JPS584447B2 - 還元再酸化型半導体磁器コンデンサ素体の製造方法 - Google Patents

還元再酸化型半導体磁器コンデンサ素体の製造方法

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JPS584447B2
JPS584447B2 JP49060026A JP6002674A JPS584447B2 JP S584447 B2 JPS584447 B2 JP S584447B2 JP 49060026 A JP49060026 A JP 49060026A JP 6002674 A JP6002674 A JP 6002674A JP S584447 B2 JPS584447 B2 JP S584447B2
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JP
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semiconductor ceramic
capacitance
ceramic capacitor
type semiconductor
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JP49060026A
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山下和義
柴山尚之
杉江茂
藤川永生
本田幸雄
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Murata Manufacturing Co Ltd
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Murata Manufacturing Co Ltd
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Description

【発明の詳細な説明】 この発明は各特性の釣合いがとれたコンデンサを提供で
きる還元再酸化型半導体磁器コンデンサ素体の製造方法
に関するものである。
従来よりBaTi03系半導体組成物を焼結して半導体
化させ、表面に銀ペイントを塗布、熱処理することによ
って半導体磁器表面こ誘導体層を設けた半導体磁器コン
デンサはすてこ知られている。
しかしこの種のものは静電容量を大きくすれば、絶縁抵
抗もしくは破壊電圧が小さくなり、また逆こ絶縁抵抗や
破壊電圧を向上させようとすれば、静電容量が小さくな
ったり、あるいは静電容量と破壊電圧をあわせて大きく
しようとすれば、温度による容量の変化率が大きくなる
欠点があった。
またこの種のものは一般に電極の選択が難かしく、電極
の種類や設けられた状態こよってコンデンサの特性が左
右されたり、電極の上から半田付けなどを行なうと誘電
体層や堰層が破壊され、コンデンサとして用を果さなく
なるなどの欠点をも有していた。
さらこ電極の選択を自由こ行なえるものとして、BaT
i03系半導体磁器の境界層こCu,Bi,Mnなどを
拡散させた境界層型半導体磁器コンデンサが知られてい
るが、温度や印加電圧こよって絶縁抵抗が大きく変化し
たり、温度こよる容量変化率が太きいという問題があっ
た。
この発明は上述したような欠点を解消したもので、高誘
電率で誘電体損失が小さく、また絶縁抵抗、破壊電圧が
大きく、さらこ温度こよる容量変化率、温度および印加
電圧こよる絶縁抵抗の変化が小さく、しかも電極の上か
ら半田付けなどを行なっでも特性が変化せず、耐湿性こ
もすぐれた安定な半導体磁器コンデンサが得られる還元
再酸化型半導体磁器コンデンサ素体の製造方法を提供す
るものである。
この発明方法を実施するこは、まずBaCO3,TiO
2を混合して1000〜1200℃の温度にて約2時間
酸化性雰囲気で仮焼してBaT103を作り、これこ添
加物であるBi203,ZrO2、マンガン酸化物また
は焼成こよりマンガン酸化物となるマンガン化合物を添
加して混合し、次いで酸化性雰囲気で1300〜140
0Cの温度こて焼成し、引き続いて水素または一酸化炭
素などを含む還元性雰囲気で約1100℃の温度にて加
熱処理する。
さらこ酸化性雰囲気で900〜1050℃の温度にて加
熱し、次いで電極を設けることにより半導体磁器コンデ
ンサを得るのである。
以下にこの発明を実施例こ従って詳述することにする。
BaC03,Ti02を配合、混合し、950〜120
0Cの温度範囲で2時間仮焼してBaTi03を作り、
これに添加物であるBi203,ZrO2,MnC03
(Mnこ換算して)を第1表こ示す割合いで加え、さら
こバインダーとして約3.5重量%のビニル樹脂を加え
て整粒した。
次いでこれを油圧プレスこより直径12mm.肉厚0.
6mmの円板こ成型してアルミナ質の匣の上こ並べ、空
気中で約1350℃の温度こて2時間焼成した。
引き続いて水素15%、窒素85%の容量比からなる還
元性雰囲気で900〜1250℃の温度こて2時間熱処
理し、さらこ850〜1100C,30分間空気中で熱
処理して冷却し、黒味まゝつだ色調の半導体磁器素体を
得た。
得られた半導体磁器素体に銀ペイントを塗布して乾燥し
、空気中で約800℃,5分間で銀電極を焼付けて半導
体磁器コンデンサの各試料を得た。
第1図はこの発明方法によって得た半導体磁器コンデン
サを示し、1は半導体磁器、2は誘電体層、3,4は銀
電極である。
次こ各試料こついて、静電容量、誘電体損失、絶縁抵抗
、破壊電圧、C.R積および容量温度変化率こついて測
定したところ、第2表に示すような測定結果が得られた
各特性は次に示す条件で測定したものである。
静電容量:試料の両面こ設けた電極面積を1Cm2とし
、温度25C,周波数IKHz, 電圧0.3Vr.m.sで測定したときの面積当りの容
量値である。
誘電体損失:静電容量の測定条件に対応して測定したと
きの値である。
絶縁抵抗:温度25℃において、試料こ直流電圧25V
を印加した25秒後におけ る値である。
破壊電圧:温度25Cにおいて、試料こ印加した直流電
圧を昇圧させたとき電流が 急増する電圧の下限値を示している C.R積:静電容量と絶縁抵抗の積を示したものである
容量温度:温度25Cにおける容量を基準とし変化率
て、−30C〜+85C間の容量温度特性を測定し、
容量変化率の上限 と下限を示したものである。
第1表、第2表の各試料番号は一致し、表中の※印はこ
の発明の範囲外であり、それ以外は範囲内のものである
第2表から明らかなように、この発明の範囲内のものは
各特性こおいてすぐれており、しかも互いに釣合いのと
れた特性のものが得られている。
第2図は試料番号1,12について容量温度特性を測定
したもので、試料番号12(発明範囲内のもの)は試料
番号1(発明範囲外のもの)こくらへ平坦な容量温度特
性を有しており、広い温麻範囲で使用できることがわか
る。
次に耐湿性を調べるために、試料を2時間煮潤したのち
十分こ乾燥して絶縁抵抗を測定した。
部3表はその測定結果を示したものであり、試料召号は
第1表、第2表と一致する。
各試料について絶縁抵抗のみを測定したのは、絶縁抵抗
の変化がそのほかの特性に直接影響し、種々の特性変化
を調べる目安となるからであり、この発明こよるものは
耐湿性のすぐれたものが得られることは明白である。
この発明こおいて組成範囲を限定したのは次の理由こよ
る。
すなわちBaTi03にB1203のみを添加した場合
は、Bi203が蒸発するためか焼結が困難であり、ま
たZrO2のみを添加した場合は還元しにくくなり、さ
らにマンガン酸化物または焼成こよりマンガン酸化物と
なるマンガン化合物のみを添加した場合こは、半導体化
しないためBi203,ZrO2およびマンガン酸化物
または焼成によりマンガン酸化物となるマンガン化合物
を共存させ、互いこ相関関係を持たせたのである。
またEi203をBaTt03の1〜4重量%としたの
は、1重量%未満では還元されにまゝ、再酸化温度で磁
器全体が容易に再酸化されるため静電容量が小さくなり
、4重量楚をこえると静電容量が小さく、誘電体損失も
大きくなるからである。
さらこZrO2をBaTi03の1.6〜5.0重量楚
で、かつ(X−1)〜(X+3)重量楚としたのは、1
.6重量楚未満および(X−1)重量%未満になると、
焼結しにまゝなりかつ静電容量が小さくなるためである
また5.0重量楚および(X+3)重量楚をこえると、
表面こ異常粒子が析出し、破壊電圧、静電容量が小さく
なるからである。
さらこまだMnに換算してマンガン酸化物または焼成に
よりマンガン酸化物となるマンガン化合物をBaTi0
3の0.01〜0.10重量楚で、かつX/20重量%
以下にしたのは、0.01重量楚未満ではIR(C.R
積)が小さくなり、破壊電圧も小さくなるからであり、
0.10重量%およびX/20重量うをこえると静電容
量は小さくなり、IR(C.R積)も減少するからであ
る。
次にこの発明において原料を配合、混合して磁器化する
過程で、まず仮焼してBaTi03を作るには、仮焼温
度は1000〜1200℃の温度範囲こあることが好ま
しい。
これは1000℃未満で仮焼して得られたBaTi03
を使用した場合、BaT103にBi2o3,Zr02
およびマンガン酸化物または焼成こよりマンガン酸化物
となるマンガン化合物が固溶するためか容量温度特性に
大きなピークが現われ、温度こよる容量変化率は大きく
なる。
また1200℃をこえて仮焼したBaTi03を使用す
ると、一部焼結しているため粉砕、混合しに<5,添加
物を均一こ混合できないためである。
混合した粉末を焼成するこは1300〜1400℃の温
度で処理すればよい。
これは1300℃未満では焼成が困難になり、また14
00Cをこえると焼成された磁器同志が接合し、工業的
生産が不可能になるからである。
また焼成したのち還元する工程では950〜1200G
の温度範囲で処理すればよい。
950℃未満では静電容量が小さくなり、誘電体損失も
大きくなる。
また1200Cをこえると破壊電圧は小さくなる。
さらに再酸化の工程こおいては900〜1050℃で処
理することが好ましい。
900℃未満では破壊電圧は小さくなり、耐湿性も悪く
なる。
また1000℃をこえると磁器全体が再酸化され、高誘
電率の半導体磁器コンデンサは得られなくなる。
一般に還元再酸化型の半導体磁器コンデンサは還元処理
を終えると、ふたたび酸化性雰囲気で加熱して電極の付
与、および磁器の再酸化こより誘電体層を形成すること
が行なわれている。
ところがこの発明方法によれば、電極を付与する前こす
でに安定した誘電体層が半導体磁器に形成されているた
め、電極の付与こよって特性が左右されない特徴を有し
ており、通常の半導体磁器コンデンサと同様に銀の焼付
けができるほか、蒸着そのほか任意の方法こよって電極
を形成することができる。
したがって電極の上から半田付けをするなどの処理をし
ても、特性が劣化するおそれがないなど実用上大きな利
点を備えている。
またこの発明方法により得られた半導体磁器コンデンサ
は耐湿性こすぐれている。
これは磁器の粒径が約1μ程度と非常こ緻密なため、電
極の下に均一な誘電体層が間隙のないようこ形成され、
また電極の種類を広範囲こ選べることによって耐蝕性の
ある電極を付与できることによるものと考えられる。
さらここれは表面の誘電体層が電極部分こまゝまらず磁
器のほゞ全表面に形成されているため、磁器表面での放
電が発生しこまゝなっており、これが耐湿性こ寄与して
いるものと考えられる。
以上のようにこの発明によれば、各特性の釣合いがとれ
た半導体磁器コンデンサ、すなわち高誘電率で誘電体損
失が小さく、また絶縁抵抗、破壊電圧が大きく、さらこ
温度による容量変化率、温度および印加電圧による絶縁
抵抗の変化が小さく、しかも電極の上から半田付けなど
を行なっても特性が変化せず、耐湿性のすぐれた安定な
半導体磁器コンデンサが得られるのである。
【図面の簡単な説明】
第1図はこの発明こよって得られた半導体磁器コンデン
サの断面図、第2図は半導体磁器コンデンサの容量温度
特性図である。 1・・・・・・半導体磁器、2・・・・・・誘電体層、
3,4・・・・・・銀電極。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 次の諸工程からなる還元再酸化型半導体磁器コンデ
    ンサ素体の製造方法。 (1)仮焼されたBaTi03を基体として、これこ添
    加物であるBi203,ZrO2.およびマンガン酸化
    物または焼成によりマンガン酸化物となるマンガン化合
    物をMnに換算して、それぞれX,y,z重量楚で表わ
    したとき、次に示される組成範囲で添加し混合する工程
    。 X(一B1203) 1〜4重量楚 y(=Zr02)−1.6〜5重量%で、かつ(x−1
    )〜(x+3) (2)混合物を酸化性雰囲気で焼成する工程。 (3)還元性雰囲気で加熱処理する工程。 (4)酸化性雰囲気で加熱処理する工程。
JP49060026A 1974-05-27 1974-05-27 還元再酸化型半導体磁器コンデンサ素体の製造方法 Expired JPS584447B2 (ja)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS63116957A (ja) * 1986-10-31 1988-05-21 Honda Motor Co Ltd 自動車用盗難防止装置

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JPS63116957A (ja) * 1986-10-31 1988-05-21 Honda Motor Co Ltd 自動車用盗難防止装置

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