JPS584742A - ケトンの製造方法 - Google Patents
ケトンの製造方法Info
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- JPS584742A JPS584742A JP10133381A JP10133381A JPS584742A JP S584742 A JPS584742 A JP S584742A JP 10133381 A JP10133381 A JP 10133381A JP 10133381 A JP10133381 A JP 10133381A JP S584742 A JPS584742 A JP S584742A
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C45/00—Preparation of compounds having >C = O groups bound only to carbon or hydrogen atoms; Preparation of chelates of such compounds
- C07C45/27—Preparation of compounds having >C = O groups bound only to carbon or hydrogen atoms; Preparation of chelates of such compounds by oxidation
- C07C45/32—Preparation of compounds having >C = O groups bound only to carbon or hydrogen atoms; Preparation of chelates of such compounds by oxidation with molecular oxygen
- C07C45/33—Preparation of compounds having >C = O groups bound only to carbon or hydrogen atoms; Preparation of chelates of such compounds by oxidation with molecular oxygen of CHx-moieties
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- C07C45/30—Preparation of compounds having >C = O groups bound only to carbon or hydrogen atoms; Preparation of chelates of such compounds by oxidation with halogen containing compounds, e.g. hypohalogenation
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- C07C45/34—Preparation of compounds having >C = O groups bound only to carbon or hydrogen atoms; Preparation of chelates of such compounds by oxidation with molecular oxygen of CHx-moieties in unsaturated compounds
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
技術分野
本発明は、オレフィンを酸化してケトンを製造する方法
に関し、よシ詳しくは特に炭素数4以上のn−オレフィ
ンを酸化してケトンを効率よく製造する方法に関する。
に関し、よシ詳しくは特に炭素数4以上のn−オレフィ
ンを酸化してケトンを効率よく製造する方法に関する。
(5)
パラジウム化合物、銅化合物及びハロゲンの存在下にオ
レフィンを酸化してカルボニル化合物と製造するいわゆ
るヘキスト・ワラカー法は従来から知られておシ、この
方法によジエチレンからアセトアルデヒド。プロピレン
からアセトンが工業的に製造されている。
レフィンを酸化してカルボニル化合物と製造するいわゆ
るヘキスト・ワラカー法は従来から知られておシ、この
方法によジエチレンからアセトアルデヒド。プロピレン
からアセトンが工業的に製造されている。
しかしながら、炭素数4以上の高級オレフィンからのケ
トンの製造法は、■反応速度が遅く、内部オレフィンは
末端オレフィンよシも遅い、■アルデヒド2塩素化ケト
ン等の副生成物が多い、■塩化水素による装置の腐蝕が
激しい等の理由から未だ工業化に到っていない。
トンの製造法は、■反応速度が遅く、内部オレフィンは
末端オレフィンよシも遅い、■アルデヒド2塩素化ケト
ン等の副生成物が多い、■塩化水素による装置の腐蝕が
激しい等の理由から未だ工業化に到っていない。
先行技術
高級オレフィンからケトンの製造法における上記の問題
点のいくつかを解消することを目的として、以前からい
くつかの試みがなされている。
点のいくつかを解消することを目的として、以前からい
くつかの試みがなされている。
例えば、パラジウム化合物と硫酸第二鉄の水溶液の存在
下、n−ブテン、特に2−ブテンを酸化してメチルエチ
ルケトンの収率1選択率を(6) 改善する方法(特公昭46−2010号公報)。
下、n−ブテン、特に2−ブテンを酸化してメチルエチ
ルケトンの収率1選択率を(6) 改善する方法(特公昭46−2010号公報)。
アルコール、ポリオール、スルホラン、ジメチルホルム
アミド等の含酸素化合物からなる溶剤を存在させて、高
級末端オレフィンの酸化によるメチルケトンの収率を向
上させる方法〔ジャーナル・オブ・オーガニック・ケミ
ストリー、υ、241(1964):同、ムは6949
、(1969):同、土?、3276(1974))。
アミド等の含酸素化合物からなる溶剤を存在させて、高
級末端オレフィンの酸化によるメチルケトンの収率を向
上させる方法〔ジャーナル・オブ・オーガニック・ケミ
ストリー、υ、241(1964):同、ムは6949
