
断することにより、薄膜ヘッド組立後に媒体対向面にお
ける主磁極膜と対向するリターンパス用磁性部材の厚み
を磁性部材平行部の厚みより漸次減少する傾斜面を有す
るよう構成した薄膜磁気ヘッドが容易に得られ、製造性
が著しく向上することを知見した。
すなわち、この発明は、 磁性基板の一主面に、非磁性材を充填する複数の横溝部
を一定間隔で設け、前記横溝部に直交する複数の縦溝部
を配設した垂直磁気記録再生薄膜ヘッド用溝構造磁性基
板において、 非磁性材を充填する複数の横溝部が、薄膜ヘッド組立後
に、媒体対向面に直交する方向のリターンパス用磁性部
材の前記溝部内面が平坦となるように平底溝、または前
記溝部内面が階段状となるように凸型底溝であり、 薄膜ヘッド組立後に媒体対向面における主磁極膜と平行
に配置されたリターンパス用磁性部材平行部幅が主磁極
膜幅にほぼ等しく、前記磁性部材平行部以外のリターン
パス用磁性部材の厚みを磁性部材平行部の厚みより漸次
減少する傾斜面を有するように、上記横溝部に直交する
よう一定間隔でＶまたはＵ型溝の縦溝部を設けたことを
特徴とする垂直磁気記録再生薄膜ヘッド用溝構造磁性基
板である。
を一定間隔で設け、前記横溝部に直交する複数の縦溝部
を配設した垂直磁気記録再生薄膜ヘッド用溝構造磁性基
板において、 非磁性材を充填する複数の横溝部が、薄膜ヘッド組立後
に、媒体対向面に直交する方向のリターンパス用磁性部
材の前記溝部内面が平坦となるように平底溝、または前
記溝部内面が階段状となるように凸型底溝であり、 薄膜ヘッド組立後に媒体対向面における主磁極膜と平行
に配置されたリターンパス用磁性部材平行部幅が主磁極
膜幅にほぼ等しく、前記磁性部材平行部以外のリターン
パス用磁性部材の厚みを磁性部材平行部の厚みより漸次
減少する傾斜面を有するように、上記横溝部に直交する
よう一定間隔でＶまたはＵ型溝の縦溝部を設けたことを
特徴とする垂直磁気記録再生薄膜ヘッド用溝構造磁性基
板である。
発明の構成 この発明は、第１図a,bに示す如く、Ni-Zn系、Mn-Zn系
フェライト等の磁性材料の一主面に、ガラス、SiO2、Al
2O3、チタン酸バリウム等の非磁性材（３）を充填する
複数の平底溝あるいは階段状内面（2a）形成する凸型底
溝の横溝部（２）、及びこれに直交するＶ型あるいは略
Ｕ型溝の縦溝部（20）を一定間隔で設けた溝構造磁性基
板（１）を特徴とし、これを用いることにより所要形状
の薄膜ヘッドを容易に効率よく製造することができる。
フェライト等の磁性材料の一主面に、ガラス、SiO2、Al
2O3、チタン酸バリウム等の非磁性材（３）を充填する
複数の平底溝あるいは階段状内面（2a）形成する凸型底
溝の横溝部（２）、及びこれに直交するＶ型あるいは略
Ｕ型溝の縦溝部（20）を一定間隔で設けた溝構造磁性基
板（１）を特徴とし、これを用いることにより所要形状
の薄膜ヘッドを容易に効率よく製造することができる。
詳述すると、第１図ａに示す溝構造磁性基板（１）を用
いることにより、磁気記録媒体との対向位置、すなわ
ち、溝構造磁性基板（１）における横溝部（２）と縦溝
部（20）が交差した部分の形状を、第２図a,bに示す如
く、リターンパス用磁性部材平行部（13）幅が主磁極膜
（７）幅にほぼ等しく、かつ前記磁性部材平行部（13）
以外の磁性部材（10）厚みを前記磁性部材平行部（13）
厚みより漸次減少させた薄膜ヘッドを効率よく製造する
ことができる。また、前記薄膜ヘッドは、磁気抵抗の増
加及び磁性部材の傾斜面によるアジマスクロスの増大を
計ることができ、薄膜ヘッドのクロストーク特性及びオ
フトラック特性を改善、向上させることができる。
いることにより、磁気記録媒体との対向位置、すなわ
ち、溝構造磁性基板（１）における横溝部（２）と縦溝
部（20）が交差した部分の形状を、第２図a,bに示す如
く、リターンパス用磁性部材平行部（13）幅が主磁極膜
（７）幅にほぼ等しく、かつ前記磁性部材平行部（13）
以外の磁性部材（10）厚みを前記磁性部材平行部（13）
厚みより漸次減少させた薄膜ヘッドを効率よく製造する
ことができる。また、前記薄膜ヘッドは、磁気抵抗の増
加及び磁性部材の傾斜面によるアジマスクロスの増大を
計ることができ、薄膜ヘッドのクロストーク特性及びオ
フトラック特性を改善、向上させることができる。
