JPS5835539A - Method for making negative lithographic plate requiring no dampening water - Google Patents

Method for making negative lithographic plate requiring no dampening water

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JPS5835539A
JPS5835539A JP13327881A JP13327881A JPS5835539A JP S5835539 A JPS5835539 A JP S5835539A JP 13327881 A JP13327881 A JP 13327881A JP 13327881 A JP13327881 A JP 13327881A JP S5835539 A JPS5835539 A JP S5835539A
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rubber layer
dampening water
photosensitive
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幹雄 津田
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小橋 貞夫
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    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/075Silicon-containing compounds
    • G03F7/0752Silicon-containing compounds in non photosensitive layers or as additives, e.g. for dry lithography

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Abstract

PURPOSE:To provide a plate-making method high in developing speed and little affected by humidity, by using a mixed soln. consisting of specified proportions of hydrocarbon, polar solvent, and water, and removing the exposed part of a silicone rubber layer. CONSTITUTION:A photopeelable photosensitive layer is formed on a support, and on this layer a silicone rubber layer is laminated to make a negative type lithographic plate requiring no dampening water. This layer is exposed and only the exposed part of the silicone rubber layer is removed by using a mixed soln. consisting of 0-97% hydrocarbon, 2-99% polar solvent, and 0.1-30% water. For said hydrocarbon, aliphatic hydrocarbons such as pentane, hexane, gasoline, kerocene, or the like are used, and for said polar solvent, for example, alcohols, ethers, esters, ketones, etc. are used.

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、湿し水不要ネガ型平版印刷版の製版方法に関
するものであシ、とくに新規な現像液を用いることを特
徴とする製版方法に関するものである。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention relates to a method for making a negative planographic printing plate that does not require dampening water, and particularly to a method for making a plate characterized by using a novel developer.

シリコーンゴム層をインキ反撥層とする湿し水不要平版
印刷版であって、ネガ型に作用する版材としては1例え
ば支持体上に設は九光剥離性感光層上にシリコーンゴム
層を設けて予備増感されたものが2%願昭54−156
871で提案されている。
A lithographic printing plate that does not require dampening water and has a silicone rubber layer as an ink repellent layer, and is a plate material that works in a negative tone. The pre-sensitized product is 2%.
871.

これらの版材は1通常PS版と同時に露光−現像工程に
よシ製版されるが、現像液として主として脂肪族炭化水
素と極性溶剤とを組合せたものを用いる。このような溶
剤混合系の現像液によυシャープな画像を版面上に形成
させることができるが、現像速度がおそく、現像操作が
不十分な場合には1画像部にシリコーンゴム層が残留し
、微小網点再現性の悪い印刷版になってしまう、また。
These plate materials are usually plate-made by an exposure-development process at the same time as the PS plate, and a developer containing mainly a combination of an aliphatic hydrocarbon and a polar solvent is used. A sharp image can be formed on the printing plate using such a solvent-mixed developer, but the developing speed is slow and if the developing operation is insufficient, a silicone rubber layer may remain in one image area. , resulting in a printing plate with poor reproducibility of minute halftone dots.

このような現像液での現像操作は、現像時の湿度の影響
tうけやすい欠点がある。
A developing operation using such a developer has the disadvantage that it is susceptible to the influence of humidity during development.

本発明は、これらの欠点を克服した現像速さが大きく、
湿度の影響の小さい現像液全提供する。
The present invention overcomes these drawbacks and has a high development speed.
We provide all types of developers that are less affected by humidity.

本発明は、支持体上に設けられた光剥離性感光97チ、
(B)極性溶剤類2〜99%およびO)水0.1〜gO
%からなる混合液を用4いて、実質的に露光部分のシリ
コーンゴム層のみを除去することを特徴とする湿し水不
要ネガ型平版印刷版の製版方法に関するものである。
The present invention provides a photoreleasable photosensitive 97 film provided on a support,
(B) polar solvents 2-99% and O) water 0.1-gO
The present invention relates to a plate-making method for a negative-working lithographic printing plate that does not require dampening water and is characterized in that substantially only the silicone rubber layer in the exposed portion is removed using a mixed solution of 4%.