、(1969):同、土?、3276(1974))。
界面活性剤及び相関移動触媒の存在下、低温で酸化を行
なわせ、目的とするケトンへの選択率の向上を計る方法
(特開昭54−16419号公報)等が知られている。
なわせ、目的とするケトンへの選択率の向上を計る方法
(特開昭54−16419号公報)等が知られている。
しかしながら、これら公知の方法においても依然として
、前記の問題点の完全な解消には到っていかい。
、前記の問題点の完全な解消には到っていかい。
又、パラジウム塩及び銅塩からなる触媒にアミン又はそ
のハロゲン化水素塩を共存させてカルボニル化O反応速
度を向上させる方法(持分WB43−21402号公報
)が知られている。
のハロゲン化水素塩を共存させてカルボニル化O反応速
度を向上させる方法(持分WB43−21402号公報
)が知られている。
その発明においては、トリメチルアミン、トリ(7)
エチルアミン等のトリアルキルアミン又はトリエタノー
ルアミン等の第三級アミンを用いているが、これら第三
級アミンを用いるととによる効果は十分ではない。
ルアミン等の第三級アミンを用いているが、これら第三
級アミンを用いるととによる効果は十分ではない。
発明の開示
本発明者らは、オレフィン、特に高級オレフィンの酸化
によるケトンの工業化につながる製造法を提供すべく鋭
意研究を続けた結果、パラジウム、銅及びハロゲンを含
む触媒系に特定の第三級アミンを共存させることによシ
、反応速度と選択率を改良し、装置の腐蝕を低減し得る
ことを見出して本発明?完成した。
によるケトンの工業化につながる製造法を提供すべく鋭
意研究を続けた結果、パラジウム、銅及びハロゲンを含
む触媒系に特定の第三級アミンを共存させることによシ
、反応速度と選択率を改良し、装置の腐蝕を低減し得る
ことを見出して本発明?完成した。
発明の要旨
すなわち、本発明はパラジウム、銅、ハロゲ第三級アミ
ンの一檀又は二種以上を含む触媒の存在下、n−オレフ
ィンを酸化することからな(8) るケトンの製造法を要旨とする。
ンの一檀又は二種以上を含む触媒の存在下、n−オレフ
ィンを酸化することからな(8) るケトンの製造法を要旨とする。
オレフィン
本発明で用いられるオレフィンは炭素数3〜12個の直
鎖のモノオレフィンであシ、炭素−炭素の二重結合がオ
レフィンの末端の炭素−炭素結合にある末端オレフィン
及び内部の炭素−炭素結合にある内部オレフィンが含ま
れる。
鎖のモノオレフィンであシ、炭素−炭素の二重結合がオ
レフィンの末端の炭素−炭素結合にある末端オレフィン
及び内部の炭素−炭素結合にある内部オレフィンが含ま
れる。
それらtSげろと、プロピレン、1−ブテン、2−ブテ
ン、1−ペンテン% 2−ペンテン、1−ヘキセン、2
−ヘキセン、3−ヘキセン、1−ヘプテン、2−ヘプテ
ン、1−オクテン、2−オクテン等である。
ン、1−ペンテン% 2−ペンテン、1−ヘキセン、2
−ヘキセン、3−ヘキセン、1−ヘプテン、2−ヘプテ
ン、1−オクテン、2−オクテン等である。
本発明においては、従来法では末端オレフィンに比べ反
応速度が遅く、原料として有利でなかった内部オレフィ
ンも問題なく使用でき目的とするケトンt−製造し得る
という特徴がある。
応速度が遅く、原料として有利でなかった内部オレフィ
ンも問題なく使用でき目的とするケトンt−製造し得る
という特徴がある。
又、従来法においては、インオレフィンが原料に含まれ
ていると、インオレフィンが優先して反応し、n−オレ
フィンの酸化を阻害すると共に%インオレフィンの反応
によシ生成した生成(9) 物を除去する必要があった。これに対して、本発明にお
いては、n−オレフィンのみが選択的に酸化してカルボ
ニル化合物になるので、インオレフィンを含んだ原料を
も使用できるという特徴がある。
ていると、インオレフィンが優先して反応し、n−オレ
フィンの酸化を阻害すると共に%インオレフィンの反応
によシ生成した生成(9) 物を除去する必要があった。これに対して、本発明にお
いては、n−オレフィンのみが選択的に酸化してカルボ
ニル化合物になるので、インオレフィンを含んだ原料を
も使用できるという特徴がある。
従って、本発明は末端オレフィン、内部オレフィン、イ
ンオレフィンを富む原料をそのまま使用することが可能
である。特に、本発明はインブテン、1−ブテン、2−
ブテンを含むいわゆる04留分を原料として用いてメチ
ルエチルケトンを製造する場合に有利である。
ンオレフィンを富む原料をそのまま使用することが可能
である。特に、本発明はインブテン、1−ブテン、2−
ブテンを含むいわゆる04留分を原料として用いてメチ
ルエチルケトンを製造する場合に有利である。
又、原料中にパラフィン系炭化水素が含まれていても何
んら悪影響を及はさないが、ジオレフィン系、アセチレ
ン性不飽和炭化水素を含む場合は、それらを除去するが
、選択水添してモノオレフィンにするのが望せしい。
んら悪影響を及はさないが、ジオレフィン系、アセチレ
ン性不飽和炭化水素を含む場合は、それらを除去するが
、選択水添してモノオレフィンにするのが望せしい。
触媒
本発明で用いられる触媒は、パラジウム、銅、ハロゲン
及び特定の第三級アミンを含むものである。
及び特定の第三級アミンを含むものである。
(10)
1)パラジウム
パラジウム源としては、パラジウム化合物であり、好適
には、塩化パラジウム、臭化パラジウム、酢酸パラジウ
ム、硫酸パラジウム等を使用することができる。又、そ
の場で上記パラジウム化合物を生成し得るならば、金属
パラジウムも使用することができる。
には、塩化パラジウム、臭化パラジウム、酢酸パラジウ
ム、硫酸パラジウム等を使用することができる。又、そ
の場で上記パラジウム化合物を生成し得るならば、金属
パラジウムも使用することができる。
2)銅
銅源としては、銅化合物であわ、塩化第二銅、塩化第一
銅、臭化第二銅、臭化第一銅、硫酸第二銅、酢酸第二銅
等が好適である。又、その場で上記銅化合物を生成し得
るならば、金属銅も使用することができる。
銅、臭化第二銅、臭化第一銅、硫酸第二銅、酢酸第二銅
等が好適である。又、その場で上記銅化合物を生成し得
るならば、金属銅も使用することができる。
3)ハロゲン
ハロゲン源としては、前記パラジウム化合物及び/又は