また、第１図ｂに示す溝構造磁性基板（１）を用いるこ
とにより、第２図ｂに示す如く、基板から切出し加工さ
れた薄膜磁気ヘッドの磁気記録媒体の対向面に相当する
横溝部（２）底面の磁性部材（10）厚みが前記磁性部材
平行部（13）より漸次減少した薄膜ヘッドが得られ、薄
膜磁気ヘッドのクロストーク特性及びオフトラック特性
を改善、向上する。
とにより、第２図ｂに示す如く、基板から切出し加工さ
れた薄膜磁気ヘッドの磁気記録媒体の対向面に相当する
横溝部（２）底面の磁性部材（10）厚みが前記磁性部材
平行部（13）より漸次減少した薄膜ヘッドが得られ、薄
膜磁気ヘッドのクロストーク特性及びオフトラック特性
を改善、向上する。
さらに、横溝部（２）を階段状内面（2a）に形成したこ
とにより、前記基板より作成された薄膜磁気ヘッドは、
記録媒体からの漏洩磁束が磁性部材（10）の媒体対向面
に露出している露出面と横溝部（２）に充填した非磁性
材（３）との少なくとも１ケ所以上の交互角部及び非磁
性材（３）との接触面に分散するため、従来の薄膜磁気
ヘッドの欠点であったコンター効果による副ピークを弱
化することができる。
とにより、前記基板より作成された薄膜磁気ヘッドは、
記録媒体からの漏洩磁束が磁性部材（10）の媒体対向面
に露出している露出面と横溝部（２）に充填した非磁性
材（３）との少なくとも１ケ所以上の交互角部及び非磁
性材（３）との接触面に分散するため、従来の薄膜磁気
ヘッドの欠点であったコンター効果による副ピークを弱
化することができる。
この発明による溝構造磁性基板を用いて薄膜磁気ヘッド
を製造する工程を、第１図ｂ、第４図ａ〜ｇに基いて説
明する。
を製造する工程を、第１図ｂ、第４図ａ〜ｇに基いて説
明する。
Ni-Zn系またはMn-Zn系フェライトの磁性基板（１）
の一主面に、階段状内面（2a）を有する複数の横溝部
（２）及び横溝部（２）に直交する略Ｕ型形状を有する
複数の縦溝部（20）を所要パターンにて配設し、各溝部
（２）（20）に、ガラス、SiO2、Al2O3、チタン酸バリ
ウム等の非磁性材（３）を溶着法、スパッタリング法に
て充填し、その後、磁性基板（１）の前記溝部（２）
（20）を設けた主面に、メカノケミカル研摩を施す。
（第１図ｂ図） 分割形成された磁性部材（10）の前記研摩面に、A
u、Cu、Cr、Al等からなる薄膜導体コイル（４）をスパ
ッタリング法、真空蒸着法にて形成する。（第４図ａ
図）なお、前記磁性部材がMn-Zn系フェライトの場合、
薄膜導体コイル形成前に絶縁層を設ける。
の一主面に、階段状内面（2a）を有する複数の横溝部
（２）及び横溝部（２）に直交する略Ｕ型形状を有する
複数の縦溝部（20）を所要パターンにて配設し、各溝部
（２）（20）に、ガラス、SiO2、Al2O3、チタン酸バリ
ウム等の非磁性材（３）を溶着法、スパッタリング法に
て充填し、その後、磁性基板（１）の前記溝部（２）
（20）を設けた主面に、メカノケミカル研摩を施す。
（第１図ｂ図） 分割形成された磁性部材（10）の前記研摩面に、A
u、Cu、Cr、Al等からなる薄膜導体コイル（４）をスパ
ッタリング法、真空蒸着法にて形成する。（第４図ａ
図）なお、前記磁性部材がMn-Zn系フェライトの場合、
薄膜導体コイル形成前に絶縁層を設ける。
この薄膜導体コイル（４）層と後に被着する主磁極
膜（７）との電気的絶縁のために、SiO2、Al2O3等の無
機酸化膜からなる層間絶縁被膜（５）を、スパッタリン
グ法等にて形成する。（第４図ｂ図） 前記薄膜導体コイル（４）による層間絶縁被膜
（５）の凹凸面を除去するため、ダイヤモンド研摩等の
精密研摩を施して、500Å以下に平坦化する。（第４図
ｃ図） 後工程にて被着する主磁極膜（７）と磁性部材（1
0）を接続するためのリターンパス部（６）を、前記層
間絶縁被膜（５）に、イオンエッチング、ケミカルエッ
チング等の方法にて形成する。（第４図ｄ図） 前記層間絶縁被膜（５）面の加工歪及びエッジ部
（5a）の角部を除去し、さらに磁性部材（10）面の加工
歪を除去するため、当該主面全面にメカノケミカル研摩
を施す。
膜（７）との電気的絶縁のために、SiO2、Al2O3等の無
機酸化膜からなる層間絶縁被膜（５）を、スパッタリン
グ法等にて形成する。（第４図ｂ図） 前記薄膜導体コイル（４）による層間絶縁被膜