本発明において現像液として使用される炭化水素として
は、シリコーンゴムを膨潤させ得るもpであシ9例えば
脂肪族炭化水素類(ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、オ
クタンあるいはガソリン。
The hydrocarbons used as the developer in the present invention include those capable of swelling silicone rubber, such as aliphatic hydrocarbons (pentane, hexane, heptane, octane or gasoline).

灯油、軽油9重油など)が好都合に適用できる。Kerosene, light oil, 9 heavy oil, etc.) can be conveniently applied.

ガソリン、灯油類は一般の印刷作業現場において。Gasoline and kerosene are used at general printing work sites.

印刷機、印刷版のインキを洗い落す目的で日常的に使用
されておシ、現像液として用いるのに何ら抵抗のないも
のである。また芳香族炭化水素類(トルエン、キシレン
など)あるいはノ・ロゲン化炭化水素類(トリクレン、
四塩化炭素など)も勿論使用できる。現像液中の炭化水
素の含有量としては0〜97重量−である。
It is routinely used to wash away ink from printing presses and printing plates, and there is no objection to its use as a developer. In addition, aromatic hydrocarbons (toluene, xylene, etc.) or non-logenated hydrocarbons (triclene,
Of course, carbon tetrachloride, etc.) can also be used. The content of hydrocarbons in the developer is 0 to 97% by weight.

極性溶剤としては下記に示すものが一般的に有用である
As polar solvents, those shown below are generally useful.

アルコール類(メタノール、エタノール、n−グロバノ
ール、インプロパツール、5−メトキシブタノール、5
−メチル−5−メ[キシブタノール、ジアセトンアルコ
ールなト)。
Alcohols (methanol, ethanol, n-globanol, impropatol, 5-methoxybutanol, 5
-Methyl-5-methoxybutanol, diacetone alcohol).

エーテル類(ジオキサン、テトラヒドロフラン。Ethers (dioxane, tetrahydrofuran.

メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、プチルセロソル
フ、エチレング11コールジエチルエーテル。
Methyl cellosolve, ethyl cellosolve, butyl cellosolve, ethylene glycol diethyl ether.

ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレン
クリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコール
ジエチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチ化エ
ーテル、トリエチレングリコールモノメチルエーテル、
トリエチレンクリコールジメチルエーテル、テトラエチ
レングリコールモノメチル立−テル、テトラエチレング
リコールジメチルエーテル、フロピレンゲリコールモノ
メチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエ
ーテル、トリプロピレングリコールモノメチルエーテル
、テトラヒドロフルフリルアルコールなど)。
Diethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol monoethyl ether, diethylene glycol diethyl ether, diethylene glycol monobutylated ether, triethylene glycol monomethyl ether,
triethylene glycol dimethyl ether, tetraethylene glycol monomethyl ether, tetraethylene glycol dimethyl ether, propylene gelicol monomethyl ether, dipropylene glycol monomethyl ether, tripropylene glycol monomethyl ether, tetrahydrofurfuryl alcohol, etc.).

エステル類(アセト酸ばメチル、アセト酔眼エチル、メ
チルセロソルブアセテート、エチルセロソルブアセテー
ト、酢酸ジエチレンクリコールモノエチルエーテル、酢
酸ジエチレングリコールモノエチルエーテル、酢酸ジエ
チレングリコールモツプチルエーテル、ジ酢酸グリコー
ル、乳酸エチル、プロピオン酸メチル、プロピオン敵エ
チル。
Esters (methyl acetoate, ethyl acetoate, methyl cellosolve acetate, ethyl cellosolve acetate, diethylene glycol monoethyl acetate, diethylene glycol monoethyl acetate, diethylene glycol motuptyl ether acetate, glycol diacetate, ethyl lactate, methyl propionate) , propion enemy ethyl.

マロン酸ジメチル、マロン酸ジエチル、コ// 酸ジメ
チル、コハク酸ジエチル、アジピン酸ジメチルなど)。
dimethyl malonate, diethyl malonate, dimethyl co//acid, diethyl succinate, dimethyl adipate, etc.).

ケトン類(アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソ
ブチルケトン、シクロヘキサノン、アセトニルアセトン
など)。
Ketones (acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone, acetonylacetone, etc.).

上記した極性溶剤の少なくとも一種を、2〜99重量%
で用いることが好ましい。
2 to 99% by weight of at least one of the above polar solvents
It is preferable to use it in

本発明の現像液は上記した現像液溶媒または混合液に水
を0.1〜50重量%、好ましくは1〜15重量係添加
することによ多構成される。また適当な乳化剤でエマル
ジョンとしたものや染料を添加したものも使用できる。
The developer of the present invention is constituted by adding water in an amount of 0.1 to 50% by weight, preferably 1 to 15% by weight, to the above developer solvent or mixed solution. Also, emulsions made with a suitable emulsifier or dyes added can also be used.

本発明で用いられる光はくシ性感光層とは特願昭54−
156871 で提案されたようなものからなるもので
ある。
What is the photoacidic photosensitive layer used in the present invention?
156871.

即ち、光はくシ性感光層とは、現像により、露光部感光
層が実質的に除去されることなく、その上のシリコーン
ゴム層が除去されるものである。
That is, the photofoamable photosensitive layer is one in which the silicone rubber layer thereon is removed by development without substantially removing the exposed portion of the photosensitive layer.

このような光はくり性感光層は、公知の先回溶化型感光
性化合物を多官能化合物で架橋せしめるか、あるいは先
回溶化型感光性化合物中の活性基を単官能化合物と結合
するなどして変性し、現像液に難溶もしくは不溶とする
ことにより得られる。
Such a light-peeling photosensitive layer can be produced by crosslinking a known pre-solubilization type photosensitive compound with a polyfunctional compound, or by bonding an active group in the pre-solubilization type photosensitive compound with a monofunctional compound. It can be obtained by modifying the resin to make it poorly soluble or insoluble in a developer.

ここでいう先回溶化型感光性化合物としては。The pre-solubilization type photosensitive compound mentioned here is:

通常ポジ型P8版、ワイボン版、フォトレジストなどに
用いられているキノンジアジド類9例えばベンゾキノン
−1,2−ジアジドスルホン酸とポリヒドロキシフェニ
ルとのエステル、ナフトキノン−1,2−ジアジドスル
ホン酸とピロガロールアセトン樹脂とのエステル、す7
トキノンー1.2−ジアジドスルホン酸とフェノールホ
ルムアルデヒドノボラック樹脂とのエステルなど、ある
いはジアゾ化合物の無機酸や有機酸とのコンプレックス
Quinone diazides, which are usually used in positive P8 plates, Wibon plates, photoresists, etc.9 For example, esters of benzoquinone-1,2-diazide sulfonic acid and polyhydroxyphenyl, naphthoquinone-1,2-diazide sulfonic acid, etc. Ester with pyrogallol acetone resin, 7
Ester of toquinone-1,2-diazide sulfonic acid and phenol formaldehyde novolac resin, or complex of diazo compound with inorganic acid or organic acid.

例えはジアゾジフェニルアミンとりンタングステン酸と
の感光性コンプレックスなどがあげられる。
An example is a photosensitive complex of diazodiphenylamine and phosphotungstic acid.

このような先回溶化型感光性化合物に架橋構造を導入せ
しめる方法としては、該感光性化合物が有する反応性基
1例えば水酸基、アミン基などを多官能性の架橋剤で架
橋せしめる方法があけられる。
As a method for introducing a crosslinked structure into such a pre-solubilized photosensitive compound, there is a method in which reactive groups 1 such as hydroxyl groups and amine groups of the photosensitive compound are crosslinked with a polyfunctional crosslinking agent. .