銅化合物としてハロゲン化物を用いる場合はそれらをハ
ロゲン源とすることができるが、ハロゲン化パラジウム
及び/又はハロゲン化銅を用い々い場合、或いはそれら
を用いても所要のハロゲン量に達しない場合には、塩化
(11) 水素、臭化水素等のハロゲン化水素、塩素、臭素等のハ
ロゲン、塩化ナトリウム、塩化カリウム、塩化リチウム
、臭化カリウム等のアルカリ金属のハロゲン化物、塩化
カルシウム、塩化マグネシウム、臭化カルシウム等のア
ルカリ土類金属のハロゲン化物を用いることができる。
銅化合物としてハロゲン化物を用いる場合はそれらをハ
ロゲン源とすることができるが、ハロゲン化パラジウム
及び/又はハロゲン化銅を用い々い場合、或いはそれら
を用いても所要のハロゲン量に達しない場合には、塩化
(11) 水素、臭化水素等のハロゲン化水素、塩素、臭素等のハ
ロゲン、塩化ナトリウム、塩化カリウム、塩化リチウム
、臭化カリウム等のアルカリ金属のハロゲン化物、塩化
カルシウム、塩化マグネシウム、臭化カルシウム等のア
ルカリ土類金属のハロゲン化物を用いることができる。
3)第三級アミン
第三級アミンとしては、下記の■〜■の一般式で表わさ
れる化合物の中から選ばれる。
れる化合物の中から選ばれる。
■ RI R” R8N
但し R1=−炭素数6〜20個のアリール、炭素数2
〜16個のアシル、炭素数7 〜20個のアルアルキル又は炭素数 1〜16個のアルキルの水素原子を ハロゲン原子、炭素数1〜12個の アルコキシ若しくは炭素数2〜16 個のアシルで置換した置換アルキル。
〜16個のアシル、炭素数7 〜20個のアルアルキル又は炭素数 1〜16個のアルキルの水素原子を ハロゲン原子、炭素数1〜12個の アルコキシ若しくは炭素数2〜16 個のアシルで置換した置換アルキル。
R2、Rs−炭素数1〜16個のアルキル、炭素数6〜
20個のアリール、炭素 数2〜16個のアシル、炭素数7〜 (12) 20個のアルアルキル又は該ア ルキシの水素原子をハロゲン源 子、炭素数1〜12個のアルコ キシ若しくは炭素数2〜16個 のアシルで置換した置換アルキ ル。R2とR3は同じでも異って もよい。
20個のアリール、炭素 数2〜16個のアシル、炭素数7〜 (12) 20個のアルアルキル又は該ア ルキシの水素原子をハロゲン源 子、炭素数1〜12個のアルコ キシ若しくは炭素数2〜16個 のアシルで置換した置換アルキ ル。R2とR3は同じでも異って もよい。
上記の一般式に含まれる化合物として次のものを絡げる
ことができる。
ことができる。
トリフェニルアミン、ジフェニルメチルアミン、フェニ
ルジメチルアミン、トリベンジルアミン、ジベンジルメ
チルアミン、ベンジルジメチルアミン、ジベンジルフェ
ニルアミン、ジフェニルベンジルアミン、 ) IJ
(2−メトキシエチル)アミン、トリ(エトキシメチ
ル)アしへ) IJ (2−クロロエチル)アミン、1
J(2−フルオロエチル)アミン、N、M−ジメチルア
セトアミド、N、N−ジエチルアセトアミド、N、N−
ジメチルベンズアミド、N−メチルアセトアニリド、N
、N−ジメチルアセチルアセトアミド。
ルジメチルアミン、トリベンジルアミン、ジベンジルメ
チルアミン、ベンジルジメチルアミン、ジベンジルフェ
ニルアミン、ジフェニルベンジルアミン、 ) IJ
(2−メトキシエチル)アミン、トリ(エトキシメチ
ル)アしへ) IJ (2−クロロエチル)アミン、1
J(2−フルオロエチル)アミン、N、M−ジメチルア
セトアミド、N、N−ジエチルアセトアミド、N、N−
ジメチルベンズアミド、N−メチルアセトアニリド、N
、N−ジメチルアセチルアセトアミド。
(16)
但し、R1、R11,枦 H4−炭素数1〜16個のア
ルキル、炭素数6〜20個のアリ アルキルの水素原子をハロゲン原子、 炭素数1〜12個のアルコキシ若し くは炭素数2〜16個のアシルで置 換した置換アルキルでR1、H* 、 Bl。
ルキル、炭素数6〜20個のアリ アルキルの水素原子をハロゲン原子、 炭素数1〜12個のアルコキシ若し くは炭素数2〜16個のアシルで置 換した置換アルキルでR1、H* 、 Bl。
R4は同じで4異ってもよい。
R6−炭素数1〜8個のアルキレン又は炭素数6〜12
個のアリーレン。
個のアリーレン。
上記の一般式に含まれる化合物としては、N。
N、 n: N′−テトラフェニルエチレンシアはン、
N。
N。
N、 N: N/−テトラメチル−p−フェニレンジア
ミン、 N、 N、 N: N’−テトラベンジルエチ
レンジアミン、N、 N、IIJ:N’−テトラアセチ
ル−p−キシリレンジアミン&N、 N、 H: N’
−テトラメチルコハク酸アミド等を挙けることができる
。
ミン、 N、 N、 N: N’−テトラベンジルエチ
レンジアミン、N、 N、IIJ:N’−テトラアセチ
ル−p−キシリレンジアミン&N、 N、 H: N’
−テトラメチルコハク酸アミド等を挙けることができる
。
(14)
但1〜、R1−炭素数1〜16個のアルキル、炭素数6
〜20個のアリール、炭素数 2〜16個のアシル、炭素数7〜 20個のアルアルキル又は該アルキ ルの水素原子をハロゲン原子、炭素 数1〜12個のアルコキシ若しくは 炭素数2〜16個のアシルで置換し た置換アルキル。
〜20個のアリール、炭素数 2〜16個のアシル、炭素数7〜 20個のアルアルキル又は該アルキ ルの水素原子をハロゲン原子、炭素 数1〜12個のアルコキシ若しくは 炭素数2〜16個のアシルで置換し た置換アルキル。
R2−■炭素数3〜6個のアルキレン。
@該アルキレンの水素原子を炭素
数1〜8個のアルキル、炭素数6〜
20個のアリール、炭素数2〜16
個のアシル、炭素数7〜20個のア
ルアルキル若しくはハロゲン原子で
置換した置換アルキレン、
θ 式;−(on、)m−o−(on、)n−5但し、
m、nw1〜5.(m十 n)よ3−+6 (15) 0 0 但し、n1ll12〜4 上記の一般式に含まれる化合物として次のものを洋ける
ことができる。
m、nw1〜5.(m十 n)よ3−+6 (15) 0 0 但し、n1ll12〜4 上記の一般式に含まれる化合物として次のものを洋ける
ことができる。
N−アセチルピロリジン、N−アセチルピペリジン、N
