JPS5842734A - 液体金属浴処理用回転式ガス拡散装置 - Google Patents
液体金属浴処理用回転式ガス拡散装置Info
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は液体金属及び特にアルキニウム及びその合金の
浴を処理するための回転式ガス拡散装置に係る。
浴を処理するための回転式ガス拡散装置に係る。
今一製半製品の成形にとルかがるに先立って所望の籍性
や製品の凝固容易性を害する恐れのある金属中の非金属
性不純物や溶解ガスを除外するために粗金属を仕上げ処
理する必要があることは尚業者に公知のところである。
や製品の凝固容易性を害する恐れのある金属中の非金属
性不純物や溶解ガスを除外するために粗金属を仕上げ処
理する必要があることは尚業者に公知のところである。
目下のところ2つの主要な処理方法が知られている・第
一の処理法拡、液体金属に活性又は不活性ろ過媒質を通
過させて1機械的、化学的にもしくはその両方の作用に
より不純物を沈着させようとする方法である。第二の処
理法は不活性ガス、反応性ガスもしくはそれらの混合ガ
スを利用して融剤のような添加物の有無にかかわらずガ
スと液体金属とを多少強めに混合させるという方法であ
る・さらにこれらの2つの方法は相互に組合せることも
できる・ 第二の方法の場合数多くの具体例が実施されている。特
にガスを金属浴中に導入する方法によるものや、処理効
率が2相の界面と結びついていることを知って液体内の
優れたガス拡散を得る方法によるものが知られている。
一の処理法拡、液体金属に活性又は不活性ろ過媒質を通
過させて1機械的、化学的にもしくはその両方の作用に
より不純物を沈着させようとする方法である。第二の処
理法は不活性ガス、反応性ガスもしくはそれらの混合ガ
スを利用して融剤のような添加物の有無にかかわらずガ
スと液体金属とを多少強めに混合させるという方法であ
る・さらにこれらの2つの方法は相互に組合せることも
できる・ 第二の方法の場合数多くの具体例が実施されている。特
にガスを金属浴中に導入する方法によるものや、処理効
率が2相の界面と結びついていることを知って液体内の
優れたガス拡散を得る方法によるものが知られている。
フランス特許I!1555953号の方法ではガスはプ
ランジャによって浴中に誘導される。プランジャの下部
には、浴の攪拌とガスを浴の水面の広い範囲にわたって
広がらせるための回転装置が装備されている。
ランジャによって浴中に誘導される。プランジャの下部
には、浴の攪拌とガスを浴の水面の広い範囲にわたって
広がらせるための回転装置が装備されている。
フランス特許第2063916号の方法では、ガスは2
重カバーのある水冷式筒先を用いて液体金属中尺送入さ
れる 7ラシスi許第2166014号の方法では、ひれ付ロ
ータを固着させた回転軸及びこの軸を包囲しひ′ れ付
ステータとその下端で結合する固定スリーブとから成る
装置を用いて微細気泡の形でガスを通す。軸とスリーブ
は軸方向通路によシ離間される。
重カバーのある水冷式筒先を用いて液体金属中尺送入さ
れる 7ラシスi許第2166014号の方法では、ひれ付ロ
ータを固着させた回転軸及びこの軸を包囲しひ′ れ付
ステータとその下端で結合する固定スリーブとから成る
装置を用いて微細気泡の形でガスを通す。軸とスリーブ
は軸方向通路によシ離間される。
この通路中にガスを通し、ひれの高さまで導入する。ひ
れ部分でガス社小気泡に分かれ、ロータによp攪拌され
た金属と接触する。
れ部分でガス社小気泡に分かれ、ロータによp攪拌され
た金属と接触する。
フランス特許第2200364号の方法では、ガスはタ
ービン式攪拌機の回転中心に誘導され、あらゆる乳濁化
を避ける攪拌条件の下で液体金属と接触する。
ービン式攪拌機の回転中心に誘導され、あらゆる乳濁化
を避ける攪拌条件の下で液体金属と接触する。
その他多数の方法が、非常に微細な気泡の形でのガス導
入を0指して提案され九。しかしこれらの方法の各々が
それぞれ特定の利点を持つとはいえ、?−れらの方法の
すべてに共通して云えるととは、液体金属内でのガス気
泡の拡散が不規則にしか生じないという欠点を示すこと
である。
