JPS5846768B2 - 磁気デイスク基板の表面平滑化装置 - Google Patents
磁気デイスク基板の表面平滑化装置Info
- Publication number
- JPS5846768B2 JPS5846768B2 JP54165236A JP16523679A JPS5846768B2 JP S5846768 B2 JPS5846768 B2 JP S5846768B2 JP 54165236 A JP54165236 A JP 54165236A JP 16523679 A JP16523679 A JP 16523679A JP S5846768 B2 JPS5846768 B2 JP S5846768B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- magnetic disk
- head
- smoothing device
- tape
- disk substrate
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B24—GRINDING; POLISHING
- B24B—MACHINES, DEVICES, OR PROCESSES FOR GRINDING OR POLISHING; DRESSING OR CONDITIONING OF ABRADING SURFACES; FEEDING OF GRINDING, POLISHING, OR LAPPING AGENTS
- B24B37/00—Lapping machines or devices; Accessories
- B24B37/04—Lapping machines or devices; Accessories designed for working plane surfaces
- B24B37/048—Lapping machines or devices; Accessories designed for working plane surfaces of sliders and magnetic heads of hard disc drives or the like
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は磁気ディスク基板の表面平滑化装置の改良に関
するものである。
するものである。
磁気ディスク媒体は＝般にアルミニウム基板上に磁性塗
料を塗布し高温焼付を行った後パフ研摩、テープポリッ
シュ等により表面仕上を行って形成されている。
料を塗布し高温焼付を行った後パフ研摩、テープポリッ
シュ等により表面仕上を行って形成されている。
また、磁性金属又は酸化物を蒸着又はスパッタにより基
板上に成膜した後、或いは成膜する前に上記表面仕上を
行うものもある。
板上に成膜した後、或いは成膜する前に上記表面仕上を
行うものもある。
これらの場合、表面仕上後の磁気ディスク基板表面には
高さ０．１μｍ以上の微小突起が多数残存している。
高さ０．１μｍ以上の微小突起が多数残存している。
これは塗膜強度を高めるために磁性塗料中に混入させて
いるアルミナ等の硬い非磁性微粒子に起因しており、そ
の存在により磁気ヘッドが摩耗劣化したりヘッド浮上特
性が悪くなる等の悪影響がある。
いるアルミナ等の硬い非磁性微粒子に起因しており、そ
の存在により磁気ヘッドが摩耗劣化したりヘッド浮上特
性が悪くなる等の悪影響がある。
これを解決するため、鏡面研摩されたスライダ面を有す
るバーニッシュヘッド（ヘッド形状は実際のヘッドと同
じで、アルミナ等の硬質材料のもの）を浮上量を下げて
回転する磁気ディスク上を浮上往復させてヘッドと衝突
する微小突起を除去する方式が従来採用されている。
るバーニッシュヘッド（ヘッド形状は実際のヘッドと同
じで、アルミナ等の硬質材料のもの）を浮上量を下げて
回転する磁気ディスク上を浮上往復させてヘッドと衝突
する微小突起を除去する方式が従来採用されている。
しかしこのような方式では、バーニッシュ効率が悪く、
また磁気ディスク基板表面の微小突起が完全に除去でき
なかった。
また磁気ディスク基板表面の微小突起が完全に除去でき
なかった。
これはスライダが鏡面で浮上障害物である微小突起をつ
ぶす働きしかしないためである。
ぶす働きしかしないためである。
本発明は上述の問題を解決するためのもので、ディスク
基板表面の微小突起を効率よく除去でき、しかも長期間
使用可能な磁気ディスク基板の表面平滑化装置を提供す
ることを目的としている。
基板表面の微小突起を効率よく除去でき、しかも長期間
使用可能な磁気ディスク基板の表面平滑化装置を提供す
ることを目的としている。
次に図面に関連して本発明の詳細な説明する。
第１図において、１は磁気ディスク基板、２はモノリシ
ック型ヘッド、３，３′はテープリール、４．４’、５
．５’はキャプスタン、２０はラッピングテープである
。
ック型ヘッド、３，３′はテープリール、４．４’、５
．５’はキャプスタン、２０はラッピングテープである
。
ヘッド２は従来の鏡面スライダ面を有するバーニッシュ
ヘッドをそのまま使用することができる。
ヘッドをそのまま使用することができる。