−フェニルピロリジン、H,7,:c=ルヒヘリジン、
N−(2−クロロエチル)−ピロリジン、N−(2−ク
ロロエチル)−ピペリジン&N−アセチルメチルピロリ
ジン、N−アセチルメチルピペリジン、N−ベンジルピ
ロリジン、N−(メトキシメチル)−ピロリジン。
−フェニルピロリジン、H,7,:c=ルヒヘリジン、
N−(2−クロロエチル)−ピロリジン、N−(2−ク
ロロエチル)−ピペリジン&N−アセチルメチルピロリ
ジン、N−アセチルメチルピペリジン、N−ベンジルピ
ロリジン、N−(メトキシメチル)−ピロリジン。
N−フェニルモルポリン、N−アセチルモルホリン、N
−メチルモルホリン、N−メチル−2−フェニルピロリ
ジン、N−アセチル−2−フェニルピロリジン&N−メ
チル−2−トリクロロメチルピロリジン、N−メチル−
2−トリクロロメチルピペリジン、N−メチルコハク酸
イミド、N、2,2.6.6−ペンタメチルピペリジン
。
−メチルモルホリン、N−メチル−2−フェニルピロリ
ジン、N−アセチル−2−フェニルピロリジン&N−メ
チル−2−トリクロロメチルピロリジン、N−メチル−
2−トリクロロメチルピペリジン、N−メチルコハク酸
イミド、N、2,2.6.6−ペンタメチルピペリジン
。
(16)
但し、R1,R”−炭素数1〜16個のアルキル。
炭素数6〜20個アリール、炭素数
2〜16個のアシル、炭素数7〜
20個のアルアルキル又は該アルキ
ルの水素原子をノ・ロゲン原子、炭素
数1〜12個のアルコキシ若しくは
炭素数2〜16個のアシルで置換し
た置換アルキル。R’、R”は同じでも異ってもよい。
Ha、R4−■炭素数1〜6個のアルキレン、
@該アルキレンの水素原子を炭素数
1〜8個のアルキル、炭素数6〜
20個のアリール、炭素数2〜16
個のアシル、炭素数7〜20個のア
ルアルキル若しくはハロゲン原子で
置換した置換アルキレン、
θ 式ニー(OH2)m−Q−(OHI)n−1(17
) 但し、Ill、nx1〜5.(m+n)IllI3 〜
6 0 式: −(OHI)m−0−(OH2)n−又は1 但し、m、n=*0〜5、(In+n)曙 2〜6 0 0 但し、n薫2〜4 Ha 、 R4は同じでも異ってもよい。
) 但し、Ill、nx1〜5.(m+n)IllI3 〜
6 0 式: −(OHI)m−0−(OH2)n−又は1 但し、m、n=*0〜5、(In+n)曙 2〜6 0 0 但し、n薫2〜4 Ha 、 R4は同じでも異ってもよい。
上記の一般式に含まれる化合物としては、N。
N′−ジアセチルピペラジン、N、N’−ジフェニルピ
ペラジン、’N、N’−ジメチルー2.5−ジオキンピ
ペラジン、N、N’−ジ(2−クロロエチル)−2,5
−ジエチルピペラジン、1.7−ジメチ、4−1.7−
ジアザ−4,10−ジオキンシクロドデカ7.1.5−
ジメチル−1,5−ジアザ−2,4−ジオキンシクロへ
ブタン等が繕げられる。
ペラジン、’N、N’−ジメチルー2.5−ジオキンピ
ペラジン、N、N’−ジ(2−クロロエチル)−2,5
−ジエチルピペラジン、1.7−ジメチ、4−1.7−
ジアザ−4,10−ジオキンシクロドデカ7.1.5−
ジメチル−1,5−ジアザ−2,4−ジオキンシクロへ
ブタン等が繕げられる。
本発明で用いられる触媒は、パラジウム、銅、ハロゲン
及び特定の第三級アミンを含むもので(18) あるが、通常は前記の各化合物を水に溶解することによ
り触媒とすることができる。
及び特定の第三級アミンを含むもので(18) あるが、通常は前記の各化合物を水に溶解することによ
り触媒とすることができる。
この触媒系におけるパラジウムの含有針は、パラジウム
として[′L1〜100ミリグラム原子/J、好ましく
は[15〜20ミリグラム原子/!である。銅の含有量
は、パラジウムに対して原子比で1〜500倍、好まし
くは2〜200倍である。ハロゲンの含有量は、銅に対
して原子比で11〜10倍、好ましくは15〜!1倍で
ある。又、特定のアミンの含有量は、ハロゲンに対して
該アミン中の窒素が原子比で1〜1,000倍、好まし
くij:2〜500倍である。
として[′L1〜100ミリグラム原子/J、好ましく
は[15〜20ミリグラム原子/!である。銅の含有量
は、パラジウムに対して原子比で1〜500倍、好まし
くは2〜200倍である。ハロゲンの含有量は、銅に対
して原子比で11〜10倍、好ましくは15〜!1倍で
ある。又、特定のアミンの含有量は、ハロゲンに対して
該アミン中の窒素が原子比で1〜1,000倍、好まし
くij:2〜500倍である。
オレフィンの酸化反応
本発明の方法if、n−オレフィンを含有する原料を前
記の触媒と接触させることによシ達成されるが、その方
式としてFi、酸素の存在下で接触させる一段法及び酸
素の不存在下で両者上接触させた後、触媒の酸化再生反
応を行う二段法のどちらも採用することができる。
記の触媒と接触させることによシ達成されるが、その方
式としてFi、酸素の存在下で接触させる一段法及び酸
素の不存在下で両者上接触させた後、触媒の酸化再生反
応を行う二段法のどちらも採用することができる。
オレフィンの酸化反応は、原料オレフィンと(19)
触媒をよく接触させることが望ましく、それは通常、両
者を混合し、激しく攪拌させる等の機械的接触方法によ
υ達成されるが、両者の接触を容易にならしめるために
、含酸素有機化合物からなる溶媒の存在下接触させても
よい。
者を混合し、激しく攪拌させる等の機械的接触方法によ
υ達成されるが、両者の接触を容易にならしめるために
、含酸素有機化合物からなる溶媒の存在下接触させても
よい。
用い得る溶媒としては、メタノール、エタノール等のア
ルコール、エチレングリコール、フロピレンゲリコール
等のポリオール、ジ−n−ブチルエーテル、ジインブチ
ルエーテル等のエーテル、ポリエチレングリコール、ポ
リプロピレングリコール等のポリアルキレングリコール
、酢酸エチル、酢酸n−ブチル等のエステル、アセトン
、メチルエチルケトン等のケトン、ギ酸、酢酸等のカル
ボン酸等を楯げることができる。
ルコール、エチレングリコール、フロピレンゲリコール
等のポリオール、ジ−n−ブチルエーテル、ジインブチ
ルエーテル等のエーテル、ポリエチレングリコール、ポ
リプロピレングリコール等のポリアルキレングリコール