架橋剤としては多官能性イソシアナート類9例エバ、パ
ラフェニレンジインシアナート、2.4−または2.6
− )ルエンジイソシアナート、4.4−ジフェニルメ
タンジインシアナート、ヘキサメチレンジイソシアナー
ト、インホロンジイソシアナート、もしくはこれらのア
ダクト体など、或いは多官能エポキシ化合物9例えはポ
リエチレングリコールジグリシジルエーテル類、ポリプ
ロピレングリコールジグリシジルエーテル類、ビスフェ
ノ−′ルAジグリシジルエーテル、トリメチロールプロ
パントリグリシジルエーテルなどがある。これらの熱硬
化娯感光性物質の感光性を失わせない範囲1通常160
℃以下で行う必要があり、このために触媒等が併用され
る。
As a crosslinking agent, 9 examples of polyfunctional isocyanates include EVA, paraphenylene diyne cyanate, 2.4- or 2.6-
-) luene diisocyanate, 4,4-diphenylmethane diisocyanate, hexamethylene diisocyanate, inphorone diisocyanate, or adducts thereof, or polyfunctional epoxy compounds 9 such as polyethylene glycol diglycidyl ethers, Examples include polypropylene glycol diglycidyl ethers, bisphenol A diglycidyl ether, and trimethylolpropane triglycidyl ether. Range 1 Normally 160 without losing the photosensitivity of these thermosetting recreational photosensitive materials
It is necessary to carry out the process at a temperature below 0.degree. C., and for this purpose, a catalyst or the like is used in combination.

また先回溶化型感光性化合物に、現像液に難治もしくは
不溶の成分を導入する方法としては、同様に該感光性化
合物の活性な基を1例えばエステル化、アミド化、ウレ
タン化することなどがあげら引、る。感光性化合物の活
性な基と反応させる化合物としては低分子であっても、
比較的高分子であっても良いし、感光性化合物にモノマ
をクラフト重合させても良い。
In addition, as a method for introducing a component that is refractory or insoluble in a developer into a pre-solubilized photosensitive compound, it is possible to similarly esterify, amidate, or urethanize the active group of the photosensitive compound. Agera pull, ru. Even if the compound to be reacted with the active group of the photosensitive compound is a low molecule,
It may be a relatively high molecular weight material, or a photosensitive compound may be subjected to craft polymerization of a monomer.

本発明で用いられる感光層として特に好ましいものは、
ナフトキノン−1,2−ジアジド−5−スルホ/酸とフ
ェノールホルムアルデヒドノボラック樹脂の部分エステ
ル化物を多官能もしくは単官能インシアネートで架橋も
しくは変性して得られる。
Particularly preferable photosensitive layers for use in the present invention are:
It is obtained by crosslinking or modifying a partially esterified product of naphthoquinone-1,2-diazide-5-sulfo/acid and phenol formaldehyde novolak resin with a polyfunctional or monofunctional incyanate.

光はくシ性感光層の厚さは約0.1〜100μ、好まし
くは約0.5〜10μが適当で、薄すぎると塗工時にピ
ンホール等の欠陥が生じ易くなシ、−万厚すぎると経済
的見地から不利である。
The appropriate thickness of the photosensitive layer is approximately 0.1 to 100μ, preferably approximately 0.5 to 10μ; if it is too thin, defects such as pinholes may easily occur during coating. Too much is disadvantageous from an economic standpoint.

また感光層中には本発明の効果を損わない範囲で塗膜形
成性向上や支持体との接着性向上などの目的で他成分を
加えたシ、また現像時あるいは露光時に画像を可視化す
るために染料などを加えたシすることは可能入ある。
In addition, other components may be added to the photosensitive layer for the purpose of improving coating film formation properties and adhesion to the support within a range that does not impair the effects of the present invention, and may also be used to visualize images during development or exposure. It is possible to add dyes etc. for this reason.

本発明に用いられるシリコーンゴム層は9次のようなく
り返し単位を有する分子量数千〜数十万の線状有機ポリ
シロキサンを生成分とする。
The silicone rubber layer used in the present invention contains a linear organic polysiloxane with a molecular weight of several thousand to several hundred thousand having repeating units of 9th order as a product.

ここでnは1以上の整数、Rは炭素数1〜10のアルキ
ル基、アルケニル基あるいはフェニル基であシ、Rの6
0%以上がメチル基であるものが好ましい。このような
線状有機ポリシワキサンは有機過酸化物を添加して熱処
理等を施すことにより、まばらに架橋しシリコーンゴム
とすることも可能である。
Here, n is an integer of 1 or more, R is an alkyl group, alkenyl group, or phenyl group having 1 to 10 carbon atoms, and R is 6
Preferably, 0% or more is methyl group. Such a linear organic polysiloxane can be sparsely crosslinked to form a silicone rubber by adding an organic peroxide and subjecting it to heat treatment.

