JPH01215028A - 圧接型半導体装置 - Google Patents
圧接型半導体装置Info
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- JPH01215028A JPH01215028A JP3939588A JP3939588A JPH01215028A JP H01215028 A JPH01215028 A JP H01215028A JP 3939588 A JP3939588 A JP 3939588A JP 3939588 A JP3939588 A JP 3939588A JP H01215028 A JPH01215028 A JP H01215028A
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- electrode plate
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- electrodes
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- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 title claims abstract description 57
- 238000005493 welding type Methods 0.000 title 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 44
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 13
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 7
- ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N Molybdenum Chemical compound [Mo] ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 7
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 claims abstract description 7
- 239000010949 copper Substances 0.000 claims abstract description 7
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 claims abstract description 7
- 239000011733 molybdenum Substances 0.000 claims abstract description 7
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 7
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 claims abstract description 7
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 claims abstract description 7
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 5
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 claims abstract description 5
- 239000010931 gold Substances 0.000 claims abstract description 5
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 claims abstract description 5
- 239000004332 silver Substances 0.000 claims abstract description 5
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 4
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 18
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 18
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 abstract description 2
- 239000010703 silicon Substances 0.000 abstract description 2
- 230000035882 stress Effects 0.000 description 13
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 4
- 239000012212 insulator Substances 0.000 description 2
- 239000012141 concentrate Substances 0.000 description 1
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 230000002349 favourable effect Effects 0.000 description 1
- 230000008646 thermal stress Effects 0.000 description 1