、酢酸エチル、酢酸n−ブチル等のエステル、アセトン
、メチルエチルケトン等のケトン、ギ酸、酢酸等のカル
ボン酸等を楯げることができる。
オレフィンの酸化反応の反応条件は、40〜140℃、
好ましくは50〜110℃の反応温度、1〜50気圧、
好ましくは3〜20気圧の反応圧力、15分〜10時間
、好ましくij:[15〜5時間の反応時間である。又
、一段法における酸素の分圧は1〜15気圧が好ましい
。オレ(20) フィンと触媒の接触割合は、触媒中のパラジウム1グラ
ム原子当ヤ、二段法ではオレフィンが10〜500モル
、好ましくは20〜300モルであ)、一段法では50
〜2. OO0モル、好ましくは100〜1.000モ
ルである。
好ましくは50〜110℃の反応温度、1〜50気圧、
好ましくは3〜20気圧の反応圧力、15分〜10時間
、好ましくij:[15〜5時間の反応時間である。又
、一段法における酸素の分圧は1〜15気圧が好ましい
。オレ(20) フィンと触媒の接触割合は、触媒中のパラジウム1グラ
ム原子当ヤ、二段法ではオレフィンが10〜500モル
、好ましくは20〜300モルであ)、一段法では50
〜2. OO0モル、好ましくは100〜1.000モ
ルである。
オレフィンと触媒の接触は、バッチ式、連続式のいずれ
でもよく、その接触は一段のみならず、多段で行うこと
ができる。
でもよく、その接触は一段のみならず、多段で行うこと
ができる。
本発明の方法によ如生成したケトンは、反応系から通常
採用される方法によ如1分離回収することができる。
採用される方法によ如1分離回収することができる。
発明の効果
本発明は1次のように極めて優れた効果を有する。
1)直鎖オレフィンの酸化反応が早い。特に炭素数が4
個以上の高級n−オレフィ/の酸化反応速度が、公知の
方法に比べ大きいので、高級n−オレフィンからのケト
ンの工業的生産が可能となる。
個以上の高級n−オレフィ/の酸化反応速度が、公知の
方法に比べ大きいので、高級n−オレフィンからのケト
ンの工業的生産が可能となる。
2)α−オレフィンにおける末端炭素骨核部の(21)
酸化によるアルデヒドの生成が抑えられ、メチルケトン
への生成が促進されるので、ケトンへの選択率が高い。
への生成が促進されるので、ケトンへの選択率が高い。
3)内部オレフィンの酸化反応が早く、又ケトンへの選
択率が高いので、広範囲の原料炭化水素を用いることが
できる。
択率が高いので、広範囲の原料炭化水素を用いることが
できる。
4)インオレフィンの酸化反応が抑えられる。
従って、従来は必須であった原料炭化水素中のインオレ
フィン除去工程を省略できる。
フィン除去工程を省略できる。
5)塩素化ケトン等の副反応生成物の生成が抑制される
ので、副反応生成物の分離除去工程を簡略化することが
でき、又ケトンの純度が向上する。
ので、副反応生成物の分離除去工程を簡略化することが
でき、又ケトンの純度が向上する。
6)装置の腐食が減少する。
以下、本発明を実施例により詳細に説明する。
実施例1
ポリテトラフルオルエチレンで内部被覆したステンレス
製オートクレーブに、塩化パラジウム1ミリモル、塩化
第二銅100ミリモル、ジフェニルメチルアミン400
ミリモル及び水1(22) !を入れた。プロピレンを50ミリモル圧入し、70℃
で1時間激しく攪拌してプロピレンの酸化反応を行った
。反応終了後、オートクレーブを急冷し、未反応のプロ
ピレンを排出した。
製オートクレーブに、塩化パラジウム1ミリモル、塩化
第二銅100ミリモル、ジフェニルメチルアミン400
ミリモル及び水1(22) !を入れた。プロピレンを50ミリモル圧入し、70℃
で1時間激しく攪拌してプロピレンの酸化反応を行った
。反応終了後、オートクレーブを急冷し、未反応のプロ
ピレンを排出した。
反応混合物を分析した結果、プロピレンの転化率は58
%、アセトンへの選択率は99.4 %、クロロアセト
ンへの選択率は[12%であることが分った。
%、アセトンへの選択率は99.4 %、クロロアセト
ンへの選択率は[12%であることが分った。
実施例2
第三級アミンとしてN、 N、 kJ: N’−テトラ
フェニルエチレンジアミン、オレフィンとして1−ブテ
ンを用いた以外は実施例1と同様にして酸化反応を行い
、その結果を第1表に示した。
フェニルエチレンジアミン、オレフィンとして1−ブテ
ンを用いた以外は実施例1と同様にして酸化反応を行い
、その結果を第1表に示した。
実施例3
第三級アミンとしてトリ(β−クロロエテル)アミン、
オレフィンとして2−ブテンを用いた以外は、実施例1
と同様にして酸化反応を行い、その結果を第1表に示し
た。
オレフィンとして2−ブテンを用いた以外は、実施例1
と同様にして酸化反応を行い、その結果を第1表に示し
た。
比較例1〜3
実施例1〜3において、第三級アミンをそれ(25)
ぞれ用いない以外は、実施例1〜3と同様にして酸化反
応を行いその結果分納1表に示した。
応を行いその結果分納1表に示した。
/
(24)
実施例4
実施例1で用いたオートクレーブに、塩化パラジウム2
ミリモル、塩化第二銅20ミリモル。
ミリモル、塩化第二銅20ミリモル。
トリベンジルアミン50ミリモル及び水1!を入れた。
プロピレン115モルを圧入し、さらに酸素を圧入して
、酸素分圧5気圧、70℃で1時間激しく攪拌して反応
を行った。反応終了後。
、酸素分圧5気圧、70℃で1時間激しく攪拌して反応
を行った。反応終了後。
反応混合物を分析してその結果を第2表に示し7121
、。
、。
なお、酸化反応は、本触媒の腐蝕性を知るために、重1
i2.or、表面積55備2の炭素鋼の存在下で行った
。炭素鋼の減少量を側シ、その結果を第2表に示した。
i2.or、表面積55備2の炭素鋼の存在下で行った
。炭素鋼の減少量を側シ、その結果を第2表に示した。
実施例5〜8
第2表に示すオレフィン及び第三級アミンをそれぞれ用
いた以外は、実施例4と同様にしてオレフィンの酸化反
応を行い、その結果を第2表に示した。
いた以外は、実施例4と同様にしてオレフィンの酸化反
応を行い、その結果を第2表に示した。
比較例4〜8
実施し114〜8において、それぞれ第三級アミ(26
) ンを用いない以外tよ、実施1+114〜8と同様にし