入を0指して提案され九。しかしこれらの方法の各々が
それぞれ特定の利点を持つとはいえ、?−れらの方法の
すべてに共通して云えるととは、液体金属内でのガス気
泡の拡散が不規則にしか生じないという欠点を示すこと
である。
実際、もし各々の気泡がその形成時に小さく。
微細分散の局部的形成をその初期において生せしめる理
由となるとすれば、逆に浴中に気泡が浸透する過程で、
気泡は他の気泡との併合によって急速に増大1.拡散は
粗雑な質らものとなる。液体と気体の交換は、ガスとそ
O送出点で接触しなかつ良俗部分においては畳に少ない
。し喪がって処理効率も不確実である。この併合現象か
ら逃れることはできないから、処理浴の全体を構成する
液の基本容積の各々(すなわち液の各部分)が最適効率
を得るために、この所望の微細分散をガスと共に形成で
きるような方式を見い出すことが必要である。
由となるとすれば、逆に浴中に気泡が浸透する過程で、
気泡は他の気泡との併合によって急速に増大1.拡散は
粗雑な質らものとなる。液体と気体の交換は、ガスとそ
O送出点で接触しなかつ良俗部分においては畳に少ない
。し喪がって処理効率も不確実である。この併合現象か
ら逃れることはできないから、処理浴の全体を構成する
液の基本容積の各々(すなわち液の各部分)が最適効率
を得るために、この所望の微細分散をガスと共に形成で
きるような方式を見い出すことが必要である。
以上のような理由で、本出願人は液体金属浴処理のため
の単純な形の、従って製作が簡単で竪牢な回転式ガス拡
散装置を研究開発し良。本装置によれば、浴全体が浴を
容れた容器の入口と出口の間を微積し一連の液流に変わ
シ、これらの液流に対してガスは連続的に浸透効、果を
及ばし、従って液体全体が処理時に液体−気体二相微細
分散状態になる。
の単純な形の、従って製作が簡単で竪牢な回転式ガス拡
散装置を研究開発し良。本装置によれば、浴全体が浴を
容れた容器の入口と出口の間を微積し一連の液流に変わ
シ、これらの液流に対してガスは連続的に浸透効、果を
及ばし、従って液体全体が処理時に液体−気体二相微細
分散状態になる。
容器中に含まれる液体金属浴の処理の友めの本発明の回
転式ガス拡散装置は、浴中に潜る羽根を装着し、ガス取
入口として機能する中空の駆動軸と結合する円筒形ロー
タを有しており、このロータには数対の導通路が5穿設
され、その各々は液体の通路として機能する1個の液流
路と、ガスの通路として機能する今一つのガス流路とを
含み、これら各対は、円筒の側面の同一地点に於いて液
−気微細分散がここで起るように別々に出口を開き、こ
の微細分散はつぎに羽根を用いて浴中に分配されること
を特徴とする・ 本発明に従う装置はそれ故、公知の部材即ち上向らせん
又は下向らせんを形成するように垂直に又は斜めに配置
され、かつ回転軸に対して対称的に配置され、任意の輪
郭を有する羽根を側壁上に装着した円筒形ロータを有す
る。このロータは、その中心に於いて軸方向に、減速機
を介して軸に対して回転運動を伝達するモータ七接続す
る上端を有する駆動軸の下部と結合している。
転式ガス拡散装置は、浴中に潜る羽根を装着し、ガス取
入口として機能する中空の駆動軸と結合する円筒形ロー
タを有しており、このロータには数対の導通路が5穿設
され、その各々は液体の通路として機能する1個の液流
路と、ガスの通路として機能する今一つのガス流路とを
含み、これら各対は、円筒の側面の同一地点に於いて液
−気微細分散がここで起るように別々に出口を開き、こ
の微細分散はつぎに羽根を用いて浴中に分配されること
を特徴とする・ 本発明に従う装置はそれ故、公知の部材即ち上向らせん
又は下向らせんを形成するように垂直に又は斜めに配置
され、かつ回転軸に対して対称的に配置され、任意の輪
郭を有する羽根を側壁上に装着した円筒形ロータを有す
る。このロータは、その中心に於いて軸方向に、減速機
を介して軸に対して回転運動を伝達するモータ七接続す
る上端を有する駆動軸の下部と結合している。
この軸はロータの高さに例えば回転継手を備える導管を
用いてその上端で受容したガスを誘導するように中空に
されている。特に好ましくは、この軸は違つfc2つの
材料から成る。一つは浴に潜る部分で一般にグラファイ