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- Die Bonding (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕 −
本発明は、自己消弧機能を有する圧接型半導体装直に係
り、特に電流遮断性能の向上に好適な電極板の接続に関
する。
り、特に電流遮断性能の向上に好適な電極板の接続に関
する。
従来の圧接型半導体装置、特に半導体基板をタングステ
ン又はモリブデンの支持板に合金ろう接しない構造では
、例えば特開昭47−4715号公報に記載のように、
半導体基板の両主面に展延性の金属板を配置し、それに
隣接する応力緩衝板を介してポスト電極で加圧接触する
構造にとしていた。
ン又はモリブデンの支持板に合金ろう接しない構造では
、例えば特開昭47−4715号公報に記載のように、
半導体基板の両主面に展延性の金属板を配置し、それに
隣接する応力緩衝板を介してポスト電極で加圧接触する
構造にとしていた。
そして半導体基板を中心にして、展延性金属板と応力緩
衝板を対称的に配置する事を特徴としていた。
衝板を対称的に配置する事を特徴としていた。
〔発明が解決しようとする課題〕
上記従来技術は半導体基板、展延性の金属及び応力緩衝
板が全て加圧により接触する構造であるので、特にGT
Oサイリスタのように、半導体基板の電極が多数個に分
割されている場合1分割された電極全面にわたって電気
的9機械的に均一に加工接触させる点について考慮が払
われていなかった。半導体基板に不均一な加圧力が加え
られると、半導体基板の多数個の電極とこれに接する金
属板の間の接触抵抗が不均一になり、GTOサイリスタ
の場合には多数個の電極に流れる電流分担が不均一にな
って接触抵抗の小さい電極に電流が集中する。そして電
流遮断(ターンオフ)時にはこの電流集中が更に拡大さ
れ、半導体基板全体としての電流遮断性能が低下し、著
しい場合には遮断不能又は電流が集中する部分で素子が
破壊するという問題があった0本発明の目的は半導体基
板の両主面に形成された電極とそれに接する金属板とを
電気的1機械的に均一に接続して多数個の電極に電流を
均一に分散させ、電流遮断性能を向上することにある。
板が全て加圧により接触する構造であるので、特にGT
Oサイリスタのように、半導体基板の電極が多数個に分
割されている場合1分割された電極全面にわたって電気
的9機械的に均一に加工接触させる点について考慮が払
われていなかった。半導体基板に不均一な加圧力が加え
られると、半導体基板の多数個の電極とこれに接する金
属板の間の接触抵抗が不均一になり、GTOサイリスタ
の場合には多数個の電極に流れる電流分担が不均一にな
って接触抵抗の小さい電極に電流が集中する。そして電
流遮断(ターンオフ)時にはこの電流集中が更に拡大さ
れ、半導体基板全体としての電流遮断性能が低下し、著
しい場合には遮断不能又は電流が集中する部分で素子が
破壊するという問題があった0本発明の目的は半導体基
板の両主面に形成された電極とそれに接する金属板とを
電気的1機械的に均一に接続して多数個の電極に電流を
均一に分散させ、電流遮断性能を向上することにある。
かかる目的は、半導体基板の一方主面に形成された電極
を、薄い金属板により金属学的に合金接着し、特に多数
個に分割された電極を薄い金属板で並列に結合すること
により達成される。
を、薄い金属板により金属学的に合金接着し、特に多数
個に分割された電極を薄い金属板で並列に結合すること
により達成される。
また、半導体基板の他方の主面に形成された電極に薄い
金属板を接着すると目的を達成する上で好ましい結果が
得られる。ここでいう薄い金属板とは、モリブデン、タ
ングステン、金、銀、銅から選ばれた材料で作られ、0
.5−一以下好ましくはO、l tmrm付近の厚さを
有する金属板である。
金属板を接着すると目的を達成する上で好ましい結果が
得られる。ここでいう薄い金属板とは、モリブデン、タ
ングステン、金、銀、銅から選ばれた材料で作られ、0
.5−一以下好ましくはO、l tmrm付近の厚さを
有する金属板である。
半導体基板の一方主面に形成された電極に薄い金属板を
接着することは、電極が多数個に分割された一方の主面
では薄い金属板により多数個の電極を一体化することに
なり、多数個の各々の電極と金属板の間に介在する接触
抵抗を無くすことができる。そのため多数個の電極に流
れる電流の分担が均一化されるので電流遮断時の電流集
中を低減でき、安全に電流を遮断できる。また、他方の
主面において電極と薄い金属板を接着すれば、半導体基
板と異なる材料の接着による半導体基板自体の変形を防
止することになり、さらに薄い金属板とそれに対向する
応力緩衝板間の接触抵抗も低減できる。このことは、一
方主面に形成される電極が多数個に分割されていない場
合においても本発明の効果が期待できることを意味して
いる。
接着することは、電極が多数個に分割された一方の主面
では薄い金属板により多数個の電極を一体化することに
なり、多数個の各々の電極と金属板の間に介在する接触
抵抗を無くすことができる。そのため多数個の電極に流
れる電流の分担が均一化されるので電流遮断時の電流集
中を低減でき、安全に電流を遮断できる。また、他方の
主面において電極と薄い金属板を接着すれば、半導体基
板と異なる材料の接着による半導体基板自体の変形を防
止することになり、さらに薄い金属板とそれに対向する
応力緩衝板間の接触抵抗も低減できる。このことは、一
方主面に形成される電極が多数個に分割されていない場
合においても本発明の効果が期待できることを意味して
いる。
以下1本発明の一実施例を第1図により説明する。
第1図は圧接型GTOサイリスタの断面構造図で、円板
状を有する半導体基板1のカソード面においては多数個
