JPH01158451A - Production of waterless planographic printing plate - Google Patents

Production of waterless planographic printing plate

Info

Publication number
JPH01158451A
JPH01158451A JP63212811A JP21281188A JPH01158451A JP H01158451 A JPH01158451 A JP H01158451A JP 63212811 A JP63212811 A JP 63212811A JP 21281188 A JP21281188 A JP 21281188A JP H01158451 A JPH01158451 A JP H01158451A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
plate
printing plate
silicone rubber
rays
printing
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP63212811A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Masanao Isono
磯野 正直
Masaya Asano
浅野 昌也
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toray Industries Inc
Original Assignee
Toray Industries Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Toray Industries Inc filed Critical Toray Industries Inc
Priority to JP63212811A priority Critical patent/JPH01158451A/en
Publication of JPH01158451A publication Critical patent/JPH01158451A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)

Abstract

PURPOSE:To permit utilization of a waterless planographic printing plate for negative working as the printing plate for positive working as well by using a light source which has no transparent plate for shielding UV rays on the plate surface and projecting active rays contg. UV rays of a specific wavelength to the printing plate. CONSTITUTION:A planographic printing master disk is subjected to image exposing by using the light source having no transparent plate for shielding UV rays and projecting the active rays contg. the UV rays of <=350nm wavelength through, for example, a positive film which is brought into tight contact by a vacuum with the plate to said plate in the case of using the waterless planographic printing plate as the printing plate for positive working. The silicone rubber layer in the part subjected to the photoirradiation by this image exposing treatment remains at the time of development and the silicone rubber layer in the nonirradiated part exfoliates and dislodges. The easy use of the printing master plate for negative working as the printing plate for positive working is thereby enabled.

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は、湿し水なしに印刷が可能な水なし平版印刷版
の製版方法に関するものである。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Field of Industrial Application] The present invention relates to a method for making a waterless lithographic printing plate that allows printing without dampening water.

[従来の技術] 水なし平版印刷とは、画線部と非画線部とを基本的にほ
ぼ同一平面に存在させ、画線部をインキ受容性、非画線
部をインキ反撥性とし、インキの付着性の差異を利用し
て、画線部のみにインキを着肉させたのち、紙などの被
印刷体にインキを転写して印刷をする平版印刷方法にお
いて、非画線部がシリコーンゴム、含フツ素化合物など
のインキ反撥性を有する物質層からなり、湿し水を用い
ずに印刷することのできる印刷方法を意味する。
[Prior Art] Waterless lithographic printing is basically a method in which a printed area and a non-printed area are made to exist on almost the same plane, with the printed area made to be ink-receptive and the non-printed part to be ink-repellent. In the lithographic printing method, which takes advantage of the difference in ink adhesion to apply ink only to the image area, and then transfers the ink to a printing medium such as paper, the non-image area is made of silicone. Refers to a printing method that consists of a layer of a material that is ink repellent, such as rubber or a fluorine-containing compound, and that allows printing without using dampening water.

ところで、この水なし平版印刷版として実用上すぐれた
性能を有しているものとしては、インキ反撥性を有して
いる物質層としてシリコーンゴム層を利用したもの、例
えば、ポジティブワーキング用としては、特公昭54−
26923などが、またネガティブワーキング用として
は、特開昭55−59466や特開昭56−80046
などがある。特に、特開昭56−80046はネガティ
ブワーキング用として実用性の高い性能を有した版材構
成について述べたものと言える。
By the way, waterless lithographic printing plates that have excellent practical performance include those that utilize a silicone rubber layer as an ink-repellent material layer, for example, for positive working, Special Public Service 1977-
26923, and for negative working, JP-A-55-59466 and JP-A-56-80046.
and so on. In particular, Japanese Patent Application Laid-Open No. 56-80046 can be said to describe a plate construction having high practical performance for negative working.

ここに提案された印刷版は、支持体に裏打ちされた光は
くり性感光層の上にシリコーンゴム層を設けた予備増感
された平版印刷版である。 特開昭55−59466や
特開昭56−80046に提案された水なし平版印刷版
のなかで特に好ましく用いられているキノンジアジド化
合物を含有する感光層は、通常の露光においては、露光
部の感光層中のキノンジアジドがインデンカルボン酸に
変化するため、現像液で現像することにより、露光部の
シリコーンボーム層が剥離されるかもしくは感光層ごと
除去される。そしてその結果、露光部の感光層もしくは
基板が露出し、未露光部はシリコーンゴム層で被覆され
たネガティブパターンの印刷版が形成される。
The printing plate proposed here is a presensitized lithographic printing plate having a silicone rubber layer provided on a light-repellent photosensitive layer backed by a support. In the waterless lithographic printing plates proposed in JP-A-55-59466 and JP-A-56-80046, a photosensitive layer containing a quinonediazide compound, which is particularly preferably used, has a light-sensitive layer in the exposed area during normal exposure. Since the quinone diazide in the layer changes to indene carboxylic acid, by developing with a developer, the silicone Baum layer in the exposed area is peeled off or the entire photosensitive layer is removed. As a result, a printing plate with a negative pattern is formed in which the photosensitive layer or substrate in the exposed areas is exposed and the unexposed areas are covered with a silicone rubber layer.