て酸化反応を行い、その結果を第2表に示した。
) ンを用いない以外tよ、実施1+114〜8と同様にし
て酸化反応を行い、その結果を第2表に示した。
比較例9.10
実施例6において用いた第三級アミンに代って、第2表
に示す第三級アミン全それぞれ用いた以外は、実施例6
と同様にして2−ブテンの酸化反応を行い、その結果を
第2表に示しだ。
に示す第三級アミン全それぞれ用いた以外は、実施例6
と同様にして2−ブテンの酸化反応を行い、その結果を
第2表に示しだ。
(27)
(注)
1)アセトン
2)メチルエチルケトン
5)2−へキサノン96.7係、3−へキサノン2,0
% 4)2−オクタノン969チ、6−オクタツン20%、
4−オクタノン01% 5)2−へキサノン65%43−へキサノン22% 6)2−オクタノン55%、3−オクタンン22%に4
−オクタノン11チ ア)プロピオンアルデヒド 8)1−ブタナール 9)1−ヘキサナール 10)1−オクタナール 11)1−クロロ−2−ブタノン、3−クロロ−2−ブ
タノンの合計 12)1−クロロ−2−ヘキサノン& 5−クロロ−2
−ヘキサノン、2−クロロ−3−ヘキサノン24−クロ
ロ−3−ヘキサノンの(29) 13)1−クロロ−2−オクタノン、6−クロロ−2−
オクタノン、2−クロロ−3−オクタノン、4−クロロ
−3−オクタノン、6−クロロ−4−オクタノン、5−
クロロ−4−オクタノンの合計 (30) 実施例9〜11 第5表に示すパラジウム化合物を2ミリモル。
% 4)2−オクタノン969チ、6−オクタツン20%、
4−オクタノン01% 5)2−へキサノン65%43−へキサノン22% 6)2−オクタノン55%、3−オクタンン22%に4
−オクタノン11チ ア)プロピオンアルデヒド 8)1−ブタナール 9)1−ヘキサナール 10)1−オクタナール 11)1−クロロ−2−ブタノン、3−クロロ−2−ブ
タノンの合計 12)1−クロロ−2−ヘキサノン& 5−クロロ−2
−ヘキサノン、2−クロロ−3−ヘキサノン24−クロ
ロ−3−ヘキサノンの(29) 13)1−クロロ−2−オクタノン、6−クロロ−2−
オクタノン、2−クロロ−3−オクタノン、4−クロロ
−3−オクタノン、6−クロロ−4−オクタノン、5−
クロロ−4−オクタノンの合計 (30) 実施例9〜11 第5表に示すパラジウム化合物を2ミリモル。
同じく銅化合物を20ミリモル及び第3表に示す第三級
アミン、水(実施例11においてはさらに塩化水素)を
それぞれ第5表に示す量含む触媒と2−ブテン[15モ
ルを実施例4と同様にして、第3表に示す反応条件下で
接触させ、2−ブテンの酸化反応2行った。その結果を
第3表に示す。
アミン、水(実施例11においてはさらに塩化水素)を
それぞれ第5表に示す量含む触媒と2−ブテン[15モ
ルを実施例4と同様にして、第3表に示す反応条件下で
接触させ、2−ブテンの酸化反応2行った。その結果を
第3表に示す。
実施例12〜14
第4表に示す第三級アミンをそれぞれ、第4表に示す楡
用い、オレフィンとしてインブテン39モル%、1−7
’テン30モル%、2−ブテン17モル優、インブタン
8モル%、n−ブタン6モルチからなる04留分を10
0ミリモル用いた以外は、実施例1と同様にして酸化反
応を行い、その結果を第4表に示した。
用い、オレフィンとしてインブテン39モル%、1−7
’テン30モル%、2−ブテン17モル優、インブタン
8モル%、n−ブタン6モルチからなる04留分を10
0ミリモル用いた以外は、実施例1と同様にして酸化反
応を行い、その結果を第4表に示した。
比較例11
第三級アミンを用いない以外は、実施例12と同様にし
てOr’W分の酸化反応2行い、その結(51) 果を第4表に示した。
てOr’W分の酸化反応2行い、その結(51) 果を第4表に示した。
(52)
実施例15〜20
塩化パラジウム4ミリモル、塩化第二銅40ミリモル、
水1!及び第5表に示す第三級アミンを第5表に示す肘
用い、又オレフィンと1〜でインブテン及び1−ブチ/
若しくは2−ブテンをそれぞれ115モル用いて実施例
4と同様にしてブテンの酸化反応を行い、その結果を第
5表に示した。又実施し114と同様にして炭素鋼片の
腐触試験を行った。
水1!及び第5表に示す第三級アミンを第5表に示す肘
用い、又オレフィンと1〜でインブテン及び1−ブチ/
若しくは2−ブテンをそれぞれ115モル用いて実施例
4と同様にしてブテンの酸化反応を行い、その結果を第
5表に示した。又実施し114と同様にして炭素鋼片の
腐触試験を行った。
比較例12〜15
第三級アミンを用いないか又は第5表に示す第三級アミ
ンを用いる以外は、実施例15〜20と同様にしてブテ
ンの酸化反応を行い、その結果を第5表に示した。
ンを用いる以外は、実施例15〜20と同様にしてブテ
ンの酸化反応を行い、その結果を第5表に示した。
(34)
(33)
(65)
実施例21〜23
第6表に示すパラジウム化合物を2ミリモル及び第6表
に示す銅化合物&第6表に示す第三級アミン、水(実施
例23においてはさらに塩化水素)をそれぞれ第6表に
示す量含む触媒と、インブテン38モルq6.1−ブテ
ン!12モルチ、2−ブテン16モルチ、インブタン8
モルチ、n−ブタン6モルチからなるC4留分1モルを
、実施例4と同様にして、第6表に示す条件下で1時間
接触させ、04留分の酸化反応を行った。
に示す銅化合物&第6表に示す第三級アミン、水(実施
例23においてはさらに塩化水素)をそれぞれ第6表に
示す量含む触媒と、インブテン38モルq6.1−ブテ
ン!12モルチ、2−ブテン16モルチ、インブタン8
モルチ、n−ブタン6モルチからなるC4留分1モルを
、実施例4と同様にして、第6表に示す条件下で1時間
接触させ、04留分の酸化反応を行った。
その結果を第6表に示す。
比較例16
)I−メチルピロリドンを用いず、水i1.000耐用
いた以外は、実施例22と同様にしてC4留分の酸化反
応を行い、その結果?第6表に示した。
いた以外は、実施例22と同様にしてC4留分の酸化反
応を行い、その結果?第6表に示した。
(36)
(37)
実施例24
塩化パラジウム6ミリモル、塩化第二銅40ミリモル、
トリβ−クロロエチルアミン120ミリモル及び水1!
からなる触媒と、1−ペンテン12重量%、2−ペンテ
ン40重量%、3−メチル−1−ブテン3重慣チ、2−
メチル−2−ブテン3フ重厭チ、2−メチル−1−ブテ
ン8N量チからなるペンテン混合物1モルケ。
トリβ−クロロエチルアミン120ミリモル及び水1!
からなる触媒と、1−ペンテン12重量%、2−ペンテ
ン40重量%、3−メチル−1−ブテン3重慣チ、2−
メチル−2−ブテン3フ重厭チ、2−メチル−1−ブテ
ン8N量チからなるペンテン混合物1モルケ。
実施例4と同様にして、酸素分圧5 K17cm” 、
反応温度80℃の条件下で5時間接触した。その結果を
詑7表に示す。
反応温度80℃の条件下で5時間接触した。その結果を
詑7表に示す。
比較例17
トリβ−クロロエチルアミフケ用いない以外は、実施例
17と同(娘にしてペンテン混合物の酸化反応を用いて
行い、その結果全第7表に示した。
17と同(娘にしてペンテン混合物の酸化反応を用いて
行い、その結果全第7表に示した。
(38)
代理人 内 1) 明
代理人 萩 原 亮 −
(59)
昭和5611./ρ 月 、2−日
特許庁長止′ 島 1)春樹殿
1、小f’lの表示
昭和56年’I’J’ i?’I’ JI7Jl第7J
l333号2、発明の名称 ケトンの製造方法 3、補正をする者 事件との関係 特許11“41′1人(i−+ili
東京都千代田区−ツ橋−丁目1番1号代表渚
松 111 彬 4代理人 fl +’li 東京都)巷区虎ノ門−・1−川」
24番11号l補正の対象 明細書の特許請求の範囲9発明の詳細な説明および委任
状 a補正の内科 (1) 明細書の特許請求の範囲を別紙の如く訂正す
る。
l333号2、発明の名称 ケトンの製造方法 3、補正をする者 事件との関係 特許11“41′1人(i−+ili
東京都千代田区−ツ橋−丁目1番1号代表渚
松 111 彬 4代理人 fl +’li 東京都)巷区虎ノ門−・1−川」
24番11号l補正の対象 明細書の特許請求の範囲9発明の詳細な説明および委任
状 a補正の内科 (1) 明細書の特許請求の範囲を別紙の如く訂正す
る。
(2) 同第15頁下から3行目の[θ 式;−(○
l与)m −0−(O)I2)n−、Jを10 式:
−(OH2)m −0−(015)n−又は」と訂正
する。
l与)m −0−(O)I2)n−、Jを10 式:
−(OH2)m −0−(015)n−又は」と訂正
する。
(3)同第66員第16行から第16行の全文(比較例
16)を下記の通り訂正する。
16)を下記の通り訂正する。
[N、N、N′、N′−テトラメチルコハク酸アミドを
用いずに、銅化合物及び水の使用用:並びに反応温度を
、第6表に示すように変えた以外は、実施例21と同様
にして04留分の酸化反応を行い、その結果を第6表に
示した。−1(4) 別紙のとおり委任状を特徴する
特許請求の範囲 1)パラジウム、銅、ハロゲン及び下記の一般式で表わ
される第三級アミンのうちの一棹若t、 <に二種以上
(の第三級アミン)を含む触υの存在下、n−オレン・
インを酸化することからなるケト/の製造方法。
用いずに、銅化合物及び水の使用用:並びに反応温度を
、第6表に示すように変えた以外は、実施例21と同様
にして04留分の酸化反応を行い、その結果を第6表に
示した。−1(4) 別紙のとおり委任状を特徴する
特許請求の範囲 1)パラジウム、銅、ハロゲン及び下記の一般式で表わ
される第三級アミンのうちの一棹若t、 <に二種以上
(の第三級アミン)を含む触υの存在下、n−オレン・
インを酸化することからなるケト/の製造方法。
0)一般式: rl R21(3N。
但し R1−炭素数6〜20個のアリール、炭素数2〜
16個のアシル、炭素 数7〜20個のアルアルキル又は 炭素数1〜16個のアルキルの水 素原子をハロゲン原子、炭素数1 〜12個のアルコキシ若しくけ炭 素数2〜16個のアシルで置換し た置換アルキル、 伴、R3−炭素数1〜16個のアルキ ル、炭素数6〜20個の了り−ル、 炭素数2〜16個のアシル、炭素 i7〜20個のアルアルキル又は 該アルキルの水素原子をハロゲン 原子、炭素数1〜12個のアルコ ギシ若L <は炭素数2〜16個の アシルで+Kf 換した置換アルキル。
16個のアシル、炭素 数7〜20個のアルアルキル又は 炭素数1〜16個のアルキルの水 素原子をハロゲン原子、炭素数1 〜12個のアルコキシ若しくけ炭 素数2〜16個のアシルで置換し た置換アルキル、 伴、R3−炭素数1〜16個のアルキ ル、炭素数6〜20個の了り−ル、 炭素数2〜16個のアシル、炭素 i7〜20個のアルアルキル又は 該アルキルの水素原子をハロゲン 原子、炭素数1〜12個のアルコ ギシ若L <は炭素数2〜16個の アシルで+Kf 換した置換アルキル。
Wと1ゼは同じでも異ってもよい。
1途/ \穿
但し、R1,R2,R”、 R’−炭素数1〜16個の
アルキル、炭素数6〜20個の アリール、炭素数2〜16個のア シル、炭素数7〜20個のアルア ルキル又は該アルギルの水素原子 をハロゲン原子、炭素数1〜12 個のアルコキシ若しくは炭素数2 〜16個のアシルで置換した置換 アルキルでR1,ぴ、y、r’sは同じで4異ってもよ
い。
アルキル、炭素数6〜20個の アリール、炭素数2〜16個のア シル、炭素数7〜20個のアルア ルキル又は該アルギルの水素原子 をハロゲン原子、炭素数1〜12 個のアルコキシ若しくは炭素数2 〜16個のアシルで置換した置換 アルキルでR1,ぴ、y、r’sは同じで4異ってもよ
い。
枦−炭素数1〜8個のアルキレン又
は炭素数6〜12個のアリーレン。
(Fjl、、ul−炭素数1〜16個のアルキル、炭素