オーミック接触したカソード電極2に薄い円板状のカソ
ード電極板4が接着され。
状を有する半導体基板1のカソード面においては多数個
オーミック接触したカソード電極2に薄い円板状のカソ
ード電極板4が接着され。
他方アノード面においては、分割されていないアノード
電極3に薄い円板状のアノード電極板5が接着されてい
る。そして、カソード電極板4は円板状のカソード応力
緩衝板6を介してカソードポスト電極8に、アノード電
極板5は円板状のアノード応力緩衝板7を介してアノー
ドポストを極9によりそれぞれ加圧接触している。一方
、ゲート電極12はゲートリード13がゲート絶縁体1
4と座金11を介して皿バネ10により一定圧力で加圧
接触されている。そして半導体基板1はボス1〜電極8
,9.絶縁体15及びフランジ16゜17により構成さ
れる容器内に気密封止されている。第2図は第1図の要
部を拡大゛して示したものである。半導体基板1のカソ
ード電極2とアノード電極3に接着するカソード電極板
4とアノード電極板5はこれの接着時に、又は量導体装
置動作時に半導体基板1に過大な応力を与えない様にそ
の厚さは0.5mm以下で0 、1 am程度であるこ
とが望ましい。そしてその材料はモリブデンやタングス
テンであれば、熱膨張係数が半導体基板1の材料である
シリコン等に近似しているので半導体基板に与える応力
は小さくなり信頼性の高いものとなる。また、銅、銀、
金等の材料である場合には電気、熱伝導が良好であるた
め半導体装置全体としての特性が向上する。熱膨張係数
は半導体基板]と大きく異なってくるが縦弾性係数が小
さく、また薄板であるため半導体基板1に与える応力は
小さいものとなり不都合は生じない。さらに、カソード
電極板4とアノード電極板5と同じ厚みにする事で異な
る材料の接着による半導体基板1の彎曲を防止できる。
電極3に薄い円板状のアノード電極板5が接着されてい
る。そして、カソード電極板4は円板状のカソード応力
緩衝板6を介してカソードポスト電極8に、アノード電
極板5は円板状のアノード応力緩衝板7を介してアノー
ドポストを極9によりそれぞれ加圧接触している。一方
、ゲート電極12はゲートリード13がゲート絶縁体1
4と座金11を介して皿バネ10により一定圧力で加圧
接触されている。そして半導体基板1はボス1〜電極8
,9.絶縁体15及びフランジ16゜17により構成さ
れる容器内に気密封止されている。第2図は第1図の要
部を拡大゛して示したものである。半導体基板1のカソ
ード電極2とアノード電極3に接着するカソード電極板
4とアノード電極板5はこれの接着時に、又は量導体装
置動作時に半導体基板1に過大な応力を与えない様にそ
の厚さは0.5mm以下で0 、1 am程度であるこ
とが望ましい。そしてその材料はモリブデンやタングス
テンであれば、熱膨張係数が半導体基板1の材料である
シリコン等に近似しているので半導体基板に与える応力
は小さくなり信頼性の高いものとなる。また、銅、銀、
金等の材料である場合には電気、熱伝導が良好であるた
め半導体装置全体としての特性が向上する。熱膨張係数
は半導体基板]と大きく異なってくるが縦弾性係数が小
さく、また薄板であるため半導体基板1に与える応力は
小さいものとなり不都合は生じない。さらに、カソード
電極板4とアノード電極板5と同じ厚みにする事で異な
る材料の接着による半導体基板1の彎曲を防止できる。
一方、カソード応力緩衝板6とアノード応力緩衝板7は
、半導体基板1と大きく熱膨張係数の異なる通常は銅か
らなるカソードポスト電極8とアノードポスト電極9か
ら受ける熱応力を緩和するため、1mm以上の板厚でか
つ材料は熱膨張係数が半導体基板に近く、縦弾性係数が
銅より十分大きいモリブデンやタングステンが用いられ
る。
、半導体基板1と大きく熱膨張係数の異なる通常は銅か
らなるカソードポスト電極8とアノードポスト電極9か
ら受ける熱応力を緩和するため、1mm以上の板厚でか
つ材料は熱膨張係数が半導体基板に近く、縦弾性係数が
銅より十分大きいモリブデンやタングステンが用いられ
る。
本実施例によれば、多数個に分割されたカソード電極2
をカソード電極板4で接着一体化したので、加圧の不均
一による接触抵抗を無くなって最良の並列動作が可能と
なり、またアノード電極3をアノード電極板で接着して
カソード電極板3を接着した影響を緩和しているのでG
TOサイリスタの性能を十分引出すことができる。さら
に本実施例の構成からなる半導体装置はGTOサイリス
タばかりでなく、圧接型のサイリスタトランジス、 タ
、ダイオードやSIサイリスタの様な比較的大電流を制
御する圧接型半導体装置に適用する事により各々の装置
の特性を最大に引出すことが可能となる。
をカソード電極板4で接着一体化したので、加圧の不均
一による接触抵抗を無くなって最良の並列動作が可能と
なり、またアノード電極3をアノード電極板で接着して
カソード電極板3を接着した影響を緩和しているのでG
TOサイリスタの性能を十分引出すことができる。さら
に本実施例の構成からなる半導体装置はGTOサイリス
タばかりでなく、圧接型のサイリスタトランジス、 タ
、ダイオードやSIサイリスタの様な比較的大電流を制
御する圧接型半導体装置に適用する事により各々の装置
の特性を最大に引出すことが可能となる。
本発明によれば、半導体基板に多数個配列された電極を
薄い電極板で均一に接着するため電極と電極板間の接触
抵抗を無くすことができ、これにより加圧の不均一によ
る接触抵抗の不均一、さらに接触抵抗の不均一による電
流遮断時の電流集中の増大を低減できるので電流遮断性
能が向上する効果がある。
薄い電極板で均一に接着するため電極と電極板間の接触
抵抗を無くすことができ、これにより加圧の不均一によ
る接触抵抗の不均一、さらに接触抵抗の不均一による電
流遮断時の電流集中の増大を低減できるので電流遮断性