ところで、このネガティブワーキング用の印刷版は通常
の露光処理においては全く問題なく、実用に供すること
ができるが、露光機に通常取り付けられている紫外線遮
光用透明板(光源ランプ保護のためのガラス板など)を
外した状態で露光処理すると、現像不能(露光部のシリ
コーンゴム層が剥離しないもしくは露光部の感光層が溶
解しない)となることが判明した。
By the way, this printing plate for negative working has no problems in normal exposure processing and can be put to practical use. It has been found that if the film is exposed to light with the film removed (e.g.), development becomes impossible (the silicone rubber layer in the exposed area does not peel off or the photosensitive layer in the exposed area does not dissolve).

この特異な現象の解析を鋭意検討した結果、この現象が
水なし平版印刷板の製版方法に適用できることを見出し
、本発明に到達したものである。
As a result of intensive research into the analysis of this unique phenomenon, we have discovered that this phenomenon can be applied to a plate-making method for waterless lithographic printing plates, and have thus arrived at the present invention.

[発明が解決しようとする課題] 従って、本発明の目的はネガティブワーキング用の水な
し平版印刷版をポジティブワーキング用としても利用で
きる有効かつ簡便な製版方法を提供しようとするもので
ある。
[Problems to be Solved by the Invention] Accordingly, an object of the present invention is to provide an effective and simple plate-making method that allows a waterless lithographic printing plate for negative working to be used also for positive working.

[課題を解決するための手段] 本発明は、基板上に、キノンジアジド化合物を含有する
感光層、インキ反撥性層を順次積層した水なし平版印刷
版を画像露光する際、該版面に、紫外線遮光用透明板を
有しない光源を用い、350nm以下の波長の紫外線を
含む活性光線を照射することにより画像を形成すること
を特徴とするポジティブワーキング用水なし平版印刷版
の製版方法である。
[Means for Solving the Problems] The present invention provides that when a waterless lithographic printing plate in which a photosensitive layer containing a quinone diazide compound and an ink repellent layer are successively laminated on a substrate is imagewise exposed, the plate surface is provided with an ultraviolet light shielding layer. This is a plate-making method for a waterless lithographic printing plate for positive working, characterized in that an image is formed by irradiating actinic light containing ultraviolet rays with a wavelength of 350 nm or less using a light source without a transparent plate.

本発明にいう感光層とは、公知のキノンジアジド構造を
含む物質から構成されているものであり、キノンジアジ
ド構造を含む物質とは、通常ポジ型PS版、ワイポン版
、フォトレジストなどに用いられているキノンジアジド
類である。
The photosensitive layer referred to in the present invention is composed of a substance containing a known quinonediazide structure, and the substance containing a quinonediazide structure is the one normally used in positive-working PS plates, Wipon plates, photoresists, etc. They are quinonediazides.

かかるキノンジアジド類としては、例えばベンゾキノン
−1,2−ジアジド−4−または−5−スルホン酸とポ
リヒドロキシフェニルとのエステル、ナフトキノン−1
,2−ジアジド−4−または−5−スルホン酸とピロガ
ロールアセトン樹脂とのエステル、ナフトキノン−1,
2−ジアジド−4−または−5−スルホン酸とフェノー
ルホルムアルデヒドノボラック樹脂またはカシュ変性ノ
ボラック樹脂とのエステルが挙げられる。また低分子量
のキノンジアジド化合物(例えば、ナフトキノン−1,
2−ジアジド−5−スルホン酸と、フェノール、クレゾ
ール、キシレノール、カテコール、ピロガロールおよび
ビスフェノールAなどとのエステル化物など)または上
記のキノンジアジド基を含む樹脂に感光性基を含まない
ノボラック樹脂(例えば、フェノール、クレゾール、キ
シレノール、カテコールおよびピロガロールなどのフェ
ノール類とホルムアルデヒド類とを酸性触媒存在下に縮
合させて得られる可溶可融性樹脂など)を単に混合して
もよい。ざらに特開昭56−80046で提案されてい
るようなキノンジアジド類を多官能化合物で架橋せしめ
た光剥離性感光層が挙げられる。
Examples of such quinonediazides include esters of benzoquinone-1,2-diazide-4- or -5-sulfonic acid and polyhydroxyphenyl, naphthoquinone-1
, ester of 2-diazide-4- or -5-sulfonic acid and pyrogallolacetone resin, naphthoquinone-1,
Esters of 2-diazide-4- or -5-sulfonic acid and phenol formaldehyde novolac resins or cashew-modified novolak resins may be mentioned. Also, low molecular weight quinonediazide compounds (e.g. naphthoquinone-1,
esters of 2-diazide-5-sulfonic acid with phenol, cresol, xylenol, catechol, pyrogallol, bisphenol A, etc.) or novolac resins that do not contain photosensitive groups in the resins containing the above quinone diazide groups (e.g., phenol , soluble fusible resins obtained by condensing phenols such as cresol, xylenol, catechol, and pyrogallol with formaldehyde in the presence of an acidic catalyst) may be simply mixed. A photoreleasable photosensitive layer in which quinone diazides are crosslinked with a polyfunctional compound as proposed in JP-A-56-80046 can be mentioned.