この線状有機ポリシロキサンにはまた架橋剤が添加され
る。架橋剤としては、いわゆる室温(低温)硬化型のシ
リコーンゴムに使われるものとして、アセトキシシラン
、ケトオキシムシラン、アルコキシシラン、アミノシラ
ン、アミドシランなどがあシ9通常線状有機ポリシロキ
サンとして末端が水酸基であるものとくみ合わせて、各
々脱酢酸型、脱オキシム型、脱アルコール型、脱アミン
型、脱アミド型のシリコーンゴムとなる。これらのシリ
コーンゴムには、更に触媒として少量の有機スズ化合物
等が添加されるのが一般的である。
A crosslinking agent is also added to the linear organopolysiloxane. Examples of crosslinking agents used in so-called room temperature (low temperature) curing silicone rubber include acetoxysilane, ketoxime silane, alkoxysilane, aminosilane, and amidosilane. When combined with other substances, they become deacetic acid type, oxime type, dealcoholized type, deamined type, and deamidated type silicone rubber, respectively. Generally, a small amount of an organic tin compound or the like is further added as a catalyst to these silicone rubbers.

シリコーンゴム層の厚さは、約0.5〜100μ、好ま
しくは約0.5〜10μが適当であり、薄すぎる場合は
耐刷力の点で問題を生じることがあり、−刃厚すぎる場
合は経済的に不利であるばかシでなく、現像時シリコー
ンゴム層を除去するのが困難となり画像再現性の低下を
もたらす。
The appropriate thickness of the silicone rubber layer is approximately 0.5 to 100μ, preferably approximately 0.5 to 10μ; if it is too thin, problems may occur in terms of printing durability; - If the blade is too thick This is not only economically disadvantageous, but also makes it difficult to remove the silicone rubber layer during development, resulting in a decrease in image reproducibility.

本発明の平版印刷版において、支持体と感光層。In the lithographic printing plate of the present invention, a support and a photosensitive layer.

感光層とシリコーンゴム層との接着は9画像再現性、耐
刷力などの基本的な版性能にとシ、非常に重要であるの
で、必要に応じて各層間に接着剤層を設けたり、各層に
接着改良性成分を添加したシすることが可能である。特
に感光層とシリコーンゴム層間の接着のために1層間に
公知のシリコーンプライマやシラ7カップリング剤階を
設けたり。
Adhesion between the photosensitive layer and the silicone rubber layer is extremely important for basic plate performance such as image reproducibility and printing durability, so an adhesive layer may be provided between each layer as necessary. It is possible to add adhesion improving ingredients to each layer. In particular, for adhesion between the photosensitive layer and the silicone rubber layer, a known silicone primer or Sila 7 coupling agent layer is provided between each layer.

シリコーンゴム層あるいは感光層にシリジーンプライマ
やシランカップリング剤を添加すると効果的である。
It is effective to add a siligene primer or a silane coupling agent to the silicone rubber layer or photosensitive layer.

支持体としては1通常の平版印刷機にセットできるたわ
み性と印刷時に加わる荷重に耐えうるものでなければな
らない。 代表的なものとしてはアルミ、銅、鋼等の金
属板、ポリエチレンテレノタレートのようなプラスチッ
クフィルムあるいはコート紙等があけられる。これらの
シート上にハレーション防止その他の目的でさらにコー
ティングを施して支持体とすることも可能である。
The support must be flexible enough to be set in a normal lithographic printing machine and capable of withstanding the load applied during printing. Typical examples include metal plates such as aluminum, copper, and steel, plastic films such as polyethylene terenotalate, and coated paper. It is also possible to provide a support by further coating these sheets for antihalation purposes and other purposes.

以上説明したようにして構成された湿し水不要の平版印
刷版の表面を形成するシリコーンゴム層の表面に薄い保
護フィルムをラミネートすることもできる。
A thin protective film can also be laminated on the surface of the silicone rubber layer forming the surface of the planographic printing plate that does not require dampening water and is constructed as described above.