（５）の凹凸面を除去するため、ダイヤモンド研摩等の
精密研摩を施して、500Å以下に平坦化する。（第４図
ｃ図） 後工程にて被着する主磁極膜（７）と磁性部材（1
0）を接続するためのリターンパス部（６）を、前記層
間絶縁被膜（５）に、イオンエッチング、ケミカルエッ
チング等の方法にて形成する。（第４図ｄ図） 前記層間絶縁被膜（５）面の加工歪及びエッジ部
（5a）の角部を除去し、さらに磁性部材（10）面の加工
歪を除去するため、当該主面全面にメカノケミカル研摩
を施す。
これにより、前記層間絶縁被膜（５）面及びリターンパ
ス部（６）の磁性部材（10）面は、加工歪が除去されて
無歪化し、かつ表面粗度が100Å以下、好ましくは40Å
以下に仕上げられる。
ス部（６）の磁性部材（10）面は、加工歪が除去されて
無歪化し、かつ表面粗度が100Å以下、好ましくは40Å
以下に仕上げられる。
前記メカノケミカル研摩後、層間絶縁被膜（５）の
面及びリターンパス部（６）の磁性部材（10）面上に、
パーマロイ、センダスト等のFe系合金あるいはアモルフ
ァス等からなる主磁極膜（７）をスパッタリング法、蒸
着法、めっき法等にて被着形成し、パターン化する。
（第４図ｅ図） その後、前記主磁極膜（７）上に主磁極の磁気飽和
を防ぐために厚膜主磁極膜（８）をスパッタリング法、
蒸着法、めっき法等にて被着形成し、パターン化する。
（第４図ｆ図） ヘッド保護膜（９）を積層被着する。（第４図ｇ
図） その後、横溝部（２）の所要位置及び縦溝部（20）
の主要位置で切断して、所要寸法、形状に成形すること
により、磁性部材の横溝部（２）に階段状内面（2a）を
有し、その横溝部（２）と縦溝部（20）が交差した部分
の形状を、リターンパス用磁性部材平行部（13）幅が主
磁極膜（７）幅にほぼ等しく、かつ前記磁性部材平行部
（13）以外の磁性部材（１）厚みを前記磁性部材平行部
（13）面厚みより減少させた薄膜磁気ヘッドが得られ
る。（第３図） この発明による溝構造磁性基板（１）の溝形状、すなわ
ち、記録媒体に対向する積層端面のリターンパス用磁性
部材形状は、第２図、第３図の如き形状のほかに第５図
の形状でもよい。
面及びリターンパス部（６）の磁性部材（10）面上に、
パーマロイ、センダスト等のFe系合金あるいはアモルフ
ァス等からなる主磁極膜（７）をスパッタリング法、蒸
着法、めっき法等にて被着形成し、パターン化する。
（第４図ｅ図） その後、前記主磁極膜（７）上に主磁極の磁気飽和
を防ぐために厚膜主磁極膜（８）をスパッタリング法、
蒸着法、めっき法等にて被着形成し、パターン化する。
（第４図ｆ図） ヘッド保護膜（９）を積層被着する。（第４図ｇ
図） その後、横溝部（２）の所要位置及び縦溝部（20）
の主要位置で切断して、所要寸法、形状に成形すること
により、磁性部材の横溝部（２）に階段状内面（2a）を
有し、その横溝部（２）と縦溝部（20）が交差した部分
の形状を、リターンパス用磁性部材平行部（13）幅が主
磁極膜（７）幅にほぼ等しく、かつ前記磁性部材平行部
（13）以外の磁性部材（１）厚みを前記磁性部材平行部
（13）面厚みより減少させた薄膜磁気ヘッドが得られ
る。（第３図） この発明による溝構造磁性基板（１）の溝形状、すなわ
ち、記録媒体に対向する積層端面のリターンパス用磁性
部材形状は、第２図、第３図の如き形状のほかに第５図
の形状でもよい。
例えば、階段状内面（2a）形成する凸型底溝の横溝部
（２）、及びこれに直交する略Ｕ型の縦溝部（20）を一
定間隔で設けた溝構造磁性基板（１）を用いることによ
り、第３図の如きリターンパス用磁性部材平行部（13）
幅が主磁極膜（７）幅にほぼ等しく、前記磁性部材平行
部（13）以外の横溝部（２）底面の磁性部材（10）厚み
が磁性部材平行部（13）より急激に減少したのち、漸次
減少した形状が得られる。
（２）、及びこれに直交する略Ｕ型の縦溝部（20）を一
定間隔で設けた溝構造磁性基板（１）を用いることによ
り、第３図の如きリターンパス用磁性部材平行部（13）
幅が主磁極膜（７）幅にほぼ等しく、前記磁性部材平行
部（13）以外の横溝部（２）底面の磁性部材（10）厚み
が磁性部材平行部（13）より急激に減少したのち、漸次
減少した形状が得られる。
また、階段状内面（2a）形成する凸型底溝の横溝部