架橋剤としては、多官能イソシアナート類、例えば、パ
ラフェニレンジイソシアナート、2,4−または2.6
−トリレンジイソシアナート、4,4°−ジフェニルメ
タンジイソシアナート、ヘキサメチレンジイソシアナー
ト、イソホロンジイソシアナートもしくはこれらのアダ
クト体など、あるいは多官能エポキシ化合物、例えば、
ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル類、ポリ
プロピレングリコールジグリシジルエーテル類、ビスフ
ェノールAジグリシジルエーテル、トリメチロールプロ
パントリグリシジルエーテルなどがある。これらの熱硬
化は感光性物質の゛感光性を失わせない範囲、通常13
0℃以下で行なうことが好ましく、このため通常触媒等
が併用される。
As a crosslinking agent, polyfunctional isocyanates such as paraphenylene diisocyanate, 2,4- or 2,6-
-tolylene diisocyanate, 4,4°-diphenylmethane diisocyanate, hexamethylene diisocyanate, isophorone diisocyanate, or adducts thereof, or polyfunctional epoxy compounds, such as,
Examples include polyethylene glycol diglycidyl ethers, polypropylene glycol diglycidyl ethers, bisphenol A diglycidyl ether, and trimethylolpropane triglycidyl ether. These thermal curing temperatures are within a range that does not cause loss of photosensitivity of the photosensitive material, usually 13
It is preferable to carry out the reaction at a temperature of 0° C. or lower, and therefore a catalyst or the like is usually used in combination.

またキノンジアジド類に単官能化合物を反応させて変性
し、現像液に難溶もしくは不溶にする方法としては、同
様に該キノンジアジド類の活性な基を例えばエステル化
、アミド化、ウレタン化することなどが挙げられる。キ
ノンジアジド類の活性な基と反応させる化合物としては
、低分子でおっても比較的高分子であってもよいし、キ
ノンジアジド類に七ツマをクラフト重合させてもよい。
In addition, methods for modifying quinonediazides by reacting them with monofunctional compounds to make them poorly soluble or insoluble in developing solutions include esterifying, amidating, or urethanizing the active groups of the quinonediazides. Can be mentioned. The compound to be reacted with the active group of the quinonediazide may be a low-molecular compound or a relatively high-molecular compound, or may be obtained by craft polymerizing the quinonediazide with Natsuma.

本発明で用いられる感光層として特に好ましいものは、
ナフトキノン−1,2−ジアジド−5−スルホン酸とフ
ェノールホルムアルデヒドノボラック樹脂の部分エステ
ル化物を多官能もしくは単官能イソシアネートで架橋も
しくは変性して得られたものである。
Particularly preferable photosensitive layers for use in the present invention are:
It is obtained by crosslinking or modifying a partially esterified product of naphthoquinone-1,2-diazide-5-sulfonic acid and phenol formaldehyde novolak resin with a polyfunctional or monofunctional isocyanate.

感光層の厚さは約0.1〜100μ、好ましくは約0.
5〜10μが適当である。薄すぎると塗工時にピンホー
ル等の欠陥が生じ易くなり、一方厚すぎると経済的見地
から不利である。
The thickness of the photosensitive layer is about 0.1-100μ, preferably about 0.1μ.
5 to 10μ is appropriate. If it is too thin, defects such as pinholes are likely to occur during coating, while if it is too thick, it is disadvantageous from an economic standpoint.

また感光層中には本発明の効果を損わない範囲で塗膜形
成性の向上や支持体との接着性向上などの目的で他の成
分を加えたりすることは可能である。
Further, it is possible to add other components to the photosensitive layer for the purpose of improving coating film forming properties and adhesion to the support within a range that does not impair the effects of the present invention.

本発明に用いられるインキ反撥性層としては、シリコー
ンゴム、含フツ素化合物(例えば分子中にフッ素を有す
るゴムなど)があげられるが、特にシリコーンゴムが好
ましく用いられる。このようなシリコーンゴム層は、次
のような繰り返し単位を有する分子量数千〜数十万の線
状有機ポリシロキサンを主成分とするものが好ましく使
用される。
Examples of the ink-repellent layer used in the present invention include silicone rubber and fluorine-containing compounds (for example, rubbers containing fluorine in the molecule), and silicone rubber is particularly preferably used. Such a silicone rubber layer is preferably one whose main component is a linear organic polysiloxane having the following repeating units and a molecular weight of several thousand to several hundred thousand.

ここでnは2以上の整数、R,R’は炭素数1〜10の
アルキル基、アルケニル基あるいはフェニル基であり、
R,R’の60%以上がメチル基であるものが好ましい
Here, n is an integer of 2 or more, R and R' are an alkyl group, an alkenyl group, or a phenyl group having 1 to 10 carbon atoms,
Preferably, 60% or more of R and R' are methyl groups.

この線状有機ポリシロキサンは通常架橋剤が添加される
。架橋剤としては、いわゆる室温(低温)硬化型のシリ
コーンゴムに使われるものとして、アセトキシシラン、
ケトオキシムシラン、アルコキシシラン、アミノシラン
、アミドシランなどがあり、通常線状有機ポリシロキサ
ンとして末端が水酸基であるものと組合せて、各々脱酢
酸型、脱オキシム型、脱アルコール型、脱アミン型、脱
アミド型のシリコーンゴムとなる。これらのシリコーン
ゴムには、更に触媒として少量の有機スズ化合物等を添
加してもよい。
A crosslinking agent is usually added to this linear organic polysiloxane. Examples of crosslinking agents used in so-called room temperature (low temperature) curing silicone rubber include acetoxysilane,
There are ketooxime silanes, alkoxysilanes, aminosilanes, amidosilanes, etc., which are usually used in combination with linear organic polysiloxanes with hydroxyl groups at the ends, to produce acetic acid-removed type, oxime-eliminated type, alcohol-eliminated type, deamined type, and deamidated type, respectively. It becomes the silicone rubber of the mold. A small amount of an organic tin compound or the like may be added as a catalyst to these silicone rubbers.

シリコーンゴム層の厚さは、約0.5〜100μ、好ま
しくは約0.5〜10μが適当であり、薄すぎる場合は
耐刷力の点で問題を生じることがあり、一方厚すぎる場
合は経済的に不利であるばかりでなく現像時シリコーン
ゴム層を除去するのが困難となり、画像再現性の低下を
もたらす。
The appropriate thickness of the silicone rubber layer is approximately 0.5 to 100μ, preferably approximately 0.5 to 10μ; if it is too thin, problems may occur in terms of printing durability; on the other hand, if it is too thick, This is not only economically disadvantageous, but also makes it difficult to remove the silicone rubber layer during development, resulting in a decrease in image reproducibility.

本発明に用いられる印刷版において、支持体と感光層、
感光層とシリコーンゴム層との接着は、画像再現性、耐
刷力などの基本的な版性能にとり非常に重要であるので
、必要に応じて各層間に接着剤層を設け″たり、各層に
接着改良性成分を添加したりすることが可能である。特
に感光層とシリコーンゴム層間の接着力のために、1間
に公知のシリコーンプライマやシランカップリング剤層
を設けたり、シリコーンゴム層あるいは感光層にシリコ
ーンプライマやシランカップリング剤を添加すると効果
的である。
In the printing plate used in the present invention, a support, a photosensitive layer,
Adhesion between the photosensitive layer and the silicone rubber layer is very important for basic plate performance such as image reproducibility and printing durability, so if necessary, an adhesive layer may be provided between each layer or It is possible to add adhesion-improving components.In particular, to improve the adhesion between the photosensitive layer and the silicone rubber layer, a known silicone primer or silane coupling agent layer may be provided between the photosensitive layer and the silicone rubber layer, or a silicone rubber layer or It is effective to add a silicone primer or a silane coupling agent to the photosensitive layer.

本発明に用いられる平版印刷原版の基板としては、通常
の平版印刷機に取り付けられるたわみ性と印刷時に加わ
る荷重に耐えるものでなければならない。代表的なもの
としては、アルミ、銅、鉄などの金属板、ポリエステル
フィルムやポリプロピレンフィルムなどのプラスチック
フィルムあるいはコート紙、ゴムなどがあげられる。
The substrate of the lithographic printing original plate used in the present invention must be flexible enough to be attached to a normal lithographic printing machine and must be able to withstand the load applied during printing. Typical examples include metal plates such as aluminum, copper, and iron, plastic films such as polyester film and polypropylene film, coated paper, and rubber.

該基板は、これらが複合されたものであってもよい。ま
た、これらの基板上にハレーションなどを防止する目的
で、さらにコーティングなどを施して基板とすることも
可能である。
The substrate may be a composite of these. Moreover, it is also possible to further apply a coating or the like on these substrates for the purpose of preventing halation or the like.

以上説明したようにして構成された水なし平版印刷原版
のシリコーンゴム層側の表面には、本発明の効果を損な
わない範囲で、シリコーンゴム層を保護するなどの目的
で保護フィルムをラミネートすることも可能である。
A protective film may be laminated on the surface of the silicone rubber layer side of the waterless lithographic printing original plate constructed as described above for the purpose of protecting the silicone rubber layer, to the extent that the effects of the present invention are not impaired. is also possible.

本発明で用いられる水なし平版印刷原版は、例えば次の
ようにして製造される。まず支持体上に、リバースロー
ルコータ、エアナイフコータ、メーヤバーコータなどの
通常のコータ、あるいはホエラのような回転塗布装置を
用い、感光層を構成すべき組成物溶液を塗布、乾燥およ
び必要に応じて熱キユア後、必要ならば該感光層の上に
同様な方法で接着層を塗布、乾燥してからシリコーンゴ
ム溶液を感光層または接着層上に同様の方法で塗布し、
通常50〜130℃の温度で数分間熱処理して、十分に
硬化せしめてシリコーンゴム層を形成する。必要ならば
、保護フィルムを該シリコーンゴム層上にラミネーター
等を用いカバーする。
The waterless lithographic printing original plate used in the present invention is produced, for example, as follows. First, a composition solution to form a photosensitive layer is applied onto a support using a normal coater such as a reverse roll coater, an air knife coater, a Meyer bar coater, or a rotary coating device such as a Whaler, and then dried and coated as necessary. After heat curing, if necessary, apply an adhesive layer on the photosensitive layer in the same manner, and after drying, apply a silicone rubber solution on the photosensitive layer or the adhesive layer in the same manner,
It is usually heat treated at a temperature of 50 to 130° C. for several minutes to fully cure and form a silicone rubber layer. If necessary, cover the silicone rubber layer with a protective film using a laminator or the like.

次に、本発明において提案されている露光処理による製
版方法について説明する。すなわち、上記の水なし平版
印刷原版をポジティブワーキング用として用いる場合に
は、該平版印刷原版を、例えば真空密着されたポジフィ
ルムを通し、紫外線遮光用透明板を有しない光源を用い
、3500m以下の波長の紫外線を含む活性光線で照射
することにより画像露光する。この画像露光処理により
、光照射部分のシリコーンゴム層は現像時に残存し、非
光照射部分のシリコーンゴム層は剥離脱落する。
Next, a plate-making method using exposure processing proposed in the present invention will be explained. That is, when the above-mentioned waterless lithographic printing original plate is used for positive working, the lithographic printing original plate is passed through, for example, a vacuum-adhesive positive film, and is heated at a distance of 3500 m or less using a light source that does not have a transparent plate for blocking ultraviolet rays. Image exposure is carried out by irradiation with actinic light including ultraviolet rays of the same wavelength. By this image exposure process, the silicone rubber layer in the light-irradiated areas remains during development, and the silicone rubber layer in the non-light-irradiated areas peels off.

この露光処理に用いられる光源は、350nm以下の波
長の紫外線を含むものであれば基本的には制限を受けず
、一般に用いられている高圧水銀灯、低圧水銀灯、メタ
ルハライドランプ、キセノンランプ、カーボンアーク灯
や、350nllI以下の単波長を発振するレーザーな
どが使用され得る。ただし、通常の露光光源の場合、紫
外線遮光用透明板が光源と印刷原版との間に設けられて
いるので、印刷原版表面に到達しうる350nm以下の
波長の紫外線は、非常に少なく、本発明の効果を発現さ
せることができない。例えば、高圧水銀灯は、314、
335.365.436.546.578nmなとの輝
線スペクトルを主な発光ピークとして有するが、314
.335nmの発光ピークは、上記した短波長側の紫外
線をカットするガラス、即ち紫外線遮光用透明板が光源
と印刷原版との間に存在するため、はぼ完全に遮断され
、印刷原版表面には到達し得ない。
The light source used for this exposure process is basically not restricted as long as it contains ultraviolet rays with a wavelength of 350 nm or less, and commonly used high-pressure mercury lamps, low-pressure mercury lamps, metal halide lamps, xenon lamps, and carbon arc lamps. A laser that emits a single wavelength of 350 nllI or less can be used. However, in the case of a normal exposure light source, a transparent plate for blocking ultraviolet rays is provided between the light source and the printing original plate, so the amount of ultraviolet rays with a wavelength of 350 nm or less that can reach the surface of the printing original plate is extremely small. It is not possible to express the effect of For example, a high pressure mercury lamp is 314,
It has an emission line spectrum of 335.365.436.546.578 nm as the main emission peak, but 314 nm
.. The emission peak at 335 nm is almost completely blocked by the glass that cuts the short wavelength ultraviolet rays mentioned above, that is, the ultraviolet ray shielding transparent plate between the light source and the printing plate, and does not reach the surface of the printing plate. I can't.

このため、本発明の効果を効果的に発現させるためには
、350nm以下の波長の紫外線が印刷原版表面に豊富
に照射されるように工夫する必要がある。すなわち、本
発明においては該紫外線遮光用透明板を光源と印刷原版
との間から取り除き、314、335nmの波長の光を
刷版表面に有効に到達させる必要がある。光源自身に、
いかに多くの350nm以下の波長の紫外線が含まれて
いても、光源と印刷原版表面との間に該短波長側の紫外
線を遮るガラス板などが存在すると、その効果は発現し
にくく、露光部のシリコーンゴム層が除去され、通常の
ネガティブワーキングのパターンとなるが、これらのガ
ラス板などは取り除くことにより、印刷原版表面に到達
する該波長範囲の紫外線の光量を多くすることができる
Therefore, in order to effectively exhibit the effects of the present invention, it is necessary to devise ways to abundantly irradiate the surface of the printing original plate with ultraviolet rays having a wavelength of 350 nm or less. That is, in the present invention, it is necessary to remove the ultraviolet ray shielding transparent plate from between the light source and the original printing plate to allow light with wavelengths of 314 and 335 nm to effectively reach the surface of the printing plate. to the light source itself,
No matter how much ultraviolet rays with a wavelength of 350 nm or less are included, if there is a glass plate or the like between the light source and the surface of the printing plate that blocks the ultraviolet rays on the short wavelength side, the effect will be difficult to manifest, and the exposed area will be The silicone rubber layer is removed to form a normal negative working pattern, but by removing these glass plates, it is possible to increase the amount of ultraviolet light in the wavelength range that reaches the surface of the original printing plate.

また、350nm以下の単波長を発振するレーザー(例
えばエキシマ−レーザーなど)により露光する場合、特
定波長の単色光が規定できるため、上記した長短波長の
波長分布を持つ露光光源に比べて本発明の効果を発現し
やすい。すなわち、不要な長波長(350nmを越える
波長)の光線が印刷原版表面に到達する量が少ない方が
本発明の効果を発現するうえで有利である。本発明の効
果を発現するために必要な照射光量は、光源の種類、照
射光強度によってさまざまであるが、通常、35Qnm
以下の波長の紫外線が豊富に照射される光源であるほど
短時間の照射時間でその効果を発現する。たとえば露光
用光源として一般的な高圧水銀灯(3KW、オーク製作
新製、[ジェットライト3300J )を用いた場合、
光源と印刷原版との間の紫外線遮光用透明板(ガラス板
)を取り除き、Uvメーター(オーク製作新製、UV−
302A>で3.5mW/riの照度で10秒間以上好
ましくは20秒間以上の画像露光を行なうと、本発明の
効果を充分に発現しうる吊の350nlll以下の波長
の活性光線が得られる。該活性光線の量がこれ以下にな
ると本発明の効果は急激に消失し、通常のネガティブワ
ーキング(露光部のシリコーンゴム層が現像時に剥離す
る)の挙動を示すようになる。
In addition, when exposing with a laser that oscillates a single wavelength of 350 nm or less (for example, an excimer laser), monochromatic light of a specific wavelength can be specified, so compared to the exposure light source that has a wavelength distribution of long and short wavelengths, the present invention Easily produces effects. That is, it is advantageous for the effect of the present invention to be achieved if the amount of unnecessary long-wavelength (wavelength exceeding 350 nm) light rays reaching the surface of the original printing plate is small. The amount of irradiation light required to achieve the effects of the present invention varies depending on the type of light source and the intensity of irradiation light, but it is usually 35Qnm.
A light source that irradiates abundant ultraviolet rays with the following wavelengths exhibits its effect in a shorter irradiation time. For example, if a general high-pressure mercury lamp (3KW, manufactured by Oak Seisakusho, [Jet Light 3300J]) is used as the light source for exposure,
Remove the UV-blocking transparent plate (glass plate) between the light source and the original printing plate, and install a UV meter (newly manufactured by Oak Manufacturing Co., Ltd., UV-
302A> at an illumination intensity of 3.5 mW/ri for 10 seconds or more, preferably 20 seconds or more, actinic rays with a wavelength of 350 nllll or less, which can fully exhibit the effects of the present invention, can be obtained. When the amount of actinic rays is less than this, the effect of the present invention rapidly disappears, and the film begins to exhibit normal negative working behavior (the silicone rubber layer in the exposed area peels off during development).

また、本発明の効果をざらに効果的に発現させるため、
画像露光終了後、現m処理を行なう前に以下のような版
面全面に通常の光源による露光を施すようにしてもよい
。ここで言う通常の光源による露光とは350nm以下
の波長の紫外線を実質的に含まない活性光線による露光
を意味し、例えば高圧水銀灯の場合、350nm以下の
波長の紫外線を紫外線遮光用透明板で遮断して使用した
場合に相当する。
In addition, in order to express the effects of the present invention more effectively,
After the image exposure is completed and before the development process is performed, the entire plate surface may be exposed to light using a normal light source as described below. Exposure using a normal light source as used herein means exposure to active light that does not substantially contain ultraviolet rays with a wavelength of 350 nm or less. For example, in the case of a high-pressure mercury lamp, ultraviolet rays with a wavelength of 350 nm or less are blocked by a transparent plate for blocking ultraviolet rays. This corresponds to when used as

画像露光とは別に行なうこのような版面仝面に対する露
光により、画像露光時の非光照射部分には350nmを
越える波長の紫外線が照射されることにこととなり、該
先非照射部分は全く光照射されずに現像処理された場合
にに比べて、よりシリコーンゴム層の剥離脱落が容易で
あり、かつ確実なものとなる。
Due to this exposure of the other side of the printing plate, which is performed separately from image exposure, the non-irradiated areas during image exposure are irradiated with ultraviolet rays with a wavelength exceeding 350 nm, and the non-irradiated areas are not irradiated with light at all. The silicone rubber layer can be peeled off more easily and more reliably than when the silicone rubber layer is developed without being developed.

上記の露光済版の版面を現像液を含んだ現像用パッドで
こすると、未露光部のシリコーンゴム層が除去され、イ
ンキ受容部が露出する。該感光層が架橋されたり、変性
されたりしていない場合、その膜厚の一部もしくは全部
が現像処理過程において脱落し、現像処理の後、露出し
た表面がインキ受容部となる。また、架橋されたり、変
性させられたりすることにより現像液に対して不溶化さ
せられた感光層の場合は、実質的にその厚みを減するこ
となく残存し、その露出した感光層表面がインキ受容部
となる。本発明で用いられる現像液としては、感光層を
溶解もしくは膨潤させるものが好ましい。
When the surface of the exposed plate is rubbed with a developing pad containing a developer, the silicone rubber layer in the unexposed areas is removed and the ink receiving areas are exposed. If the photosensitive layer is not crosslinked or modified, part or all of its thickness will fall off during the development process, and the exposed surface will become an ink receiving area after the development process. In addition, in the case of a photosensitive layer that has been made insoluble in a developer by crosslinking or modification, it remains without substantially reducing its thickness, and the exposed surface of the photosensitive layer is ink receptive. Becomes a department. The developer used in the present invention is preferably one that dissolves or swells the photosensitive layer.

現像液の具体例として次のようなものを挙げることがで
きる。
Specific examples of the developer include the following.

アルコール類(メタノール、エタノールなど)エーテル
類(メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、ブチルセロ
ソルブ、メチルカルピトールエチルカルピトール キサン、テトラヒドロフランなど) ケトン類(アセトン、メチルエチルケトンなど)エステ
ル類(酢酸エチル、酢酸ブチル、メチルセロソルブアセ
テート、エチルセロソルブアセテート、エチルカルピト
ールアセテートなど)上記の極性溶剤に、シリコーンゴ
ム層を膨潤させるような炭化水素(ヘキサン、ヘプタン
、゛アイソパー”E,)−1,G(エッソ製品)あるい
はガソリン、揮発油、灯油など)あるいはハロゲン化炭
化水素(トリクレンなど)を添加することができる。必
要ならば水を添加してもよい。また、染料を加えて、シ
リコーンゴム層の除去された画像部を染色してもよい。
Alcohols (methanol, ethanol, etc.) Ethers (methyl cellosolve, ethyl cellosolve, butyl cellosolve, methyl carpitol ethyl carpitol xane, tetrahydrofuran, etc.) Ketones (acetone, methyl ethyl ketone, etc.) Esters (ethyl acetate, butyl acetate, methyl cellosolve acetate) , ethyl cellosolve acetate, ethyl carpitol acetate, etc.) Into the above polar solvent, add a hydrocarbon that swells the silicone rubber layer (hexane, heptane, ``isopar'' E,)-1,G (Esso product) or gasoline, volatile oil, kerosene, etc.) or halogenated hydrocarbons (triclene, etc.).Water may be added if necessary.Dye may also be added to dye the image area from which the silicone rubber layer has been removed. You may.

[実施例] 以下、実施例により本発明をざらに詳しく説明する。[Example] EXAMPLES Hereinafter, the present invention will be explained in more detail with reference to Examples.

実施例1 厚ざQ,3mmのアルミ板(住友軽金属(II製)に下
記のプライマ組成物を塗布し、200℃、2分間熱処理
して5μのプライマ層を設けた。
Example 1 The following primer composition was applied to an aluminum plate (manufactured by Sumitomo Light Metals (II)) with a thickness Q of 3 mm, and heat treated at 200° C. for 2 minutes to form a 5 μm thick primer layer.

■ポリウレタン樹脂(サンブレンLQ−T1331、三
洋化成工業(11製>   100重量部■ブロックイ
ソシアネート(タケネート8830、武田薬品v/J製
)       20重量部■エポキシ・フェノール・
尿素樹脂(SJ9372、関西ペイント■製)    
8重量部■ジメチルホルムアミド  725重量部続い
てこの上に下記の感光層組成物をバーコータを用いて塗
布し、110℃の熱風中で1分間乾燥して厚さ2μの感
光層を設けた。
■Polyurethane resin (Sunbren LQ-T1331, manufactured by Sanyo Chemical Industries (11) > 100 parts by weight ■Blocked isocyanate (Takenate 8830, manufactured by Takeda Pharmaceutical V/J) 20 parts by weight ■Epoxy, phenol,
Urea resin (SJ9372, manufactured by Kansai Paint ■)
8 parts by weight 725 parts by weight of dimethylformamide Subsequently, the following photosensitive layer composition was coated thereon using a bar coater and dried for 1 minute in hot air at 110 DEG C. to form a photosensitive layer with a thickness of 2 .mu.m.

■ナフトキノンー1,2−ジアジド−5−スルホン酸と
フェノールホルムアルデヒドノボラック樹脂(住友デュ
レズ製ニスミライトレジンPR50622)の部分エス
テル(元素分析法によるエステル化度25%)    
   100重量部■4,4ージフェニルメタンジイソ
シアネート40重量部 ■ジブデル錫ジアセテート 0.2重量部■4,4°ー
ジエチルアミノベンゾフェノン5重量部 ■pートルエンスルホン酸  0.8重量部■テトラヒ
ドロフラン   800重量部ついでこの感光層の上に
次の組成を有するシリコーンゴム組成物を回転塗布後、
115℃、露点30℃、3.5分間湿熱硬化−させて2
.3μのシリコーンゴム層を設けた。
■Partial ester of naphthoquinone-1,2-diazide-5-sulfonic acid and phenol formaldehyde novolac resin (Nisumilite Resin PR50622 manufactured by Sumitomo Durez) (degree of esterification 25% by elemental analysis)
100 parts by weight 40 parts by weight of 4,4-diphenylmethane diisocyanate ■ 0.2 parts by weight of dibdeltin diacetate ■ 5 parts by weight of 4,4°-diethylaminobenzophenone ■ 0.8 parts by weight of p-toluenesulfonic acid ■ 800 parts by weight of tetrahydrofuran Then, after spin-coating a silicone rubber composition having the following composition on this photosensitive layer,
115℃, dew point 30℃, moist heat curing for 3.5 minutes 2
.. A 3μ silicone rubber layer was provided.

■ポリジメチルシロキサン(分子量約25.0001末
端OH基>      100重量部■ビニルトリ(メ
チルエチルケトオキシム)シラン          
    8重量部■ジブチル錫ジアセテート 0.1重
聞部■γ−アミノプロピルトリメトキシシラン0.5重
世部 ■゛アイソパー″Eエクソン化学■製)1400重四部 上記のようにして得られた積層板に、厚さ10μのポリ
プロピレンフィルム“トレファン″(束し■製)をカレ
ンダーローラーを用いてラミネートし、水なし平版印刷
原版を得た。
■Polydimethylsiloxane (molecular weight approx. 25.0001 terminal OH group> 100 parts by weight ■Vinyl tri(methyl ethyl ketoxime) silane
8 parts by weight ■ 0.1 parts by weight of dibutyltin diacetate ■ 0.5 parts by weight of γ-aminopropyltrimethoxysilane ■ 1400 parts by weight (Isopar (manufactured by Exxon Chemical)) 4 parts by weight Laminated layer obtained as above A 10 μm thick polypropylene film “Torefane” (manufactured by Bunshii ■) was laminated on the plate using a calendar roller to obtain a waterless lithographic printing original plate.

