JPS5846671A - 半導体装置 - Google Patents
半導体装置Info
- Publication number
- JPS5846671A JPS5846671A JP14390981A JP14390981A JPS5846671A JP S5846671 A JPS5846671 A JP S5846671A JP 14390981 A JP14390981 A JP 14390981A JP 14390981 A JP14390981 A JP 14390981A JP S5846671 A JPS5846671 A JP S5846671A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- layer
- electrode
- molybdenum
- control electrode
- aluminum
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 title claims abstract description 15
- 239000010410 layer Substances 0.000 claims abstract description 26
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims abstract description 11
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims abstract description 11
- 239000002344 surface layer Substances 0.000 claims abstract description 5
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 13
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 abstract description 12
- ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N Molybdenum Chemical compound [Mo] ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 11
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 abstract description 11
- 239000011733 molybdenum Substances 0.000 abstract description 11
- 239000008188 pellet Substances 0.000 abstract description 9
- 229910001182 Mo alloy Inorganic materials 0.000 abstract description 3
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 abstract description 2
- 239000004411 aluminium Substances 0.000 abstract 2
- 229910000838 Al alloy Inorganic materials 0.000 abstract 1
- 238000007669 thermal treatment Methods 0.000 abstract 1
- 230000003014 reinforcing effect Effects 0.000 description 4
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 2
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 2
- 238000003466 welding Methods 0.000 description 2
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UNQHSZOIUSRWHT-UHFFFAOYSA-N aluminum molybdenum Chemical compound [Al].[Mo] UNQHSZOIUSRWHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 230000006378 damage Effects 0.000 description 1
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 1
- 238000009795 derivation Methods 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 229920002379 silicone rubber Polymers 0.000 description 1
- 239000004945 silicone rubber Substances 0.000 description 1
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L29/00—Semiconductor devices specially adapted for rectifying, amplifying, oscillating or switching and having potential barriers; Capacitors or resistors having potential barriers, e.g. a PN-junction depletion layer or carrier concentration layer; Details of semiconductor bodies or of electrodes thereof ; Multistep manufacturing processes therefor
- H01L29/40—Electrodes ; Multistep manufacturing processes therefor
- H01L29/41—Electrodes ; Multistep manufacturing processes therefor characterised by their shape, relative sizes or dispositions
- H01L29/417—Electrodes ; Multistep manufacturing processes therefor characterised by their shape, relative sizes or dispositions carrying the current to be rectified, amplified or switched