（２）及びこれに直交するＶ型の縦溝部（20）を一定間
隔で設けた溝構造磁性基板（１）を用いることにより、
第５図の如きリターンパス用磁性部材平行部（13）幅が
主磁極膜（７）幅にほぼ等しく、前記磁性部材平行部
（13）以外の横溝部（２）底面の磁性部材（10）厚みが
磁性部材平行部（13）より漸次減少した形状が得られ
る。
（２）及びこれに直交するＶ型の縦溝部（20）を一定間
隔で設けた溝構造磁性基板（１）を用いることにより、
第５図の如きリターンパス用磁性部材平行部（13）幅が
主磁極膜（７）幅にほぼ等しく、前記磁性部材平行部
（13）以外の横溝部（２）底面の磁性部材（10）厚みが
磁性部材平行部（13）より漸次減少した形状が得られ
る。
この発明において、磁性部材（10）に配置される横溝部
（２）に設ける階段状内面（2a）形状は、第６図a,bの
如く、横溝部（２）底面が平面状でこれより１段あるい
は数段の階段状に形成したり、また、第６図ｃの如く、
階段状内面（2a）の立ち上がり部が傾斜した構成など、
その他階段状であれば何れの形状でも利用でき、前述し
た作用効果が得られる。
（２）に設ける階段状内面（2a）形状は、第６図a,bの
如く、横溝部（２）底面が平面状でこれより１段あるい
は数段の階段状に形成したり、また、第６図ｃの如く、
階段状内面（2a）の立ち上がり部が傾斜した構成など、
その他階段状であれば何れの形状でも利用でき、前述し
た作用効果が得られる。
実施例 以下、この発明の実施例を説明する。
表面を精密仕上げしたNi-Znフェライト基板上に、幅0.3
mm×深さ0.015mm×長さ50mmの溝を複数本、機械加工で
形成する。
mm×深さ0.015mm×長さ50mmの溝を複数本、機械加工で
形成する。
さらに、溝部中央付近の長手方向に、幅0.15×深さ0.03
0×長さ50mmの溝を機械加工で形成する。
0×長さ50mmの溝を機械加工で形成する。
また、前記階段状内面を形成した凸型底溝の横溝部に直
交する幅0.015×深さ0.05×長さ50mmの縦溝部を複数
本、機械加工で形成する。
交する幅0.015×深さ0.05×長さ50mmの縦溝部を複数
本、機械加工で形成する。
このようにして得られた横溝部に、５μｍ以上の気泡が
１ケ／mm3以下の状態でガラスを充填した後、前記主面
にメカノケミカル研摩を施し、前記研摩面上に、薄膜導
体コイル用Cu膜をスパッタリングにて形成し、所定形状
のパターン化する。
１ケ／mm3以下の状態でガラスを充填した後、前記主面
にメカノケミカル研摩を施し、前記研摩面上に、薄膜導
体コイル用Cu膜をスパッタリングにて形成し、所定形状
のパターン化する。
その後、電気的絶縁のための層間絶縁被膜として、SiO2
をスパッタリング法にて被着したのち、該表面に下記条
件のダイヤモンド研摩を施して、500Å以下に平坦化し
た。
をスパッタリング法にて被着したのち、該表面に下記条
件のダイヤモンド研摩を施して、500Å以下に平坦化し
た。
つぎに、前記層間絶縁被膜に、イオンエッチングにてリ
ターンパス部を形成した後、当該主面全面に、下記条件
のメカノケミカル研摩を施した。
ターンパス部を形成した後、当該主面全面に、下記条件
のメカノケミカル研摩を施した。
これにより、前記層間絶縁被膜及び露出磁性部材面は、
表面粗度が30Å以下となった。
表面粗度が30Å以下となった。
メカノケミカル研摩後、Co系アモルファスからなる主磁
極膜をスパッタリング法にて被着形成パターン化し、さ
らに、Co系アモルファスからなる厚膜主磁極膜をスパッ
タリング法にて被着形成パターン化し、さらにAl2O3か
らなるヘッド保護膜を積層被着した。
極膜をスパッタリング法にて被着形成パターン化し、さ
らに、Co系アモルファスからなる厚膜主磁極膜をスパッ
タリング法にて被着形成パターン化し、さらにAl2O3か
らなるヘッド保護膜を積層被着した。
その後、記録媒体に対向するリターンパス用磁性部材の
１主面が、段階状かつ記録媒体に対向する積層端面の磁
性部材の上部幅が主磁性膜幅に等しく、前記磁性部材の
下部幅が上部幅より大なる梯形状になるように、所要寸
法、形状に切断加工し、薄膜磁気ヘッドを作製した。
１主面が、段階状かつ記録媒体に対向する積層端面の磁
性部材の上部幅が主磁性膜幅に等しく、前記磁性部材の
下部幅が上部幅より大なる梯形状になるように、所要寸
法、形状に切断加工し、薄膜磁気ヘッドを作製した。
このようにして、得られた薄膜磁気ヘッドの特性を評価
した。
した。
また、比較のため、幅0.3×深さ0.030mmの溝にガラスを
充填したNi-Znフェライト基板より上記と同じ方法で薄
膜磁気ヘッドを作り、これも同様に評価した。
充填したNi-Znフェライト基板より上記と同じ方法で薄
膜磁気ヘッドを作り、これも同様に評価した。
これら、溝形状の異なる２種のヘッドからのオフトラッ
ク特性の試験結果を第７図に示す。
ク特性の試験結果を第７図に示す。
なお、オフトラック特性測定は自己記録再生により行
い、その測定条件は下記の通りである。
い、その測定条件は下記の通りである。
第７図より明らかな如く、本発明ヘッドはオフトラック
特性において、非常に良好な特性を示している。
特性において、非常に良好な特性を示している。
また、溝形状の異なる２種のヘッドからの再生出力波形
の結果において、第８図に示す従来の平底溝構造を有す
る薄膜磁気ヘッドではコンター効果による副ピークが出
現したのに対し、第２図に示す階段状内面を形成した凸
型底溝の横溝部を有するこの発明による薄膜磁気ヘッド
ではコンター効果による副ピークの出現は、著しく減少
した。
の結果において、第８図に示す従来の平底溝構造を有す
る薄膜磁気ヘッドではコンター効果による副ピークが出
現したのに対し、第２図に示す階段状内面を形成した凸
型底溝の横溝部を有するこの発明による薄膜磁気ヘッド
ではコンター効果による副ピークの出現は、著しく減少
した。
媒体 CoCr/FiFe ２層膜、垂直保磁力Hc＝1000Oe ヘッド 本発明、従来ともにトラック幅TW＝50μｍ 測定半径 43mm 回転数 3600rpm 記録密度 1KFRPI メカノケミカル研摩条件 加工機 ;15インチMCP盤 ポリッシャー ；不織布 パウダー ；粒度0.02μｍ以下、MgO 回転数 ;20rpm 加圧力 ;0.5kg/mm2 ダイヤモンド研摩条件 加工機 ;15インチ片面ラップ盤 ポリッシャー ;Sn盤 ダイヤモンド ；粒度0.5〜１μｍ 回転数 ;30rpm 加圧力 ;0.5kg/mm2 再生出力波形測定条件 ディスク回転数 ;3600rpm 媒体 ;Co-Cr/Ni-Fe 記録周波数 ;1MHz 記録電流 ;20mAp-P 相対速度 ;v＝15m/S
第１図a,bはこの発明による磁性基板の斜視説明図あ
る。 第２図a,b、第３図a,b、第５図a,bはこの発明による薄
膜磁気ヘッドの正面、縦断側面説明図である。 第４図ａ〜ｇはこの発明による薄膜磁気ヘッドの製造工
程を示す説明図である。 第６図ａ〜ｃは磁性部材の溝部形状を示す説明図であ
る。 第７図は薄膜磁気ヘッドのオフセット量と再生出力の関
係を示すグラフである。 第８図a,bは従来の磁性部材を用いた薄膜磁気ヘッドの
縦断説明図である。 １……溝構造磁性基板、２……横溝部、2a……階段状内
面、３……非磁性材、４……薄膜導体コイル、５……層
間絶縁被膜、６……リターンパス部、７……主磁極膜、
８……厚膜主磁極膜、９……ヘッド保護膜、10……磁性
部材、11……露出面、12……境界面、13……磁性部材平
行部、20……縦溝部、30……記録媒体。
る。 第２図a,b、第３図a,b、第５図a,bはこの発明による薄
膜磁気ヘッドの正面、縦断側面説明図である。 第４図ａ〜ｇはこの発明による薄膜磁気ヘッドの製造工
程を示す説明図である。 第６図ａ〜ｃは磁性部材の溝部形状を示す説明図であ
る。 第７図は薄膜磁気ヘッドのオフセット量と再生出力の関
係を示すグラフである。 第８図a,bは従来の磁性部材を用いた薄膜磁気ヘッドの
縦断説明図である。 １……溝構造磁性基板、２……横溝部、2a……階段状内
面、３……非磁性材、４……薄膜導体コイル、５……層
間絶縁被膜、６……リターンパス部、７……主磁極膜、
８……厚膜主磁極膜、９……ヘッド保護膜、10……磁性
部材、11……露出面、12……境界面、13……磁性部材平
行部、20……縦溝部、30……記録媒体。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭62−177710（ＪＰ，Ａ) 特開 昭60−226008（ＪＰ，Ａ) 特開 昭60−175208（ＪＰ，Ａ) 特開 昭62−36714（ＪＰ，Ａ)