以上説明したように本発明に用いられる湿し水不要の平
版印刷版は9例えは次のようにして製造される。まず支
持体のうえに、リバースロールコータ、エアーナイフコ
ータ、メーヤバーコータなどの通常のコータあるいはホ
エラーのような回転塗布装置を用い感光層を構成すべき
m酸物溶液を塗布、乾燥および必要に応じて熱キュア後
、必要ならば該感光層のうえに同様な方法で接着層を塗
布、乾燥後、シリコーンガム溶液を接着屑上に同様の方
法で塗布し1通常ioo〜150℃の温度で数分間熱処
理して、十分に硬化せしめてシリコーンゴム層を形成す
る。必要ならば、保護フィルムを該シリコーンゴム1−
上にラミネーター等を用い男パーする。
As explained above, the lithographic printing plate which does not require dampening water and which is used in the present invention can be manufactured in the following manner. First, onto the support, use an ordinary coater such as a reverse roll coater, an air knife coater, a Meyer bar coater, or a rotary coating device such as a Whaler to coat the m-acid solution that constitutes the photosensitive layer, dry it, and apply as necessary. After heat curing, if necessary, apply an adhesive layer on the photosensitive layer in the same manner, and after drying, apply a silicone gum solution on the adhesive scraps in the same manner. Heat treatment is performed for several minutes to fully cure and form a silicone rubber layer. If necessary, apply a protective film to the silicone rubber 1-
Use a laminator etc. on top to make a par.

このようにして製造された湿し水不要の平版印刷版は1
例えば真空密着されたネガフィルムを通して活性光線に
露光される。この露光工程で用いられる光源は、紫外線
を豊富に発生するものであυ、水銀灯、カーボンアーク
灯、キセノンランプ。
The lithographic printing plate manufactured in this way that does not require dampening water is 1
For example, it is exposed to actinic radiation through a vacuum-sealed negative film. The light sources used in this exposure process are those that produce abundant ultraviolet light, including mercury lamps, carbon arc lamps, and xenon lamps.

メタルハライドランプ、螢光灯などを使うことができる
Metal halide lamps, fluorescent lamps, etc. can be used.

次いで露光ずみの版の表面を本発明の現像液を用いず、
現像用パッドでこすると露光部のシリコーンゴム層のみ
が除去され、架橋されたυ、変性されることによシ現像
液に不溶となっている感光層は実質的にその厚みを減じ
ることなく残存し。
Next, the surface of the exposed plate was treated without using the developer of the present invention.
When rubbed with a developing pad, only the silicone rubber layer in the exposed area is removed, and the photosensitive layer, which is insoluble in the developer due to crosslinking and modification, remains without substantially reducing its thickness. death.

その露出した感光層表面がインキ受容部となる湿し水不
要ネガ型平版印刷版を与える。
A negative planographic printing plate which does not require dampening water is provided, in which the exposed surface of the photosensitive layer becomes an ink receiving area.

本発明の現像液を適用することたより、従来よシも短い
現像時間で微小網点の再現性がよp良好で、かつ現像時
の湿度による影響が著しく受けにくい、現像性の安定し
た印刷版が得られる。
By applying the developer of the present invention, a printing plate with stable developability, which has better reproducibility of minute halftone dots in a shorter development time than before, and is significantly less affected by humidity during development. is obtained.

以下に実施例をあげて本発明の詳細な説明する。The present invention will be described in detail below with reference to Examples.

実施例1.比較例1 (A)  住友金属製、化成処理アルミ板(厚愼05m
IN+)に下記の感光層組成物を回転塗布し、120℃
Example 1. Comparative Example 1 (A) Made by Sumitomo Metals, chemically treated aluminum plate (thickness: 05 m)
IN+) was coated with the following photosensitive layer composition and heated at 120°C.
.

2分加熱処理して厚さ2.6μの感光層を設けた。A photosensitive layer having a thickness of 2.6 μm was provided by heat treatment for 2 minutes.