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Ceramic Engineering (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Electrodes Of Semiconductors (AREA)
- Thyristors (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
この発明は半導体装置に係シ、特に電力用の半導体装置
における圧接電極の改良構造に関する。
における圧接電極の改良構造に関する。
圧接によシミ極が導出される半導体装置の一例のサイリ
スタに第1図、第2図に示される構造のものがある。図
において、 (1)、 (2)は銅で円板状に形成され
た夫々陽極導出部材、陰極導出部材で、円筒型のセラミ
ックスの電気絶縁部材(3)の両端に固着され、かつこ
の電気絶縁部材は側面に制御電極導出部材(4)を突出
して気密の外囲器を形成する。
スタに第1図、第2図に示される構造のものがある。図
において、 (1)、 (2)は銅で円板状に形成され
た夫々陽極導出部材、陰極導出部材で、円筒型のセラミ
ックスの電気絶縁部材(3)の両端に固着され、かつこ
の電気絶縁部材は側面に制御電極導出部材(4)を突出
して気密の外囲器を形成する。
そして、この外囲器の内部には半導体はレット(5)(
以降ゴレットと略称する)がその1主面の陽極電極(5
A)をタングステンの補強板(6)を介して陽極導出部
材(1)に、また他主面の陰極電極(5K)をモリブデ
ンの薄板(7)を介して陰極導出部材(2)K夫々圧接
されて内装されている。また、はレットには第4図にも
示されるように陰極電極(5K)に並設され九制御電極
(5G)が制御電極導出部材(4)によって導出されて
いる。(なお、(5Gつは補助制御電極である)前記制
御電極導出部材(4)は電気絶縁部材(3)を貫通する
部分で固定され、外囲器内の部分は第一3図にも示され
るように例えばピアノ線の、ような弾性の金属棒(4a
)で形成されるとともに制御電極と接する部分は平面状
に形成され、少くとも前記電極と接する部分には厚さ約
10μmの銀層(4b)が被着されて、金属棒部分の電
気抵抗ならびに制御電極との接触抵抗を低減するよう罠
なっている。なお、上記タングステンの補強板(6)は
はレット(5)を補強するため陽極電極のアルミニウム
層を介して合金化させ固着し九ものであり、モリブデン
板(7)は銅(陰極導出部材)とアルミニウム(陰極電
極)とが直接に加圧接触されかつ、通電による温度上昇
で合金化されいわゆる熱疲労してベレットのクラックに
よる永久破壊を防止するものである。さらに、ベレット
の周縁にシリコンゴムを被覆した不動態r*1(8)が
PN接合面の露出部を保^するために設けられている。
以降ゴレットと略称する)がその1主面の陽極電極(5
A)をタングステンの補強板(6)を介して陽極導出部
材(1)に、また他主面の陰極電極(5K)をモリブデ
ンの薄板(7)を介して陰極導出部材(2)K夫々圧接
されて内装されている。また、はレットには第4図にも
示されるように陰極電極(5K)に並設され九制御電極
(5G)が制御電極導出部材(4)によって導出されて
いる。(なお、(5Gつは補助制御電極である)前記制
御電極導出部材(4)は電気絶縁部材(3)を貫通する
部分で固定され、外囲器内の部分は第一3図にも示され
るように例えばピアノ線の、ような弾性の金属棒(4a
)で形成されるとともに制御電極と接する部分は平面状
に形成され、少くとも前記電極と接する部分には厚さ約
10μmの銀層(4b)が被着されて、金属棒部分の電
気抵抗ならびに制御電極との接触抵抗を低減するよう罠
なっている。なお、上記タングステンの補強板(6)は
はレット(5)を補強するため陽極電極のアルミニウム
層を介して合金化させ固着し九ものであり、モリブデン
板(7)は銅(陰極導出部材)とアルミニウム(陰極電
極)とが直接に加圧接触されかつ、通電による温度上昇
で合金化されいわゆる熱疲労してベレットのクラックに
よる永久破壊を防止するものである。さらに、ベレット
の周縁にシリコンゴムを被覆した不動態r*1(8)が
PN接合面の露出部を保^するために設けられている。
斜上の制御電極導出は金属棒(4a)の弾性により加圧
接触をはかつているが、1長期にわたって使用されてい
ると各部の熱膨張係数の相違によって金属棒の先端部と
制御電極層(5G)と擦過し、電極層が削り取られる現
象が認められる。この現象は制御電極層と接する金属棒
の先端が第3図に示されるように平面部を備えて形成さ
れていても発生し、平面部を有しない場合にはさらに甚
だしい。この結果、制御電流(ゲート電流)が流れにく
くなり、最後には制御が不能になるという重大な欠点が
ある。
接触をはかつているが、1長期にわたって使用されてい
ると各部の熱膨張係数の相違によって金属棒の先端部と
制御電極層(5G)と擦過し、電極層が削り取られる現
象が認められる。この現象は制御電極層と接する金属棒
の先端が第3図に示されるように平面部を備えて形成さ
れていても発生し、平面部を有しない場合にはさらに甚
だしい。この結果、制御電流(ゲート電流)が流れにく
くなり、最後には制御が不能になるという重大な欠点が
ある。
この発明は従来の欠点を改良するだめのもので、半導体
ベレットの制御電極を圧接により導出する構造の改良に
関する。
ベレットの制御電極を圧接により導出する構造の改良に
関する。
この発明にかかる電力用の半導体装置は半導体ベレット
の制御電極に電極導出部材を加圧接触させて電極導出を
行なうものであって、半導体はレットの制御電極の表層
が例えばモリブデンのような硬質の金属層で形成されて
いることを特徴とする。以下にこの発明を1実施例につ
き図面を参照して詳細にr6を関する。
の制御電極に電極導出部材を加圧接触させて電極導出を
行なうものであって、半導体はレットの制御電極の表層
が例えばモリブデンのような硬質の金属層で形成されて
いることを特徴とする。以下にこの発明を1実施例につ
き図面を参照して詳細にr6を関する。
斜上の如く、1実施例Fiハレソトにおける制御電極の
構造にあるのでこれを第5図に示すとともに、はレット
の他の部分は変らないので図面に同じ符号を付けて示し
説明を省略する。図における(15()> H制御電極
で、ベレット側のアルミニウム層部(15Gム)と露出
面(表層)側のモリブデン層(硬質の金属層)部(15
01)とからなっている。上記アルミニウム層とモリブ
デン層とは製造工程において、はレットの1主面に蒸着
したアルミニウムmK1例の板厚が100μmのモリブ
デン板を載置し、約700℃にて15分間加熱を施して
アルミニウム・モリブデン合金を形成させ固着を達成し
ている。(アルミニウム・モリブデン合金についてU次
O文献カアル。F、Lihl、 E、Nachtiga
ll、 H。
構造にあるのでこれを第5図に示すとともに、はレット
