JPS5845169A - 炭化珪素焼結体の製造法 - Google Patents
炭化珪素焼結体の製造法Info
- Publication number
- JPS5845169A JPS5845169A JP56144424A JP14442481A JPS5845169A JP S5845169 A JPS5845169 A JP S5845169A JP 56144424 A JP56144424 A JP 56144424A JP 14442481 A JP14442481 A JP 14442481A JP S5845169 A JPS5845169 A JP S5845169A
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- JP
- Japan
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- sintered body
- silicon carbide
- powder
- manufacture
- slurry
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- Pending
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- Producing Shaped Articles From Materials (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は泥漿鋳込み成形法により不純物の混入のない炭
化珪素焼結体をうる方法に関するものである。
化珪素焼結体をうる方法に関するものである。
最近サブミクロンの炭化珪素(以下SiCと称する)粉
末にホウ素またはアルミニウム、ベリリウムなどから選
ばれた化合物と炭素材を添加し焼成することにより理論
密度に近い高密度のSIC焼結体がえられるようになり
8iC焼結体を高温で使用する各種部品に適用しうるよ
うになってきた。そして上記高密度の8iC焼結体の成
形方法としては通常のセラミックの場合と同様に鋳込み
、加圧成形、ろくろ成形表ど各種の成形方法が適用でき
るが9本発明においては大形の肉薄円筒状または多角筒
状のSiC焼結体をうるために排泥鋳込み成形法を採用
した。すなわち8iC粉末を′主体とした泥漿を石こう
型に流し込み必要厚さに着肉後余分の泥漿を排泥し脱型
す−ることにより成形する方法である。しかしながら上
記方法の場合サブミクロンの8iC1)末を主体とした
泥漿を用いるために成形体が石こう型からはがれにくい
ばか9でなく成形体に亀裂が発生しやすいなどの欠点が
ある。
末にホウ素またはアルミニウム、ベリリウムなどから選
ばれた化合物と炭素材を添加し焼成することにより理論
密度に近い高密度のSIC焼結体がえられるようになり
8iC焼結体を高温で使用する各種部品に適用しうるよ
うになってきた。そして上記高密度の8iC焼結体の成
形方法としては通常のセラミックの場合と同様に鋳込み
、加圧成形、ろくろ成形表ど各種の成形方法が適用でき
るが9本発明においては大形の肉薄円筒状または多角筒
状のSiC焼結体をうるために排泥鋳込み成形法を採用
した。すなわち8iC粉末を′主体とした泥漿を石こう
型に流し込み必要厚さに着肉後余分の泥漿を排泥し脱型
す−ることにより成形する方法である。しかしながら上
記方法の場合サブミクロンの8iC1)末を主体とした
泥漿を用いるために成形体が石こう型からはがれにくい
ばか9でなく成形体に亀裂が発生しやすいなどの欠点が
ある。
通常セラミックスの排泥鋳込み成形法の場合には成形体
の脱型を容易ならしめるためにあらかじめ雲母や滑石な
′どの粉末を離型剤として石こう型のIlI面に塗布し
て成形する方法が用いられるがこの方法の採用は本発明
の場合には不適当である。
の脱型を容易ならしめるためにあらかじめ雲母や滑石な
′どの粉末を離型剤として石こう型のIlI面に塗布し
て成形する方法が用いられるがこの方法の採用は本発明
の場合には不適当である。
すなわち、成形体の表面に上記雲母や滑石などの離型剤
が付着したtま焼結されるとSIC焼結体の表面にNa
、 K、 Cat At、 Fe、 Cr、 Cuなど
の不純物が付着するためにこのSiC焼結体を高純度が
要求される半導体拡散炉のライナーチューブやプロセス
チューブとして使用することができないからである。
が付着したtま焼結されるとSIC焼結体の表面にNa
、 K、 Cat At、 Fe、 Cr、 Cuなど
の不純物が付着するためにこのSiC焼結体を高純度が
要求される半導体拡散炉のライナーチューブやプロセス
チューブとして使用することができないからである。
本発明の目的は上記のような不純物の付着することがな
い泥漿鋳込成形法を用いた8iC焼結体の製造方法を提
供する仁とにある。
い泥漿鋳込成形法を用いた8iC焼結体の製造方法を提
供する仁とにある。
本発明はカーボン繊維を付着した石こう型に炭化珪素粉
末を主成分とする泥漿を流し込み見られた成形体を焼成
する仁とを特徴とする炭化珪素焼結体の製造法に関する
。
末を主成分とする泥漿を流し込み見られた成形体を焼成
する仁とを特徴とする炭化珪素焼結体の製造法に関する
。
亨発明に用いられるカーボン繊維(黒鉛繊維を含む)と
しては、、太さ10〜20μm、長さ0.5〜1〇−程
度のものが好適であり、これを水に分散した状態でスプ
レー、乾燥して石こう型の表面に薄く付着せしめる。こ
の場合の付着□量としては0.005 t/ed”程度
で十分である。
しては、、太さ10〜20μm、長さ0.5〜1〇−程
度のものが好適であり、これを水に分散した状態でスプ
レー、乾燥して石こう型の表面に薄く付着せしめる。こ
の場合の付着□量としては0.005 t/ed”程度
で十分である。
本発明に用いられるSiC粉末は平均粒径1μm以下の
ものが好適であり、また結晶系としてはα型、β減のい
ずれであってもよい。
ものが好適であり、また結晶系としてはα型、β減のい
ずれであってもよい。
さらに焼結助剤としてホウ素化合物と炭素の添加が必要
でおるが、ホウ素化合物としてはホウ素含有量α25〜
596のもの、炭素材としてはカーボンブラックあるい
は炭素含有量が0.5〜5sの有機材料が追歯である。
でおるが、ホウ素化合物としてはホウ素含有量α25〜
596のもの、炭素材としてはカーボンブラックあるい
は炭素含有量が0.5〜5sの有機材料が追歯である。
またSiC粉末を主成分とする泥漿は上記8iC粉末、
焼結助剤の他に、解膠剤、界面活性剤。
焼結助剤の他に、解膠剤、界面活性剤。
バインダーを添加しこれらに28〜4096重量部の水
を混合し調整される。鋳込みによって見られた成形体は
真空中あるいは不活性雰囲気中で1900〜2500℃
の温度で焼成する。
を混合し調整される。鋳込みによって見られた成形体は
真空中あるいは不活性雰囲気中で1900〜2500℃
の温度で焼成する。
なお、焼成体表面に付着するカーボン繊維はサンドプラ
スト処理あるいは空気中の燃焼によ抄容易に除去するこ
とができる。
スト処理あるいは空気中の燃焼によ抄容易に除去するこ
とができる。
次に本発明を実施例シよび比較例によりさらに具体的に
説明する。
説明する。
実施例1
平均粒径0.3μmのβ蓋のSiC粉末100重量部、
平均粒径1.5μmのB4C粉末0.5重量部、カーボ
ンブラック1重量部、ケイ酸ナトリウム0.3重量部、
界面活性剤(花王アトラス社製デモールN ’) 0.
1重量部、ポリビニルエルコール(す2000 )0.
3重量部、水35重量部をボールミルで1時間混合し鋳
込泥漿とする。一方向径180IIm、長さ70011
1の制減となっている石こう型の内表面に太さ12..
5μm、長さ3mmの黒鉛畝線(太洋科研社製C203
)の5重量%を含む水約400?を均一にスプレー、乾
燥して黒鉛繊維を付着せしめる。
平均粒径1.5μmのB4C粉末0.5重量部、カーボ
ンブラック1重量部、ケイ酸ナトリウム0.3重量部、
界面活性剤(花王アトラス社製デモールN ’) 0.
1重量部、ポリビニルエルコール(す2000 )0.
3重量部、水35重量部をボールミルで1時間混合し鋳
込泥漿とする。一方向径180IIm、長さ70011
1の制減となっている石こう型の内表面に太さ12..
5μm、長さ3mmの黒鉛畝線(太洋科研社製C203
)の5重量%を含む水約400?を均一にスプレー、乾
燥して黒鉛繊維を付着せしめる。
次に上記石こう型に上虻泥漿を流し込み肉厚を3mとし
た後排泥し脱型によりえられた成形体を24時間ア11
0℃まで昇温乾燥する。
た後排泥し脱型によりえられた成形体を24時間ア11
0℃まで昇温乾燥する。
次に上記の乾燥した成形体を真空中(0,ITorp千
10 atm)において500℃/1時間の速度で2
200℃まで昇温し2200℃に30分間保持し焼結し
た。
10 atm)において500℃/1時間の速度で2
200℃まで昇温し2200℃に30分間保持し焼結し
た。
なお焼結体表面に付着した黒鉛繊維はサンドブラストに
より除去した。該SiC焼結体の破片につき分光分析を
行なった結果、多量のホウ素が検出されたが* AtI
KI Na、 Fe、 Cr、 Cuは10ppm以
下であ抄成形による不純物の混入はなかった。
より除去した。該SiC焼結体の破片につき分光分析を
行なった結果、多量のホウ素が検出されたが* AtI
KI Na、 Fe、 Cr、 Cuは10ppm以
下であ抄成形による不純物の混入はなかった。
比較例1
実施例1に用いた石こう型の内表面に20〜200メツ
シユの雲母粉末の5重量−を含む水約400iを均一に
スプレー乾燥した後実施例1の泥漿を流し込み同様に成
形、焼結した。該SiC焼結体の破片につき分光分析を
行なった結果、多量のホウ素の外にAz500ppm、
CCa100pp、Fe50ppmと多くの不純物が検
出された。なお、この場合に、Na、Cr、Cuは10
ppm以下であり問題はなかった。
シユの雲母粉末の5重量−を含む水約400iを均一に
スプレー乾燥した後実施例1の泥漿を流し込み同様に成
形、焼結した。該SiC焼結体の破片につき分光分析を
行なった結果、多量のホウ素の外にAz500ppm、
CCa100pp、Fe50ppmと多くの不純物が検
出された。なお、この場合に、Na、Cr、Cuは10
ppm以下であり問題はなかった。
以上のように本発明によるときは石こう型に離臘剤とし
て天然鉱物の代りにカーボン繊維を用いたので成形体の
離型時にその表面に付着した無機物が、SiC焼結体の
純度を低下することがなく。
て天然鉱物の代りにカーボン繊維を用いたので成形体の
離型時にその表面に付着した無機物が、SiC焼結体の
純度を低下することがなく。
高純度でかう大形の8iC焼結体を製造することができ
その効果は極めて大である。
その効果は極めて大である。
Claims (1)
- 1、 カーボン繊維を付着した石こう型に炭化珪素粉末
を主成分とする泥漿を流し込み、見られ九成形体を焼成
することを特徴とする炭化珪素焼結体の製造法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP56144424A JPS5845169A (ja) | 1981-09-12 | 1981-09-12 | 炭化珪素焼結体の製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP56144424A JPS5845169A (ja) | 1981-09-12 | 1981-09-12 | 炭化珪素焼結体の製造法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS5845169A true JPS5845169A (ja) | 1983-03-16 |
Family
ID=15361861
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP56144424A Pending JPS5845169A (ja) | 1981-09-12 | 1981-09-12 | 炭化珪素焼結体の製造法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS5845169A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS61174614A (ja) * | 1985-01-29 | 1986-08-06 | Mitsumi Electric Co Ltd | 高周波コイルの製造法 |
JPH02258587A (ja) * | 1989-03-20 | 1990-10-19 | Nippon Polyester Kk | 耐食性容器 |
-
1981
- 1981-09-12 JP JP56144424A patent/JPS5845169A/ja active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS61174614A (ja) * | 1985-01-29 | 1986-08-06 | Mitsumi Electric Co Ltd | 高周波コイルの製造法 |
JPH02258587A (ja) * | 1989-03-20 | 1990-10-19 | Nippon Polyester Kk | 耐食性容器 |
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