Claims (2)
- 【請求項１】磁性基板の一主面に非磁性材を充填する複
数の横溝部を一定間隔で設け、前記横溝部に直交する複
数の縦溝部を配設した垂直磁気記録再生薄膜ヘッド用溝
構造磁性基板において、 非磁性材を充填する複数の横溝部が、薄膜ヘッド組立後
に、媒体対向面に直交する方向のリターンパス用磁性部
材の前記溝部内面が平坦となるように平底溝であり、薄
膜ヘッド組立後に媒体対向面における主磁極膜と平行に
配置されたリターンパス用磁性部材平行部幅が主磁極膜
幅にほぼ等しく、前記磁性部材平行部以外のリターンパ
ス用磁性部材の厚みを磁性部材平行部の厚みより漸次減
少する傾斜面を有するように、上記横溝に直交するよう
一定間隔でＶまたはＵ型溝の縦溝部を設けたことを特徴
とする垂直磁気記録再生薄膜ヘッド用溝構造磁性基板。 - 【請求項２】磁性基板の一主面に非磁性材を充填する複
数の横溝部を一定間隔で設け、前記横溝部に直交する複
数の縦溝部を配設した垂直磁気記録再生薄膜ヘッド用溝
構造磁性基板において、 非磁性材を充填する複数の横溝部が、薄膜ヘッド組立後
に、媒体対向面に直交する方向のリターンパス用磁性部
材の前記溝部内面が階段状となるように凸型底溝であ
り、薄膜ヘッド組立後に媒体対向面における主磁極膜と
平行に配置されたリターンパス用磁性部材平行部幅が主
磁極膜幅にほぼ等しく、前記磁性部材平行部以外のリタ
ーンパス用磁性部材の厚みを磁性部材平行部の厚みより
漸次減少する傾斜面を有するように、上記横溝部に直交
するよう一定間隔でＶまたはＵ型溝の縦溝部を設けたこ
とを特徴とする垂直磁気記録再生薄膜ヘッド用溝構造磁
性基板。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63286523A JPH07109648B2 (ja) | 1988-11-11 | 1988-11-11 | 垂直磁気記録再生薄膜ヘッド用溝構造磁性基板 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63286523A JPH07109648B2 (ja) | 1988-11-11 | 1988-11-11 | 垂直磁気記録再生薄膜ヘッド用溝構造磁性基板 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02132617A JPH02132617A (ja) | 1990-05-22 |
| JPH07109648B2 true JPH07109648B2 (ja) | 1995-11-22 |
Family
ID=17705514
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63286523A Expired - Fee Related JPH07109648B2 (ja) | 1988-11-11 | 1988-11-11 | 垂直磁気記録再生薄膜ヘッド用溝構造磁性基板 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH07109648B2 (ja) |
Family Cites Families (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS60175208A (ja) * | 1984-02-22 | 1985-09-09 | Hitachi Ltd | 薄膜磁気ヘツド |
| JPS60226008A (ja) * | 1984-04-24 | 1985-11-11 | Hitachi Ltd | 薄膜磁気ヘツド及びその製造方法 |
| JPS6236714A (ja) * | 1985-08-09 | 1987-02-17 | Mitsubishi Electric Corp | 垂直薄膜磁気ヘツド |
| JPS62177710A (ja) * | 1986-01-30 | 1987-08-04 | Mitsubishi Electric Corp | 垂直磁気ヘツド |
-
1988