このヘッド２は駆動源により駆動される図示しないヘッ
ドキャリッジ部に取付けられ、該ヘッドキャリッジ部と
ともに磁気ディスク基板１０半径方向に移動可能である
。
ドキャリッジ部に取付けられ、該ヘッドキャリッジ部と
ともに磁気ディスク基板１０半径方向に移動可能である
。
テープリール３，３′、キャプスタン４．４’、５．５
’はそれぞれヘッド２を支持するヘッドキャリッジ部に
回転自在に支持されている。
’はそれぞれヘッド２を支持するヘッドキャリッジ部に
回転自在に支持されている。
ラッピングテープ２０はテープ供給側のテープリール３
′に巻装され、キャプスタン４’、 ５’、 ５、４を
経て繰出されてその先端は巻取側のテープリール３に接
続されている。
′に巻装され、キャプスタン４’、 ５’、 ５、４を
経て繰出されてその先端は巻取側のテープリール３に接
続されている。
なお、ラッピングテープ２０はキャプスタン４′。
５′の間およびキャプスタン４，５０間でそれぞれ各ス
ライダ面６，６′上を通っている。
ライダ面６，６′上を通っている。
ラッピングテープ２００表面には粒度０．３〜２０μｍ
（３〜９μｍが望ましい）の砥粒面が形成されている。
（３〜９μｍが望ましい）の砥粒面が形成されている。
いまテープリール３を回転させてラッピングテープ２０
を矢印方向に走行させ、ヘッド２を各スライダ面６，６
′上のラッピングテープ２０が磁気ディスク基板１０両
面に接するまで前進させて往復動させると、ラッピング
テープ２０表面の砥粒面が磁気ディスク基板１の微小突
起を除去する。
を矢印方向に走行させ、ヘッド２を各スライダ面６，６
′上のラッピングテープ２０が磁気ディスク基板１０両
面に接するまで前進させて往復動させると、ラッピング
テープ２０表面の砥粒面が磁気ディスク基板１の微小突
起を除去する。
この場合、ラッピングテープ２０がスライダ面上で停止
したままでは、長時間使用すると砥粒が欠けたり砥ね間
の溝が埋まったりしてバーニッシュ効果、効率が低下す
るが、本発明ではラッピングテープ２０が走行しており
新たな砥粒面がスライダ面に連続的に供給されるため、
長期間にわたり効率のよいバーニッシュを行うことが可
能である。
したままでは、長時間使用すると砥粒が欠けたり砥ね間
の溝が埋まったりしてバーニッシュ効果、効率が低下す
るが、本発明ではラッピングテープ２０が走行しており
新たな砥粒面がスライダ面に連続的に供給されるため、
長期間にわたり効率のよいバーニッシュを行うことが可
能である。
第２図はランプロード型ヘッドに本発明を適用したもの
で、図中１１はヘッド、１２、１２％まテープリール
１３．１３’、１４．１４’はキャプスタンである。
で、図中１１はヘッド、１２、１２％まテープリール
１３．１３’、１４．１４’はキャプスタンである。
この場合も、上述と同様にラッピングテープ２０がヘッ
ド１１のスライダ面を通り走行しながらバーニッシュが
行われ、上述と同様の効果を奏することができる。
ド１１のスライダ面を通り走行しながらバーニッシュが
行われ、上述と同様の効果を奏することができる。
上述の説明では、平滑化すべき磁気ディスク基板が磁性
被膜を形成済みのものであるとしたが、本発明はこれに
限られず、磁性被膜形成前の基板を平滑化することもで
きる。
被膜を形成済みのものであるとしたが、本発明はこれに
限られず、磁性被膜形成前の基板を平滑化することもで
きる。
以上述べたように、本発明によれば、新たな砥粒面をス
ライダ面に連続的に供給しながらバーニッシュを行うよ
うになっているため、長期間にわたり効率のよいバーニ
ッシュを行うことが可能で磁気ヘッドの摩耗劣化、浮上
特性の低下を防止することができる。
ライダ面に連続的に供給しながらバーニッシュを行うよ
うになっているため、長期間にわたり効率のよいバーニ
ッシュを行うことが可能で磁気ヘッドの摩耗劣化、浮上
特性の低下を防止することができる。
第１図は本発明に係る磁気ディスクの表面平滑化装置の
実施例を示す正面概略図、第２図は同梱の実施例を示す
斜視図で、図中、１は磁気ディスク基板、２，１１はヘ
ッド、３．３’、１２．１２’はテープリール、４．４
’、５．５’、１３．１３’。 １４、１４’はキャプスタン、２０はラッピングテープ
である。
実施例を示す正面概略図、第２図は同梱の実施例を示す
斜視図で、図中、１は磁気ディスク基板、２，１１はヘ
ッド、３．３’、１２．１２’はテープリール、４．４
’、５．５’、１３．１３’。 １４、１４’はキャプスタン、２０はラッピングテープ
である。
Claims (1)
- １ 磁気ディスク基板を回転させ、該磁気ディスク基板
表面と該磁気ディスクに近接してその半径方向に往復動
するヘッドスライダ面との間にラッピングフィルムを設
け、該ラッピングフィルムの砥ね面で磁気ディスク基板
表面をバーニッシュする磁気ディスクの表面平滑化装置
において、前記ラッピングフィルムを連続的にヘッドス
ライダ面に供給するようにしたことを特徴とする磁気デ