の他の部分は変らないので図面に同じ符号を付けて示し
説明を省略する。図における(15()> H制御電極
で、ベレット側のアルミニウム層部(15Gム)と露出
面(表層)側のモリブデン層(硬質の金属層)部(15
01)とからなっている。上記アルミニウム層とモリブ
デン層とは製造工程において、はレットの1主面に蒸着
したアルミニウムmK1例の板厚が100μmのモリブ
デン板を載置し、約700℃にて15分間加熱を施して
アルミニウム・モリブデン合金を形成させ固着を達成し
ている。(アルミニウム・モリブデン合金についてU次
O文献カアル。F、Lihl、 E、Nachtiga
ll、 H。
0ffenbartl、 Vertragander
C: InternationalerLeichtm
etalltagung、 1961 in Leo
ben)次にアルミニウム層を被着したのち陰極電極の
形状に成形を施して陰極電極(5K)を形成する。その
後の工程は従来と同様にして電極の圧接導出を達成する
。
C: InternationalerLeichtm
etalltagung、 1961 in Leo
ben)次にアルミニウム層を被着したのち陰極電極の
形状に成形を施して陰極電極(5K)を形成する。その
後の工程は従来と同様にして電極の圧接導出を達成する
。
この発明によれば半導体ベレットの制御電極の表層がモ
リブデンのような硬質金属層で形成されているので、こ
れに圧接する電極導出部材によって電極が損傷を受ける
ことがなく、長期にわたって制御特性が良好に保持でき
る顕著な利点がある。
リブデンのような硬質金属層で形成されているので、こ
れに圧接する電極導出部材によって電極が損傷を受ける
ことがなく、長期にわたって制御特性が良好に保持でき
る顕著な利点がある。
なお、この発明は゛実施例に限定されることなく、トラ
イアック、逆導通サイリスタ、GTO等のサイリスタ、
電力用トランジスタ(ジャイアンツトランジスタ、GT
r)等に広ぐ適用できる。
イアック、逆導通サイリスタ、GTO等のサイリスタ、
電力用トランジスタ(ジャイアンツトランジスタ、GT
r)等に広ぐ適用できる。
第1図ないし第4図は従来のサイリスタにかかり第1図
は側面図、第2図は断面図、第3図は制御電極導出部材
の断面図、第4図は補強板を付けたベレットの断面図、
第5図はこの発明の1実施例にかかるサイリスタの補強
板を付けたはレットの断面図である。 1 陽極導出部材 2 陰極導出部材 4 制御電極導出部材 5 −!:レット 150 制御電極 15G^ 制御電極のアルミニウム層部15G
B 制御電極のモリブデン層部代理人 弁理
士 井 上 −男 竿1図 ? 1 竿2図 ? 第 5 図 t/7
は側面図、第2図は断面図、第3図は制御電極導出部材
の断面図、第4図は補強板を付けたベレットの断面図、
第5図はこの発明の1実施例にかかるサイリスタの補強
板を付けたはレットの断面図である。 1 陽極導出部材 2 陰極導出部材 4 制御電極導出部材 5 −!:レット 150 制御電極 15G^ 制御電極のアルミニウム層部15G
B 制御電極のモリブデン層部代理人 弁理
士 井 上 −男 竿1図 ? 1 竿2図 ? 第 5 図 t/7
Claims (1)
- 半導体イレットの制御電極に電極導出部材を加圧接触さ
せて電極導出を行なう電力用の半導体装置において、半
導体はレットの制御電極の表層が硬質の金属層で形成さ
れていることを特徴とする電力用の半導体装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP14390981A JPS5846671A (ja) | 1981-09-14 | 1981-09-14 | 半導体装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP14390981A JPS5846671A (ja) | 1981-09-14 | 1981-09-14 | 半導体装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS5846671A true JPS5846671A (ja) | 1983-03-18 |
Family
ID=15349895
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP14390981A Pending JPS5846671A (ja) | 1981-09-14 | 1981-09-14 | 半導体装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS5846671A (ja) |
-
1981
- 1981-09-14 JP JP14390981A patent/JPS5846671A/ja active Pending
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US2973466A (en) | Semiconductor contact | |
JPS6271271A (ja) | 炭化珪素半導体の電極構造 | |
US2989578A (en) | Electrical terminals for semiconductor devices | |
JP2527834B2 (ja) | 陽極接合法 | |
JPS5846059B2 (ja) | 半導体装置 | |
JPS5846671A (ja) | 半導体装置 | |
US4251792A (en) | Thermistor bonded to thermally conductive plate | |
US2940023A (en) | Transistor | |
KR0146356B1 (ko) | 브레이징재 | |
JPH01112631A (ja) | 電子放出素子及びその製造方法 | |
JP2587819Y2 (ja) | 蛍光表示装置 | |
JPS6347977A (ja) | ゲ−トタ−ンオフサイリスタ装置 | |
US3368120A (en) | Multilayer contact system for semiconductor devices | |
US3325701A (en) | Semiconductor device | |
KR950007058Y1 (ko) | 형광 표시관 | |
JPS5936822B2 (ja) | 圧接形半導体装置 | |
JPH01215028A (ja) | 圧接型半導体装置 | |
JPS5925237A (ja) | 半導体装置 | |
JPS6364345A (ja) | 半導体装置 | |
JPS623590B2 (ja) | ||
JPH01112633A (ja) | 電子放出素子及びその製造方法 | |
JPS5929142B2 (ja) | 半導体装置 | |
JPS62194650A (ja) | 半導体装置 | |
JPS6262532A (ja) | 半導体装置 | |
JPS6014507B2 (ja) | 加圧接触形半導体装置 |