JPS5851071A - ウエ−ハの片面ラツピング方法 - Google Patents

ウエ−ハの片面ラツピング方法

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Publication number
JPS5851071A
JPS5851071A JP56149965A JP14996581A JPS5851071A JP S5851071 A JPS5851071 A JP S5851071A JP 56149965 A JP56149965 A JP 56149965A JP 14996581 A JP14996581 A JP 14996581A JP S5851071 A JPS5851071 A JP S5851071A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
lapping
wafers
wafer
pair
sided
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP56149965A
Other languages
English (en)
Inventor
Shigeo Tanji
丹治 成生
Noboru Wakatsuki
昇 若月
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujitsu Ltd
Original Assignee
Fujitsu Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Fujitsu Ltd filed Critical Fujitsu Ltd
Priority to JP56149965A priority Critical patent/JPS5851071A/ja
Publication of JPS5851071A publication Critical patent/JPS5851071A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Classifications

    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B24GRINDING; POLISHING
    • B24BMACHINES, DEVICES, OR PROCESSES FOR GRINDING OR POLISHING; DRESSING OR CONDITIONING OF ABRADING SURFACES; FEEDING OF GRINDING, POLISHING, OR LAPPING AGENTS
    • B24B37/00Lapping machines or devices; Accessories
    • B24B37/04Lapping machines or devices; Accessories designed for working plane surfaces
    • B24B37/07Lapping machines or devices; Accessories designed for working plane surfaces characterised by the movement of the work or lapping tool
    • B24B37/08Lapping machines or devices; Accessories designed for working plane surfaces characterised by the movement of the work or lapping tool for double side lapping