(a)  エステル化度44%のフェノールノボラック
樹脂(スミライトレジン PR50255,住友デュレンス製) のナフトキノン−1,2−ジアジド −5−スルホン酸エステル    100部(b)  
4.4’−ジフェニルメタンジイソシアナート    
          20部←) ジブチルスズジラウ
レート    0.2部(cl)  メチルセロソルブ
アセテート 2000部続いてこの上に下記の組成のシ
リコーンゴム組成物を回転塗布後、120℃、2分で加
熱硬化して厚み2.2μのシリコーンゴム層を設けた。
(a) 100 parts of naphthoquinone-1,2-diazide-5-sulfonic acid ester of phenol novolac resin (Sumilight Resin PR50255, manufactured by Sumitomo Durens) with a degree of esterification of 44% (b)
4.4'-diphenylmethane diisocyanate
20 parts ←) Dibutyltin dilaurate 0.2 parts (cl) Methyl cellosolve acetate 2000 parts Next, a silicone rubber composition of the following composition was spin-coated thereon, and heated and cured at 120°C for 2 minutes to a thickness of 2.2μ. A silicone rubber layer was provided.

(a)  ジメチルポリシロキサン(分子量約so、o
oo末端水酸基)     100部(1))  エチ
ルトリアセトキシシラン   5部(Q)  ジブチル
スズジアセテート    02部(d)  γ−アミノ
プロピルトリエトキシシラン            
   3部(θ) アイソパー1         1
650部上記のようにして得られた印刷原版に網点面積
昆を段階的に変えたネガフィルム(150線、1%〜9
9%)を真空密着し、メタルハライドランプ2 kWで
1mの距離から50秒露光した。
(a) Dimethylpolysiloxane (molecular weight approximately so, o
oo terminal hydroxyl group) 100 parts (1)) Ethyltriacetoxysilane 5 parts (Q) Dibutyltin diacetate 02 parts (d) γ-aminopropyltriethoxysilane
3 parts (θ) Isopar 1 1
650 copies Negative film (150 lines, 1% to 9%
9%) was vacuum-adhered and exposed for 50 seconds from a distance of 1 m using a 2 kW metal halide lamp.

第1表に示すような現像液を用いて露光ずみの版をそれ
ぞれ現像し湿し水不要ネガ型平版印刷版を得た。これら
の現像液によって得瓜れた印刷版の現像に要した時間お
よび印刷版の網点再現域についての結果を第1表に示す
Each of the exposed plates was developed using a developer shown in Table 1 to obtain a negative planographic printing plate that did not require dampening water. Table 1 shows the results regarding the time required to develop the printing plates obtained using these developers and the halftone reproduction area of the printing plates.

水を含む醜2.m4.m6.m8の現像液を用いると、
露光部のシリコーンゴム層のみが除去され、かついずれ
の場曾も網点再現域は1〜98%以上であった。比較例
として、水を@まないI&11゜m5.m5.m7の現
像液を用いた場合は、露光部のシリコーン層のみが除去
されるが、現像時間が長くかかり、網点再現性も不十分
である。さらに冬期のような乾燥した時期は現像できな
い場合毒ある。
Ugliness that includes water 2. m4. m6. When using m8 developer,
Only the silicone rubber layer in the exposed areas was removed, and the halftone dot reproduction range was 1 to 98% or more in all cases. As a comparative example, I&11゜m5. without water. m5. When using the m7 developer, only the silicone layer in the exposed areas is removed, but the development time is long and the halftone dot reproducibility is insufficient. Furthermore, it is poisonous if it cannot be developed during dry periods such as winter.

実施例2.比較例2 厚み0.24mmのアルミ板(住友軽金属製)にレゾー
ル樹脂(スミライトレジンPC−1.住友デュレズ製)
を2μの厚みに塗布し、180°0,5分間キュアして
支持体とした。この支持体上に下記の感光層組成物を回
転塗布、120°c、2分間加熱硬化させ、厚み2.4
μの感光層を設けた。
Example 2. Comparative Example 2 Resole resin (Sumilight Resin PC-1, manufactured by Sumitomo Durez) on an aluminum plate (manufactured by Sumitomo Light Metal) with a thickness of 0.24 mm
was coated to a thickness of 2 μm and cured at 180° for 0.5 minutes to prepare a support. The following photosensitive layer composition was spin-coated onto this support and cured by heating at 120°C for 2 minutes to a thickness of 2.4 cm.
A photosensitive layer of μ was provided.