数6〜20個のアリール、炭 素数2〜16個のアシル、炭素数 7〜20個のアルアルキル又は該 アルキルの水素原子をハロゲン原 子、炭素数1〜12個のアルコキ シ若しくは炭素数2〜16個のア シルで置換した置換アルキル。
数6〜20個のアリール、炭 素数2〜16個のアシル、炭素数 7〜20個のアルアルキル又は該 アルキルの水素原子をハロゲン原 子、炭素数1〜12個のアルコキ シ若しくは炭素数2〜16個のア シルで置換した置換アルキル。
ぴ−■炭素数3〜6個のアルキレン。
@該アルキレンの水素原子を炭
素数1〜8個のアルキル、炭素数
6〜20個のアリール、炭素数2
〜16個のアシル、炭素数7〜
20個のアルアルキル若シくはハ
ロゲン原子で置換した置換アルキ
レン、
O式: −(0%、 )m−0−((A% )n−51
n。
n。
但し、m、n=1〜5、(m
十n ) = 3〜6
0 式: −C−(”Ha )n−C−1(11
0
RL−1
但し R1、R2−炭素数1.〜16個のアルキル、炭
素数6〜20個のアリール、 炭素数2〜16個のアシル、炭素 数7〜20個のアルアルキル又は 該アルキルの水素原子をハロゲン 原子、炭素数1〜12個のアルコ キシ若しくけ炭素数2〜16個の アシルで置換した置換アルキル。
素数6〜20個のアリール、 炭素数2〜16個のアシル、炭素 数7〜20個のアルアルキル又は 該アルキルの水素原子をハロゲン 原子、炭素数1〜12個のアルコ キシ若しくけ炭素数2〜16個の アシルで置換した置換アルキル。
R1,R”i;j同じでも異ってもよい。
R3,R4−■炭素数1〜6個のアルキレン、
0該アルキレンの水素原子を炭素
数1〜8個のアルキル、炭素数6
〜20個のアリール、炭素数2〜
16個のアシル、炭素数7〜20
個のアルアルキル若しくけハロゲ
ン原子で置換した置換アルキレン、
θ 式: −(O)12 )m−0−(C)T2 )n
−1但し、m、n−1〜5、(m十n) = 6〜6 0 式: −(OH2)m−c−(c+n、、 )n−
又は1 但し、m 、 n = O−5、(m十n)= 2〜6 0 0 但し、n = 2〜4 r、R4は同じで4異ってもよい。
−1但し、m、n−1〜5、(m十n) = 6〜6 0 式: −(OH2)m−c−(c+n、、 )n−
又は1 但し、m 、 n = O−5、(m十n)= 2〜6 0 0 但し、n = 2〜4 r、R4は同じで4異ってもよい。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1)パラジウム、銅、ハロゲン及び下記の一般式で表わ
される第三級アミンのうちの一種若しくは二種以上(の
第三級アミン)を含む触媒の存在下、n−オレフィンを
酸化することからなるケトンの製造方法。 ■一般式: RIR”RIN。 但し、R1−炭素数6〜20個の了り一ル、炭素数2〜
16個のアシル、炭素 数7〜20個のアルアルキル又は 炭素数1〜16個のアルキルの水 素原子?ハロゲン原子、炭素数1 〜12個のアルコキシ若しくは炭 素数2〜16個のアシルで置換し た置換アルキル、 R2,R1冨炭素数1〜16個のアルキル、炭素数6〜
20個のアリール、 炭素数2〜16個のアシル、炭素 (1) 数7〜20個のアルアルキル又は 該アルキルの水素原子をハロゲン 原子、炭素数1〜12個のアルコ キシ若しくは炭素数2〜16個の アシルで置換した置換アルキル。 R3とR3は同じでも異ってもよい。 但シh R’+ R”* R”* R’ −炭素数1〜
16個のアルキル、炭素数6〜20個の 7リール、炭素数2〜16個のア シル、炭素数7〜20個のアルア ルキル又は該アルキルの水素原子 をハロゲン原子、炭素数1〜12 個のアルコキシ若しくは炭素数2 〜16個のアシルで置換した置換 アルキルでR1’、 R1、R1、R4は同じでも異っ
てもよい。 R’ −炭素数1〜8個のアルキレン又は炭素数6〜1
2個のアリーレン。 (2) 但し、R1=炭素数1〜16個のアルキル。 炭素数6〜20個の7リール、炭 素数2〜16個のアシル、炭素数 7〜20個のアルアルキル又は該 アルキルの水素原子をノ・ロゲン原 子、炭素数1〜12個のアルコキ シ若しくは炭素数2〜16個のア シルで置換した置換アルキル。 R2−■炭素数3〜6個のアルキレン。 @該アルキレンの水素原子を炭 素数1〜8個のアルキル、炭素数 6〜20個の了り−ル、炭素数2 〜16個のアシル、炭素数7〜 20個のアルアルキル若しくはハ ロゲン原子で置換した置換アルキ レン、 θ 式; −(on、)m−o−(onりn−。 但し%m、n1ll11〜51 (!II(3) −4−n ) = 3〜6 0 0 但し、nw2〜4 炭素数2〜16個のアシル、炭素 数7〜20個のアルアルキル又は 該アルキルの水素原子をノーロゲン 原子、炭素数1〜12個のアルコ キシ若しくは炭素数2〜16個の アシルで置換した置換アルキル。 R1、R11は同じでも異ってもよい。 Ha 、 R4−■炭素数1〜6個のアルキレン、 0該アルキレンの水素原子を炭素 数1〜8個のアルキル、炭素数6 〜20個の了り−ル、炭素数2〜 (4) 16個のアシル、炭素数7〜20 個のアルアルキル若しくはハpゲ ン原子で置換した置換アルキレン、 θ 式; −(OH2)m−0−(OHI)n−。 但し、m、nw1〜5.(m−1−n); 5〜6 0 式: −(OHI)m−0−(OHI)n−又は1 但し、m、nwO〜5& (m十n) ツ 2〜6 0 0 但し、n−2〜4 Ha、R4は同じでも異ってもよい。
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