- 1988-11-11 JP JP63286523A patent/JPH07109648B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH02132617A (ja) | 1990-05-22 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US5225953A (en) | Magnetic thin film head of a single magnetic pole for perpendicular recording and reproduction | |
| US5602704A (en) | Composite metal and ferrite head transducer and manufacturing method therefor | |
| WO1994002938A9 (en) | Composite metal and ferrite head transducer and manufacturing method therefor | |
| JPS6341127B2 (ja) | ||
| US5181151A (en) | Thin-film perpendicular magnetic recording and reproducing head having thin magnetic shield film on side surfaces | |
| US4843507A (en) | Magnetic head with laminated structure | |
| JPS60175208A (ja) | 薄膜磁気ヘツド | |
| US5267392A (en) | Method of manufacturing a laminated high frequency magnetic transducer | |
| US5218499A (en) | Thin-film magnetic head for perpendicular magnetic recording having a magnetic member with grooves crossing at right angles formed in a principal surface thereof | |
| JPH0476171B2 (ja) | ||
| JPH07109648B2 (ja) | 垂直磁気記録再生薄膜ヘッド用溝構造磁性基板 | |
| US5198950A (en) | Thin-film perpendicular magnetic recording and reproducing head | |
| JP2720097B2 (ja) | 垂直磁気記録再生薄膜ヘッド | |
| JP2991589B2 (ja) | 薄膜磁気ヘッド及び磁気ディスク装置 | |
| JPH04307408A (ja) | 垂直磁気記録再生薄膜ヘッド | |
| JPH03252909A (ja) | 垂直磁気記録再生薄膜ヘッド用溝構造磁性基板 | |
| JP2891817B2 (ja) | 磁気ヘッド製造方法 | |
| JP2761969B2 (ja) | 垂直磁気記録再生薄膜ヘッド用積層基板 | |
| JPH02132615A (ja) | 垂直磁気記録再生薄膜ヘッド | |
| JP2509073Y2 (ja) | 磁気ヘッド | |
| JP2977112B2 (ja) | 磁気ヘッドの製造方法 | |
| JPH0250311A (ja) | 垂直磁気記録再生薄膜ヘッド用溝構造磁性基板 | |
| JPH01133211A (ja) | 薄膜磁気ヘッド及びその製造方法 | |
| JPH034963B2 (ja) | ||
| JPH0250310A (ja) | 垂直磁気記録再生薄膜ヘッド |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| S533 | Written request for registration of change of name |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533 |
|
| R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |