JPS5837832A - 薄膜磁気ヘツドおよびその製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は薄膜感慨コアに巻線を施してなる薄膜磁気ヘッ
ドおよびその製造方法に関する。

従来の薄膜磁気ヘッドにおいては、薄膜磁気コアの磁気
抵抗を極力小さくするために、薄膜磁気コアの巻線部の
幅はトラック幅より大ならしめる力）、または殆んど等
しく設計されている。特に、同様に、磁気コアの磁気抵
抗を小さくするために、作動ギャンプ近傍より奥の部分
の薄膜磁気コアの厚、さを大きくした薄膜磁気ヘッドに
おいては、幅“方向の両側面近傍に発生する閉路磁区の
影響を緩和するために、該厚膜部の幅をトラック幅より
も太き（するのが普通である。したがって、巻線の配線
幅は必然的にトラン〉幅より大幅に大ならざるを得す、
特にマルチトラック磁気ヘッドにおいてはトラック間間
隙が大となり、高密度記録用磁気ヘッド、特に高トラツ
ク密度記録用磁気ヘッドとしては不適当であった。

本発明の目的は、上記欠点を除去し、マルチトラック薄
膜磁気ヘッドを構成するのに便利な薄膜磁気ヘッドおよ
びその製造方法を提供することである。

上記目的を達成するだめに、本発明による薄膜磁気ヘッ
ドは、薄膜磁気コアの厚さが１μｍと５０μｍの間にあ
り、磁気コアのトラック幅が巻線を施す部分のトラック
幅方向の幅よりも大であることを要旨とする。

本発明の特徴は、マルチトラック薄膜磁気ヘッドにおい
て、薄膜磁気コアの厚さを十分大ならしめ、該磁気コア
のトラック幅を上記巻線部の幅よりも大ならしめること
により、降接トラックとの間隙を小ならしめる点にある
。本発明の目的を達成するためには、上記薄膜磁気ロア
の厚さは少なくとも１μｍなければならない。また、上
記厚さは５０μｍあれば十分で、それ以上厚くすること
は製造に余りにも長い時間を必要とし、−゛実際的でな
い。

上記巻線部の厚さを大ならしめるに当り、必要に応じて
、薄膜磁気コアを磁気的絶縁層を介して積層した多層磁
性薄膜を用いることができる。特に、該多層磁性薄膜の
各磁性層に一軸性磁気異方性を持たせるとともに、各磁
化容易軸を交互に交叉するように配置して、外部磁場印
加がないときには各層内の磁化の向きが互に略反平行と
なるようにして、磁気コアの幅方向の両端における磁区
の発生を抑制することにより、本発明の磁気へ；ドの特
性を良好ならしめることができる。

以下に、本発明の一実施例を陰口を参照しながら一層詳
しく説明する。

硅酸リチウムガラスを主体とするフォトセラム（米国、
コダック社商品名）なる非磁性基板１０表面を鏡面研摩
し、第一１図に示すように、その表面上に通常行なわれ
るマスク蒸着法によってパーマロイ（Ｎｉ約８０係、Ｆ
ｅ約２０％　）　２ａ、　２ｂ、　・・・・−２ｘおよ
びＳｉ０３ａ、　５−ｂ、・・・・・・を交互にそれぞ
れ各約１μｍおまび約０．１μｍの厚さに、パーマロイ
層が偶数層を形成するように蒸着して縦約１００μｍ横
め５０μｍの矩形状素子４を、第２図に示すように、縦
方向に約２　ｍｍ　＋横方向に約２０μｍの間隔をあけ
て複数個形成し、その上に一様に厚さ約０．５μｍの８
ｉ０膜５を同じ（蒸着形成し、ついで、巻線用導線とし
て、第３図に上面図を示すようにＡｔをマスク蒸着して
、厚さ約４μｍのＵ字形導体６を形成し、その上に再び
０．５μｍの厚さのＳｉＯ膜を蒸着形成した後、上記矩
形素子と同様の形状、大きさ、厚さの積層素子７を同じ
くマスク蒸着法により形成した後、第４図に示すように
、各素子の下端両側をイオン・ミリング法によシ僅かに
除去してトラック幅ＴＷを規制した。作動ギヤツブ深さ
Ｇｄの規制は、複数素子を含む短冊を切り出した後研摩
によって行なった。かくして、巻線部磁気コア幅Ｗｗよ
りトラック幅ＴＷが大なる磁気ヘッドをトラック間間隔
をさほど大きく開けることな（複数個並べたマルチトラ
ック・ヘッドを作製したなお、上記パーマロイの蒸着に
当っては、各層形成時毎に印加磁場の方向を交互に水平
方向に対して士約１０°傾けた。