トであり、今一つは浴面上の部分で処理ガスが例えば塩
素を含む場合に腐食に耐える金属合金であり得る。軸の
浴面上の部分にはあまりにも大きすぎる温度上昇を避け
るための冷却ひれを備えることができる。このような温
度上昇はガス取入口°や駆動機構に関連する装置の耐久
性を害する恐れがある。
用いてその上端で受容したガスを誘導するように中空に
されている。特に好ましくは、この軸は違つfc2つの
材料から成る。一つは浴に潜る部分で一般にグラファイ
トであり、今一つは浴面上の部分で処理ガスが例えば塩
素を含む場合に腐食に耐える金属合金であり得る。軸の
浴面上の部分にはあまりにも大きすぎる温度上昇を避け
るための冷却ひれを備えることができる。このような温
度上昇はガス取入口°や駆動機構に関連する装置の耐久
性を害する恐れがある。
(以下余白)
本装置の特徴は、殆んどの場合グラファイト製のロータ
の内部に穿孔され独自の方法で配置されたガス循環用導
通路と金属循環用導通路との対が存在することである。
の内部に穿孔され独自の方法で配置されたガス循環用導
通路と金属循環用導通路との対が存在することである。
ガス循環路のほうについていえばそれら線放射状に配置
され、軸の中空部分と直接に又はチャンバーを介して連
結する。
され、軸の中空部分と直接に又はチャンバーを介して連
結する。
一般に円形で、使用するガスの圧力と所望のガス吐出量
との関数として種々変えることができるが、特に0.1
乃至0.4C1lの間の直径を選定するのがよい。
との関数として種々変えることができるが、特に0.1
乃至0.4C1lの間の直径を選定するのがよい。
液体金属の循環路については、これらの液流路は一般に
ロータの軸に対して斜めになってお)、ロータを貫通し
、ロータの下面か上面かに端を発し、ガス循環路の開く
正にその位置で測量に通じている。液流路の方向゛は水
平面に対して一般に10゜乃至60°傾いている。それ
らの断面は、一般に円形で、ガス誘導路の断面より大き
く、処理を望む金属の量の関数として種々変えることが
できるが、0.5 fi乃至150IIO直径が最も適
正である。
ロータの軸に対して斜めになってお)、ロータを貫通し
、ロータの下面か上面かに端を発し、ガス循環路の開く
正にその位置で測量に通じている。液流路の方向゛は水
平面に対して一般に10゜乃至60°傾いている。それ
らの断面は、一般に円形で、ガス誘導路の断面より大き
く、処理を望む金属の量の関数として種々変えることが
できるが、0.5 fi乃至150IIO直径が最も適
正である。
2つの型の導通路Qa杜同−であり、各々のガス導通路
には夫々1つの液体導通路が結合し、こうして共通の浴
中噴出点を有する導通路対がアセンブリを形成している
。
には夫々1つの液体導通路が結合し、こうして共通の浴
中噴出点を有する導通路対がアセンブリを形成している
。
機能藺では、回転により発生する遠心力の作用で液体金
属はそれに充てられた導通路内を移動する。この移動は
兎液体導通路がその端を発するのがロータの下面か上面
かによって、下から上にか又は上から下におこなわれる
、吐出量はロータの回転速度、導通路の数、導通路の断
面、徴線に対する導通路の傾斜度、導通路端藺の高さの
差、導通路の発端地点とロータ中心点との距離によって
決定される。
属はそれに充てられた導通路内を移動する。この移動は
兎液体導通路がその端を発するのがロータの下面か上面
かによって、下から上にか又は上から下におこなわれる
、吐出量はロータの回転速度、導通路の数、導通路の断
面、徴線に対する導通路の傾斜度、導通路端藺の高さの
差、導通路の発端地点とロータ中心点との距離によって
決定される。
中空軸とガス源とを加圧下に結合させ、気体誘導路内に
ガスを通す。
ガスを通す。
このガスは気体誘導路の断面が小さいため、非常に早い
速度で、流管が浴内に開く出口の地点に達する。
速度で、流管が浴内に開く出口の地点に達する。
従って液体導通路の出口断面全体にわ九って2つの相の
微細分散とガス及び金属間の緊密桑混合が生じる。
微細分散とガス及び金属間の緊密桑混合が生じる。
このような経過で生じる混合物はロータの側面から出て
交換反応が行われる浴内全体に羽根によって即座に分割