ルホン酸エステル(実施例1のもの)100部(→ 2
.6−)ルエンジイソシアナー)  20部(C)  
ジブチルスズジラウレート    0.2部(d)  
ジオキサン         2000部この上にγ−
アミノプロピルトリエトキシシラン(ユニオンカーバイ
ド製、−A1100’ 0.5重量゛饅“アイソパーE
”(エッソ製)溶液をホエラーで回転塗布し、1日放置
後、この上に下記の組成を持つシリコーンゴム組成液を
回転塗布し。
100 parts of sulfonic acid ester (from Example 1) (→ 2
.. 6-) Luene diisocyaner) 20 parts (C)
Dibutyltin dilaurate 0.2 part (d)
2000 parts of dioxane and γ-
Aminopropyltriethoxysilane (manufactured by Union Carbide, -A1100' 0.5 weight "Isopar E"
(manufactured by Esso) was spin-coated using a Whaler, and after being left for one day, a silicone rubber composition liquid having the composition shown below was spin-coated on top of the solution.

120℃、2分間加熱硬化させて2.1μのシリコーン
ゴム層を設けた。
A silicone rubber layer of 2.1 μm was formed by heating and curing at 120° C. for 2 minutes.

(→ ジメチルポリシロキサン(分子量約so、ooo
、末端水酸基)    100部(b)  ビニルトリ
メチルエチルケトキシム)シラ7          
 8部(C)  ジプチルスズジアセテート0.2部(
ψ アイソパーE          IBoo部上記
のようにして得られた印刷原版に真−空密着した150
線の網点画像を持つネガフィルムを通してメタルハライ
ドランプ2kw12用い1mの距離から60秒露光した
。現像時の雰囲気の相対湿度が35〜80チの状態で従
来から用いられている現像液(アイソパーE/エタノー
ル−55765)に露光ずみの版を浸漬し、現像パッド
で版の表面を軽くこすると露光部シリコーンゴム層のみ
が除去されて感光層表面が露出し、原画フィルムに忠実
な画像が得られる。しかし現像時の雰囲気の相対湿度が
35%以下になると現像速度が著しく低rし忠実に画像
の再現性ができなくなり現像不良の状態になりやすい。
(→ Dimethylpolysiloxane (molecular weight approx. so, ooo
, terminal hydroxyl group) 100 parts (b) Vinyltrimethylethylketoxime) Sila 7
8 parts (C) 0.2 parts of diptyltin diacetate (
ψ Isopar E IBoo part 150 in vacuum contact with the printing original plate obtained as above
A negative film having a line halftone image was exposed for 60 seconds from a distance of 1 m using a 2kw12 metal halide lamp. When the exposed plate is immersed in a conventionally used developer (Isopar E/Ethanol-55765) at a relative humidity of 35 to 80 degrees in the atmosphere during development, and the surface of the plate is lightly rubbed with a developing pad. Only the exposed silicone rubber layer is removed to expose the surface of the photosensitive layer, resulting in an image faithful to the original film. However, if the relative humidity of the atmosphere at the time of development is less than 35%, the development speed will be extremely low, making it impossible to faithfully reproduce the image, resulting in poor development.

さらに、湿度が80%以上になると現像速度が著しく早
くなるなど現像性が一定しない。ところが、この現像液
に水を3部添加すると現像時の湿度に影響されずいつも
現像性が一定になり9作業性が向上する。また網点再現
域も150線、1チル99%といつも安定した印刷版が
得られた。
Further, when the humidity is 80% or more, the developing speed becomes extremely high and the developing performance is not constant. However, when 3 parts of water is added to this developer, the developability is always constant without being affected by the humidity during development, and workability is improved. In addition, a stable printing plate was always obtained with a halftone dot reproduction area of 150 lines and 99% per chill.

特許出願人 東し株式会社Patent applicant: Toshi Co., Ltd.

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)  支持体上に設けられた光剥離性感光層とそ。 の上のシリコーンゴム層とからなる湿し水不要ネチから
なる混合液を用いて、実質的に露光部分のシリコーンゴ
ム層のみを除去することを特徴とする湿し水不要ネガ型
平版印刷版の製版方法。
(1) A photoreleasable photosensitive layer provided on a support. A negative-working lithographic printing plate that does not require dampening water and is characterized in that substantially only the silicone rubber layer in the exposed area is removed using a liquid mixture consisting of a silicone rubber layer on top of the silicone rubber layer that does not require dampening water. Plate making method.
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