第５図はこのように゛して作製したマルチトラック・ヘ
ッドの一部の斜視図で、図中０１は作動ギャップのギャ
ップ長、Ｇ、は作動ギヤノブのギャノプ深さ、Ｄはギャ
ップ深さ方向の巻線部の幅を示す。

コア厚ｔは、磁気ヘッドの磁気回路の磁路長、磁路幅、
コア材の透磁率μで定まる該磁気回路のパーミアンスが
作動ギャップ部のパーミアンスＴｗ　Ｇｄ／　Ｇｔ　Ｋ
比して十分大きくなるように選ばれる。上記磁気回路の
磁路長および磁路幅をそれぞれ２（Ｇｄ＋Ｄ）およびＷ
Ｗと見做せば、該磁気回路のパーミアンスはほぼμＷｗ
ｔ／２（Ｇｄ＋Ｄ）で表わされるから、つぎの関係が得
られる。

例えば、 ＴＷ＝’１［１［１ｐｍ Ｗｗ＝　５０μｍ Ｇｔ＝　　　０．５μｍ Ｇ、＝５μｍ Ｄ＝　巨Ｏｐｍ μ＝１，０００ とすれば、　　　ｔ）２μｍ となる。

上記実施例においては、磁性層を多層膜として各磁性層
内の磁化容易軸方向を厚さ方向に交互に僅かに交叉する
ようにして、磁気コアを厚くしてもその両側に磁区が発
生するのを防ぐようにしたが、コア幅と厚さとの相対比
、磁性層を形成する磁性体の磁化の強さ等との関連では
、必ずしも多層膜とする必要はなく、また、多層膜とし
たときにも、各層内の磁化容易軸方向を交互に交叉する
ようにする必要もないこともある。

いずれにしても、本発明によれば、トラック間の間隙を
極力短縮することによシ、従来のマルチトラック・ヘッ
ドに比して格段と高密度のマルチトラック・ヘッドを形
成することができる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明による薄膜磁気ヘッド作製工程途中にお
ける断面図、第２図、第３図、および第４図は本発明に
よる薄膜磁気ヘッド作製工程途中における上面図、第５
図は′本発明による薄膜磁気ヘッドの一部の斜視図であ
る。 １・・・基板 ２ａ、　２ｂ、・・・・・・２ｘ　・・・パーマロイ層
３ａ、　３ｂ、・・・・・・　・・・８ｉ０層４・・・
上記パーマロイ層およびＳｉ０層よりなる積層素子 ５・・・８ｉ０膜 ６・・・Ｕ字形導体 ７・・・パーマロイ層およびＳｉ０層よりなる積層素子 代理人弁理士　中村純之助 矛２図 ５ｔＰ３図　　　ＩＰ４図

Claims (6)

【特許請求の範囲】
1. （１）薄膜磁気コア如巻線を施してなる磁気ヘッドにお
   いて、該薄膜磁気コアの厚さが１μｍと５０μｍの間に
   あり、該磁気コアのトラック幅が上記巻線を施す部分の
   トラック幅方向の幅よりも大であることを特徴とする薄
   膜磁気ヘッド。
2. （２）薄膜磁気コアが多層磁性薄膜であることを特徴と
   する特許請求の範囲第１項記載の薄膜磁気ヘッド。
3. （３）多層磁性薄膜を形成する磁性層の磁化容易軸が厚
   さ方向に交互に交叉していることを特徴とする特許請求
   の範囲第２項記載の薄膜磁気ヘッド。
4. （４）トラック幅方向に複数個並べられていることを特
   徴とする特許請求の範囲前記諸項のいずれか一つに記載
   の薄膜磁気ヘッド。
5. （５）非磁性材料からなる基板表面を鏡面研摩ゴる一工
   程、上記表面上に少なくとも１７ｉｉの磁性層を堆積し
   、トラック幅方向に並べられた複数個の第１の矩形状素
   子を形成する工程、上記素子および素子で覆れていない
   基板表面妃第１の絶縁層を形成する工程、上記絶縁層を
   介して上記素子の上に該素子の一部を囲むような形状を
   有する巻線用導体を形成する工程、その上に第１の絶縁
   層と同様な第２の絶縁層を形成する工程、その上に第１
   の矩形状素子と同様な第２の矩形状素子を形成する工程
   、各素子の下端両側を僅かに除去してトラック幅を規制
   し、上記トラック幅を各素子が上記巻線用導体妃よって
   囲まれた部分のトラック幅方向の幅よりも大きく定める
   工程を含むことを特徴とする薄膜磁気ヘッドの製造方法
   。
6. （６）上記少なくとも１層の磁性層を堆積する工程が、
   磁性層と磁気的絶縁層を交互に、磁性層が１乃至５０μ
   ｍの厚さになるように堆積する工程であることを特徴と
   する特許請求の範囲第６項記載の方法。