能が向上する効果がある。
第1図は本発明の一実施例の圧接型GTOサイリスタの
縦断面図、第2図は第1図の要部拡大図である。 1・・・半導体基板、2・・・カソード電極、3・・・
アノード電極、4・・・カソード電極板、5・・・7ノ
ード電極板、6・・・カソード応力緩衝板、7・・・ア
ノード応力板。
縦断面図、第2図は第1図の要部拡大図である。 1・・・半導体基板、2・・・カソード電極、3・・・
アノード電極、4・・・カソード電極板、5・・・7ノ
ード電極板、6・・・カソード応力緩衝板、7・・・ア
ノード応力板。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、少なくとも1つのPN接合を有する半導体基板と、
該半導体基板の両主面に設けられた一対の第1の電極板
と、熱膨張係数が半導体基板に近く、かつ厚みが第1の
電極板より厚い一対の第2の電極板と、第1電極板と第
2電極板を介して前記半導体基板の両主面を圧接する一
対の金属ポスト電極とを具備し、第1電極板を半導体基
板の両主面に各々接着した事を特徴とする圧接型半導体
装置。 2、一対の主面間に少なくとも1つのPN接合を有する
半導体基板と、半導体基板の一方の主面にオーミック接
触した一方の電極と、一方の電極上に載置接着された第
1の電極板と、第1の電極板上に載置され第1の電極板
より厚さが大きく半導体基板に近似した熱膨張係数を有
する第2の電極板と、第2の電極板上に載置され第2の
電極板を第1の電極板に押圧する第1の金属ポスト電極
とを具備することを特徴とする圧接型半導体装置。 3、請求項2記載の一方の電極が多数個に分割され、そ
れぞれが第1の電極板に接着していることを特徴とする
圧接型半導体装置。 4、請求項2記載の第1の電極板がタングステン、モリ
ブデン、金、銀、銅から選択された材料からなつている
ことを特徴とする圧接型半導体装置。 5、一対の主面間に少なくとも1つのPN接合を有する
円板状の半導体基板と、半導体基板の一方主面にオーミ
ック接触した複数個の一方の電極と、半導体基板の他方
主面にオーミック接触した他方の電極と、複数個の一方
の電極に接着した円板状の第1の電極板とを具備するサ
ブアセンブリを、半導体基板に近似した熱膨張係数を有
し第1の電極板より厚い円板状を有する一対の第2の電
極板を介して一対の金属ポスト電極により押圧すること
を特徴とする圧接型半導体装置。 6、請求項5記載の第1の電極板がタングステン、モリ
ブデン、金、銀、銅から選ばれた材料からなつているこ
とを特徴とする圧接型半導体装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63039395A JP2569109B2 (ja) | 1988-02-24 | 1988-02-24 | 圧接型半導体装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63039395A JP2569109B2 (ja) | 1988-02-24 | 1988-02-24 | 圧接型半導体装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH01215028A true JPH01215028A (ja) | 1989-08-29 |
JP2569109B2 JP2569109B2 (ja) | 1997-01-08 |
Family
ID=12551809
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP63039395A Expired - Fee Related JP2569109B2 (ja) | 1988-02-24 | 1988-02-24 | 圧接型半導体装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2569109B2 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5633536A (en) * | 1995-06-20 | 1997-05-27 | Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha | Press contact type semiconductor device |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5921033A (ja) * | 1982-07-27 | 1984-02-02 | Mitsubishi Electric Corp | 全圧接型半導体装置 |
-
1988
- 1988-02-24 JP JP63039395A patent/JP2569109B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5921033A (ja) * | 1982-07-27 | 1984-02-02 | Mitsubishi Electric Corp | 全圧接型半導体装置 |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5633536A (en) * | 1995-06-20 | 1997-05-27 | Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha | Press contact type semiconductor device |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2569109B2 (ja) | 1997-01-08 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |