JPS5841677B2 - 微小素子回路用基板 - Google Patents

微小素子回路用基板

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JPS5841677B2
JPS5841677B2 JP3929880A JP3929880A JPS5841677B2 JP S5841677 B2 JPS5841677 B2 JP S5841677B2 JP 3929880 A JP3929880 A JP 3929880A JP 3929880 A JP3929880 A JP 3929880A JP S5841677 B2 JPS5841677 B2 JP S5841677B2
Authority
JP
Japan
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circuit
microelement
external connection
wiring board
printed wiring
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Expired
Application number
JP3929880A
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JPS56134793A (en
Inventor
圭司 稲葉
寛 坂田
一博 松本
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Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Matsushita Electric Industrial Co Ltd
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Publication date
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  • Non-Metallic Protective Coatings For Printed Circuits (AREA)
  • Printing Elements For Providing Electric Connections Between Printed Circuits (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は微小素子回路用基板に関するもので、その目的
とするところはチップ形トランジスタ。
コンデンサ等の電子部品が半田等でチップボンディング
される導体回路部分と微小素子回路とじて完成後プリン
ト配線基板に挿入し半田付接続される外部接続用リード
部分を1枚の導電金属シートから作ることにより導体回
路部分と外部接続用リードの接続信頼性の向上と微小素
子回路の製造工程の合理化を計ることにある。
従来、微小素子回路用基板としては第1図A。
Bに示すようにプリント配線基板を用いている。
すなわち、比較的耐熱性の優れた銅張積層板を公知の技
術で加工して積層板1の上に導体回路2を形成し、その
表面にチップ形電子部品をボンディングする部分3を残
して全面に半田付抵抗層4を形成したものである。
このプリント配線基板にチップ形トランジスタ。
コンデンサ等をボンディングし更にプリント配線基板の
端部に外部接続用リード端子5を半田付で固定し、次に
前記外部接続用リード端子5の部分を除いた全面を電気
的絶縁樹脂で覆い、硬化させ微小素子回路を完成してい
た。
しかしながら、この構成によるものではプリント配線基
板は例えば厚さ1.Om速度の紙−エポキシ樹脂積層板
を用いているためどうしてもシート状のみでしか作るこ
とができず製造工程が連続化できないこと、更に外部接
続用リード端子5はプリント配線基板とは別工程で作ら
れ、それをプリント配線基板に半田付接続するために両
者の接続が完全に信頼できるものでなく、また、この接
続のためにチップ形電子部品の半田付に加え再度半田熱
が加わるため、プリント配線基板の熱的劣化を起こす要
因ともなり、更にこの半田付接続するための工数も無視
できるものではなかった。
本発明は以上のような従来の欠点を解消するもので、以
下、本発明を一実施例により説明する。
第2図A、Bは本発明により完成された微小素子回路用
基板の一実施例を示す。
7および7′はポリイミド等の合成樹脂からなる絶縁フ
ィルムであり、この絶縁フィルム7.7′の間にはエツ
チングなどによって銅または銅合金よりなる肉薄の導電
体回路8が挟持されている。
また、この導電体回路8の外部接続のための肉厚のリー
ド端子9が絶縁フィルム7.7′の端部に突出するよう
に設けられている。
すなわち、肉薄の導電体回路8と肉厚のリード端子9は
同一の金属シートからエツチング技術の応用により形成
されたもので半田付のような後工程で物理的に接続され
たものではなく一体のものであるから両者の接続の信頼
性は確実なものである。
第3図A−Fは前記実施例に述べた微小素子回路用基板
の製造方法の一実施例を示すものである。
まず、第3図Aに示すように金属シート10を用意する
金属シート10としては例えば厚さ0.25mmの圧延
銅箔を用いる。
次に第3図Bに示すように写真印刷法またはスクリーン
印刷法のような公知の方法でエツチングレジスト層を金
属シート10の片面には回路状に他方の面には全面に形
成した後、エツチングして金属シート10の片面にのみ
深さ約100μの凹部を逆パターン状に形成する。
次に前記エツチングレジストを除去した後、第3図Cに
示すように前記凹部を設けた面に例えば厚さ25μmの
ポリイミドからなる絶縁フィルム7を接着剤を介してリ
ード端子部分9を除き全面に圧着する。
次に第3図りに示すように前記凹部を設けた面とは反対
の面には少なくとも外部接続用リード端子のパターンを
前記凹面側のリード端子部分9の表面には全面にエツチ
ングレジストを形成し、前記片面に設けた凹部の部分に
達するまでエツチングを行い所望の回路を形成する。
このようにして肉厚の薄い導電体回路8と肉厚の厚いリ
ード端子9を形成する。
その後第3図Eに示すように前記エツチング面側に半田
付抵抗層として例えば厚さ25μmのポリイミドからな
る絶縁フィルム7′を少なくともリード端子部分9およ
びチップ形電子部品のボンディング部分11を除き全面
に圧着する。
第3図Fは完成した状態の断面図である。
更に必要に応じ前記リード端子部分9およびチップ形電
子部品のボンディング部分11の表百に半田めっき等を
施しボンディング特性、リード端子の半田付性を向上す
ることも可能である。
このようにして完成した微小素子回路用基板は製造工程
が連続化できるのみではなく導電体回路8と外部接続用
リード端子9が半田付接続等によらずに一枚の金属シー
トから作られているため優れた接続信頼性を有し、更に
リード端子部分は肉厚で堅ろうであるため微小素子回路
として完成後はプリント配線基板の挿入孔に確実に挿入
し、半田付接続できる等の優れた効果を有しており、工
業的価値大である。
【図面の簡単な説明】
第1図A、Bは従来の微小素子回路用基板の構成を示す
平面図と要部断面図、第2図A、Bは本発明の微小素子
回路用基板の一実施例の構成を示す平面図と要部断面図
、第3図A−Eは同微小素子回路基板の製造過程を示す
斜視図、第3図Fは同微小素子回路基板の断面図である
。 7.7′・・・・・・絶縁フィルム、8・・・・・・導
電体回路、9・・・・・・リード端子、10・・・・・
・金属シート、11・・・・・・ボンディング部分。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1 チップ型トランジスタ、コンデンサ等を塔載するた
    めの内薄の導体回路部分と、肉厚の外部接続用リード端
    子部分が機械的接続または物理的接続なしに一体の導電
    金属で形成され、前記導体回路のチップボンディング部
    分および外部接続用リード部分のプリント配線基板への
    挿入部分等の所望の導体部分以外をポリイミド等の耐熱
    性樹脂フィルムで表裏を被覆したことを特徴とする微小
    素子回路用基板。
JP3929880A 1980-03-26 1980-03-26 微小素子回路用基板 Expired JPS5841677B2 (ja)

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JPS56134793A JPS56134793A (en) 1981-10-21
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