ィスク基板の表面平滑化装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP54165236A JPS5846768B2 (ja) | 1979-12-19 | 1979-12-19 | 磁気デイスク基板の表面平滑化装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP54165236A JPS5846768B2 (ja) | 1979-12-19 | 1979-12-19 | 磁気デイスク基板の表面平滑化装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5690429A JPS5690429A (en) | 1981-07-22 |
| JPS5846768B2 true JPS5846768B2 (ja) | 1983-10-18 |
Family
ID=15808440
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP54165236A Expired JPS5846768B2 (ja) | 1979-12-19 | 1979-12-19 | 磁気デイスク基板の表面平滑化装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5846768B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0381811U (ja) * | 1989-12-07 | 1991-08-21 |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4520647A (en) * | 1983-08-31 | 1985-06-04 | International Business Machines Corporation | Surface finishing process |
| JPS60106029A (ja) * | 1983-11-14 | 1985-06-11 | Fujitsu Ltd | 磁気デイスクの製造装置 |
-
1979
- 1979-12-19 JP JP54165236A patent/JPS5846768B2/ja not_active Expired
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0381811U (ja) * | 1989-12-07 | 1991-08-21 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5690429A (en) | 1981-07-22 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP2889994B2 (ja) | 研磨テープおよび磁気ヘッドの研磨方法 | |
| JPS5846768B2 (ja) | 磁気デイスク基板の表面平滑化装置 | |
| US5887336A (en) | Method of preliminarily smoothing a magnetic disk drive head during manufacturing | |
| JPS5846767B2 (ja) | 磁気デイスク用基板の表面平滑化方法 | |
| US6277005B1 (en) | Apparatus for the application of an advanced texture process | |
| US6129612A (en) | Advanced mechanical texture process for high density magnetic recording media | |
| JPH02134727A (ja) | 磁気ディスクの製造方法 | |
| JPS6129418A (ja) | 磁気デイスク基板の加工方法 | |
| JPH0210486B2 (ja) | ||
| JP2001250224A (ja) | 磁気記録媒体用基板とその製造方法および磁気記録媒体 | |
| JPS62241671A (ja) | 研磨テ−プ | |
| JPH0340540Y2 (ja) | ||
| JPH01317289A (ja) | 浮動型磁気ヘッド | |
| JPH08118241A (ja) | 研摩テープ | |
| JPH05237770A (ja) | 円板の加工方法および加工用テープ | |
| JPH0950605A (ja) | 薄膜磁気ヘッド用基板の表面を平滑化する方法 | |
| JP2580762B2 (ja) | 磁気記録媒体の製造方法 | |
| JPH0631604A (ja) | 研磨装置および研磨方法 | |
| JPS58220268A (ja) | 磁気ヘツドのラツピング方法 | |
| JP2959124B2 (ja) | 磁気ディスク基板の表面平滑化装置 | |
| JPH04121819A (ja) | 磁気ディスク基板の製造方法および製造装置 | |
| JP3041960B2 (ja) | 磁気記録ディスクの製造方法 | |
| JPH04222925A (ja) | 磁気記録媒体の製造方法 | |
| JPH06295432A (ja) | 磁気記録媒体 | |
| JPH06168443A (ja) | 磁気記録媒体のバニッシュ方法および装置 |