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Mechanical Treatment Of Semiconductor (AREA)
  • Finish Polishing, Edge Sharpening, And Grinding By Specific Grinding Devices (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、片面のみ鐘面仕上げを必要とするウェーハの
片面ラッピング方法に関する。
ニオブ酸リチウム(LiNbOs )やシリコン(81
)等の単結晶インゴットを薄く切断してなるウェーハ[
>いて、一方の面に入の出力トランスジ.−サ等をパタ
ーン形成してなる弾性表面波素子用ウェーハの如く、片
面のみを鈍面仕上げすればよいものがある。
かかるウェーハは片面κポリシング加工の前加工となる
ラッピング加工を施せばよいことになるが、ウェーハが
薄くて割れ易いこと、片面ラッピング装雪は各つ翼−^
の上にラッピング用かも力を載置スる又拡うップ皿に接
着することが必要でビッグ装置を194iIIL1にけ
ればならないこと等の理由によ〉、従来は両面ラッピン
グ装置を用いて使用しない面をもラッピングしていた。
本発明の目的は使用しない面のラッピング加工を無くす
とともKII置の生産性を高めることであり、この目的
は!対のウェーハをその厚さ方向に重ねた状鯵で両面ラ
ッピング装置のキャリヤに遊挿し、前記対をなすウェー
ハの各外側表面を同時加工することを特像としたウェー
ハの片面ラッピング方法を提供して達成される。
υ下、図mを用いて本発明方法をさらに群細に説明する
第19祉本発明の一1I施例に係わ)複数のウェーハ対
をラッピング中の両面ラッピング装置要部を示す切断m
1lt’ToJl、 1は図示しない装置の駆動機構に
より回転する下ラップ板、2Fi前記駆動機構によ)偏
心回転するビン、3は上ラップ板、4は偏心ビン2に、
所定の穴が嵌合して偏心回転するキャリヤ、5はキャリ
ヤ4に遊挿されτ回動するウェーハ対である。
そして、下ラップ板1の上面と上ラップ板3の下面とで
2枚のウェーハ5−1及び5−零からなるウェーハ対5
を挾み、かつ、所要圧力を複数の各ウェーハ対15に付
加寧ぜてラッピンク装置を駆動し、研摩材にラップ液を
混合したラップ剤をラップ板1及び3に供給すると、ウ
ェーハ5−1の上面及びウェーハ5−富の下面はラッピ
ングされて所望の平滑面にされる。feだし、キャ17
ヤ4の厚さはウェーハ5−1及び5−衾よル厚いものを
使用する。
従−)て、1回の前記装置駆動によシラッピンクされ一
方の表面が平滑化されたウェーハの数はキャリヤ4に嵌
装しに′全つ!11.”’対の2倍となシ、仁れは使用
しない他方の面を1ラツピングした従来方法の2倍量に
なる。
かかるウェーハの片面ラッピング方法におい丁  ゛厚
さ方向に重ねた状態のウェーへ対5蝶、2枚のウェーハ
5−1と5−ををただ単に重ねて、又は接着剤で接着す
ることにより構成される[株]第2図はつ翼−ハト1と
5−2を単に重ねたときの一部分を拡大して示す側断面
図であシ、結晶インゴットをスライス!シンで切断した
ウェーハ5−1と5−雪の接合面は、通常図示の如く、
徽細な凹凸が形成されているため、、重ねるとともに所
要のラップ圧力が付加されたとき、前記凹凸の一部がか
み合うようになって横方向にほぼずれないように&る。
。 1[3図は接着、層6を介してウェーハ5〜1と5−J
を接着した一部分を拡大して示す側断面図であ)、ウェ
ーハ5−1と5−11の相方又は一方の前記接合面凹凸
が小事い、又はウェーハに切断したときのそりが此験的
大きい等の大め、接合面の横滑シが生じてラッピング精
度を確保できない、或いは門エーハが破損するようなと
きに適用して有効である。さらに、接着層6がエレクト
ロン・ワックスの如く固化して適宜の緩衝性を有する接
着剤で構成したとき、前記効果はさらKM実となるのみ
ならず、装置外及びat駆動部よシ伝見られた振動等の
外力に対してウェーハを保護する効果をも有する。
第4図はマイラ等の如く緩衝性を有するシート(緩衝層
)7及びシート7を挾む接着層8を介して、ウェーハ5
−1と5−1!を接合した一部分を拡大して示す側断面
図であり、ウェー^のそ〕が著しく大きい等の1由によ
り第2図及び第3図に示し′fe接合手段ではウェーハ
が破損する、又は所望のラッピング精度が確保され難い
とtkK%有効である。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 (1)  ニオブ酸リチウムやシリコン等の単結晶イン
    ゴットを薄く切断してなるウェーハの片面をラッピング
    する方法において、1対のつ翼−ハはその厚さ方向に重
    ねた状態で両面ラッピング装置のキャリヤに遊挿し、前
    記対をなすつ8−ハの各外側嵌置を同時加工することを
    特徴としたつ、−ハの片面ラッピング方法。 (2)1対のウェーハは緩衝層を介し、その厚さ方向に
    重ねて接着す、ることを特徴とした前記特許請求の範囲
    第(1)項に記載したつx ”−” O片面う、ピング
    方法。 (8)  緩衝層としてマイラ尋にてなる緩衝シートを
    介在させることを特徴とする特許 囲第《2)項κ配載したウェーハの片面ラッピング方法
    。 《4》  緩衝層は固化したとき緩衝性を有する接着剤
    にて形成することを特徴とした前記特許請求の範囲第(
    2)項に記載したウェーハの片面ラッピング方法。 (5》  自転するラッピング装置のキャリヤに遊挿し
    た1対のウェーハは、遊挿穴内で回転することなく加工
    されることを特徴とした、前記特許請求の範囲第(1》
    項に記載したウェーハの片面ラッピング方法。
JP56149965A 1981-09-22 1981-09-22 ウエ−ハの片面ラツピング方法 Pending JPS5851071A (ja)

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JPS5851071A true JPS5851071A (ja) 1983-03-25

Family

ID=15486475

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JP (1) JPS5851071A (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS59115159A (ja) * 1982-12-22 1984-07-03 Toshiba Mach Co Ltd 両面ポリツシング装置による片面ポリツシング方法
JPH03281207A (ja) * 1990-03-30 1991-12-11 Achilles Corp 着色合成樹脂粒およびこれを用いた合成樹脂シート

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS59115159A (ja) * 1982-12-22 1984-07-03 Toshiba Mach Co Ltd 両面ポリツシング装置による片面ポリツシング方法
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