される。この分割は、併合による気泡の増大と浴の表面
からの気泡の離間が生じる以前におこなわれる。
交換反応が行われる浴内全体に羽根によって即座に分割
される。この分割は、併合による気泡の増大と浴の表面
からの気泡の離間が生じる以前におこなわれる。
液体流量に影響を与える数多くのノq2メータについて
述べれば、これらの、4?メータを、処理すべき金属の
流量全体の完全な処理を行い得るように、所定の値に調
節することが常に可能である。
述べれば、これらの、4?メータを、処理すべき金属の
流量全体の完全な処理を行い得るように、所定の値に調
節することが常に可能である。
同様に、気体流量に9いても、所定の金属量の処理に対
して一般lIc1Iめられる値にこれを調節することが
できる。以上に示す如く幾何学的、Qラメータを調節す
ることが可能な故に羽根の回転速度を低く限定すること
ができ、とうして駆動機構の技術を単純化し、材料の耐
久力を向上させるという利点が得られる。
して一般lIc1Iめられる値にこれを調節することが
できる。以上に示す如く幾何学的、Qラメータを調節す
ることが可能な故に羽根の回転速度を低く限定すること
ができ、とうして駆動機構の技術を単純化し、材料の耐
久力を向上させるという利点が得られる。
これまでに提案されてきた他のガス推進機に比して本発
明に係る装置は、羽根による攪拌に加えて、処理すべき
金属の連続かつ完全な交換を、処理ガスが噴射される正
確な場所で実施し得ることから、非常に有利な装置であ
ると考えられる。このように、最大の気−液交換表面、
従って最適の処理効率が得られる。
明に係る装置は、羽根による攪拌に加えて、処理すべき
金属の連続かつ完全な交換を、処理ガスが噴射される正
確な場所で実施し得ることから、非常に有利な装置であ
ると考えられる。このように、最大の気−液交換表面、
従って最適の処理効率が得られる。
本発明に基〈この種の装置は、処理すべき内容物を含む
あらゆる容器内に設置することがで詣る。
あらゆる容器内に設置することがで詣る。
即ち連続運転もしくは非連続運転するトリペ、保存炉(
four do maintien)もしくは仕上げ炉
(fourd’ elaboratlon )でもよい
し、中間隔壁を具備シテいてもいなくてもよいし、融剤
を介入してもしなくてもよいし、使用されるガスが1素
、アルぜン、塩素、もしくはそれらの混合ガス又はハロ
ゲン化誘導体蒸気あるいは金属の精製に有効表作用を持
つ他の何らかのガス生成物であってもよい。
four do maintien)もしくは仕上げ炉
(fourd’ elaboratlon )でもよい
し、中間隔壁を具備シテいてもいなくてもよいし、融剤
を介入してもしなくてもよいし、使用されるガスが1素
、アルぜン、塩素、もしくはそれらの混合ガス又はハロ
ゲン化誘導体蒸気あるいは金属の精製に有効表作用を持
つ他の何らかのガス生成物であってもよい。
所望の処理法、処理すべき流量、所望の処理時間に従っ
て1個又は直列もしくは並列に配置された複数個の容器
に装備することで数個の装置を使用することができる。
て1個又は直列もしくは並列に配置された複数個の容器
に装備することで数個の装置を使用することができる。
本発明は、添付した図面を参照すればさらに詳しく理解
されよう。添附図画は本発明を限定するものではない。
されよう。添附図画は本発明を限定するものではない。
第1図では、中空駆動軸1があり、この軸を通ってガス
2がチャンバー4を介してロータ3の高さの場所に誘導
され、このチャンバーの外周にはガス流路5が配設され
ておシ、このガス流路5は6の地点に通じ、この6の地
点には液流路7が同じく通じており、この液流路7はこ
の場合ロータの下直に端を発しておシ、且つ液流路7は
箪を誘導し6の地点で液−気微細分散を形成し、ζO微
細分散は次いで羽I18によって浴内に分散される。
2がチャンバー4を介してロータ3の高さの場所に誘導
され、このチャンバーの外周にはガス流路5が配設され
ておシ、このガス流路5は6の地点に通じ、この6の地
点には液流路7が同じく通じており、この液流路7はこ
の場合ロータの下直に端を発しておシ、且つ液流路7は
箪を誘導し6の地点で液−気微細分散を形成し、ζO微
細分散は次いで羽I18によって浴内に分散される。
第2図では、中空軸の下端面が、ガスの通路として機能
する導通路(ガス流路)5を穿設したロータ3のチャン
/R4と中空軸とが接続する場所に、参照番号1で示さ
れている。導通路5は、液体の通路として機能する導通
路(液流路)と同一の、地点6、即ち気−液微細分散が
羽根8によりて浴内に分散される場所6で浴内に開いて
いる。
する導通路(ガス流路)5を穿設したロータ3のチャン
/R4と中空軸とが接続する場所に、参照番号1で示さ
れている。導通路5は、液体の通路として機能する導通
路(液流路)と同一の、地点6、即ち気−液微細分散が
羽根8によりて浴内に分散される場所6で浴内に開いて
いる。
第3図には、隔壁13により上流槽11と下流槽12に
分割され、フタIOKよシ閉じられたトリペ9を示す。
分割され、フタIOKよシ閉じられたトリペ9を示す。
とのトリペ9は注液口14から液体を満たされ、排液口
15から排出される。
15から排出される。
トリ゛ぺ内の注液口14と排液口150間を通過する際
液体は本発明に従う装置の作用を受ける。
液体は本発明に従う装置の作用を受ける。
本装置には、6に於いて浴中に開いた導通路5及び7と
羽根8とを備え九ロータ3が設けられている。このロー
タ3は一部がグラファイトから成る中空軸1とチャンノ
セ4を介して結合される。この軸の上部は減速器18を
介して駆動される冷却ひれ17を備えた金属軸16上に
固着される。減速器18はモータ19によシ制御されて
おシ、この金属軸16は外部ガス源から導入されるガス
2を受容し得るように回シ継手21を介して管路2゜に
連結され゛る。
羽根8とを備え九ロータ3が設けられている。このロー
タ3は一部がグラファイトから成る中空軸1とチャンノ
セ4を介して結合される。この軸の上部は減速器18を
介して駆動される冷却ひれ17を備えた金属軸16上に
固着される。減速器18はモータ19によシ制御されて
おシ、この金属軸16は外部ガス源から導入されるガス
2を受容し得るように回シ継手21を介して管路2゜に
連結され゛る。
装置の回転中に液体は導通路7内を矢印22の方向に浸
入し1.6の位置壕で昇シ、矢印23に従ッテチャン/
94中に受容されたガスに出合う。ガスは導通路5から
噴出して微細分散を形成し、羽根8によシ矢印24の方
向に浴中に分配される。
入し1.6の位置壕で昇シ、矢印23に従ッテチャン/
94中に受容されたガスに出合う。ガスは導通路5から
噴出して微細分散を形成し、羽根8によシ矢印24の方
向に浴中に分配される。
本発明の適用例を次に示す。
即ち直g!に60α高さImのトリペに直径201高さ
8傷のグラフアイ゛ト製ロータを装備している。
8傷のグラフアイ゛ト製ロータを装備している。
ロータは直径1菌、高さ7aILの金属を通過させる役
割を果し垂線に対して456の傾斜をつけられた8個の
液体導通路と、水平に孔をあけられた直径0.1 fi
のガス通路として機能する8個のガス流路とを備える。
割を果し垂線に対して456の傾斜をつけられた8個の
液体導通路と、水平に孔をあけられた直径0.1 fi
のガス通路として機能する8個のガス流路とを備える。
トリペ内には201411アルミニウム合金を1時間に
6トンの割合で循環させる。ロータは1分間に150回
転の速度で回tし、アルゴン95%。
6トンの割合で循環させる。ロータは1分間に150回
転の速度で回tし、アルゴン95%。
塩素5%の容積比の混合ガスを4Nm”/hの割合で放
出する。
出する。
トリベの注液口では合金拡非常にガス化が強く、2 t
orrの圧力での6真空テスト”に於いて0.85ce
7160gの水素含有量を示す。
orrの圧力での6真空テスト”に於いて0.85ce
7160gの水素含有量を示す。
排液口では同じテストにかけてもむの合金は0.14c
c/1001 の水素含有量しか示さず、気泡の出現
も全くない。このことは本発明の装置を用いて得られる
処理が有効であることを証明している。
c/1001 の水素含有量しか示さず、気泡の出現
も全くない。このことは本発明の装置を用いて得られる
処理が有効であることを証明している。
本発明は液体気体2相混合の場合に良好な分散が所望さ
れる時には常時利用され得るものである。
れる時には常時利用され得るものである。
本発明はたとえば、液体金属の処理の場合特にアルミニ
クム又はその合金から水素及び非金属不純物を除去した
いと望む場合K、非常に有利に利用され得る。
クム又はその合金から水素及び非金属不純物を除去した
いと望む場合K、非常に有利に利用され得る。
第1図は回転軸及び2対の導通路を通る平面での断面を
示す本発明装置の縦断面図、 第2図は第1図記載の装、置のax’−xに沿った断面
を下側から見た水平断藺図、 第3図は連続トリベに載置した本発明装置の縦断面図で
ある。 。 1・・・中空駆動軸、 3・・・ロータ、 4・・
・チャンバ、5・・・ガス流路、 7・・・iE流路、
8・・・羽根。 代理人升−±今 村 元
示す本発明装置の縦断面図、 第2図は第1図記載の装、置のax’−xに沿った断面
を下側から見た水平断藺図、 第3図は連続トリベに載置した本発明装置の縦断面図で
ある。 。 1・・・中空駆動軸、 3・・・ロータ、 4・・
・チャンバ、5・・・ガス流路、 7・・・iE流路、
8・・・羽根。 代理人升−±今 村 元
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 +11 ガス取入路として機能する中空駆動軸と連結
しており且つ浴中に浸る羽根を具備している円筒形−ロ
ータからなり、仁の四−夕に社歌対の導通路が穿設され
、各対は液体の通路として機能する1個の液流路とガス
の通路として機能する今一つのガス流路とから成や、各
対鉱夫々別個に円筒側面に通じてかp、各対の二つの流
路は円iui面の同一地点に於いて合しここに於いて液
−気微細分散が形成され。 この微細分散はつぎに羽根にょp浴中に分配されること
を肴微とする容器中の液体金属浴処理用回転式ガス拡散
装置。 (2) ガス通路として機能する導通路が放射状に穿
設されていることを特徴とする特許請求の範囲第1項に
記載の装置。 (3)液体′金属の通路として機能する導通路が水平面
に対して斜め方向に穿設されていることを特徴とする*
tfgw求の範囲第1項に記載の装置。ノ゛(4)
金属の通路として機能する導通路が水平面に対して10
°乃至60’の角度で傾斜をつけられていることを特徴
とする特許請求の範囲第3項に記載の装置。 (5) 金属の通路として機能する導通路が円形であ
りか′)0.5cst乃至1.5傷の直径を有すること
を特徴とする特許請求の範囲第1項に記載の装置。 (6)ガスの通路として機能する導通路が円形でありか
つ0.11乃至0.4cmの直径を有することを特徴と
する特許請求の範囲第1項に記載の装置。 (7)羽根がロータ側壁に回転軸に対し左右均斉にかつ
前記導通路が浴に通ずる場所の間に配設されていること
t−特徴とする特許請求の範v!i第1項に記載の装置
。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
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FR8116735 | 1981-08-28 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
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JPS6049700B2 JPS6049700B2 (ja) | 1985-11-05 |
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DD (1) | DD202453A5 (ja) |
DE (1) | DE3262681D1 (ja) |
DK (1) | DK158325C (ja) |
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JP2015183196A (ja) * | 2014-03-20 | 2015-10-22 | 東京窯業株式会社 | 気泡の放出分散装置 |
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