かかる印刷原版に高圧水銀灯(3KW:オーク製作新製
[ジェットライト3300J )を用い、光源と印刷原
版との間のガラス板を取り除いて、短波長側の紫外線(
314,335止に発光ピークあり)が印刷原版表面に
遮られることなく到達するようにして、Uvヅメ−−(
オーク製作新製、LJV302A>で3.5mW/iの
照度で15秒間画像露光を行なった。(150線/イン
チの網点画像を持つポジフィルムを使用) 次いで、′トレファン″を剥離し、東し水なし平版にお
いて使用される手現像パッドとを用い、現像液としてエ
チルセロソルブを用いて現像を行なった。その結果、画
像露光された部分のシリコーンゴム層が感光層と強固に
接着しており、一方未露光部分はシリコーンゴム層が脱
落し感光層表面が露出したポジティブワーキング用の印
刷版が得られた。
A high-pressure mercury lamp (3KW: Newly manufactured by Oak Seisakusho [Jet Light 3300J)] is used for the printing original plate, and the glass plate between the light source and the printing original plate is removed to emit short wavelength ultraviolet rays (
The luminescence peak at 314, 335 stops) reaches the surface of the original printing plate unobstructed.
Image exposure was performed for 15 seconds at an illumination intensity of 3.5 mW/i using a new model manufactured by Oak Manufacturing Co., Ltd., LJV302A>. (A positive film with a halftone image of 150 lines/inch was used.) Next, the 'Trephan' was peeled off, and a hand development pad used in waterless lithographic printing was used, and ethyl cellosolve was used as the developer. Development was performed.As a result, the silicone rubber layer in the image-exposed areas was firmly adhered to the photosensitive layer, while in the unexposed areas, the silicone rubber layer fell off and the surface of the photosensitive layer was exposed.This is a positive working printing. A version was obtained.

実施例2 実施例1と同様の印刷原版を、同様の光源を用いて画像
露光した。その後、通常の使用状態、すなわち、印刷原
版と光源との間に保護ガラスが存在する状態下で版面全
面を30秒間露光した。
Example 2 A printing original plate similar to that in Example 1 was imagewise exposed using the same light source. Thereafter, the entire surface of the printing plate was exposed to light for 30 seconds under normal usage conditions, that is, under a condition where a protective glass was present between the original printing plate and the light source.

次いで、“トレファン″を剥離し、東し水なし平版にお
いて使用される手現像パッドを用い、現像液としてエチ
ルセロソルブおよび水/エタノール=50150 (重
量比)を用いてそれぞれ現像を行なった。その結果、エ
チルセロソルブの場合と同様に水/エタノールを用いて
行なった場合も現像が容易に行なえ、良好な画像再現性
を有するポジティブワーキング用の印刷版が得られた。
Next, "Trephan" was peeled off, and development was carried out using a hand development pad used in waterless lithography using ethyl cellosolve and water/ethanol=50150 (weight ratio) as developers. As a result, when using water/ethanol as in the case of ethyl cellosolve, development was easy and a positive working printing plate with good image reproducibility was obtained.

比較例1 実施例1と同様の印刷原版を、同様の光源を用い、通常
の使用状況、すなわち、印刷原版と光源との間に保護ガ
ラスや焼枠ガラスが存在する状況下で、同様のポジフィ
ルムを用いて画像露光を行なった。次いで同様の現像を
行なったところ、霧光部分、未露光部分、両方とものシ
リコーンゴム層が脱落してしまった。また現像液をエタ
ノール/アイソパーEの(1:1重量比)混合物にかえ
て、現像を行なったところ、露光部分のシリコーンゴム
層が脱落し、未露光部分のシリコーンゴム層は感光層と
接着したまま残存したネガティブワーキング用の印刷版
が得られた。
Comparative Example 1 A printing original plate similar to that in Example 1 was used under normal usage conditions, that is, a situation in which a protective glass or a baking frame glass was present between the printing original plate and the light source, using the same light source. Image exposure was performed using film. When the same development was then carried out, the silicone rubber layer fell off in both the foggy and unexposed areas. When the developer was changed to a mixture of ethanol/Isopar E (1:1 weight ratio) and development was carried out, the silicone rubber layer in the exposed areas fell off, and the silicone rubber layer in the unexposed areas adhered to the photosensitive layer. A printing plate for negative working that remained intact was obtained.

[発明の効果] 本発明による露光現像方法により、ネガティブワーキン
グ用の印刷原版を、容易にポジティブワーキング用印刷
版として使用することが可能となる。
[Effects of the Invention] The exposure and development method according to the present invention allows a printing original plate for negative working to be easily used as a printing plate for positive working.

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims]  基板上に、キノンジアジド化合物を含有する感光層、
インキ反撥性層を順次積層した水なし平版印刷版を画像
露光する際、該版面に、紫外線遮光用透明板を有しない
光源を用い、350nm以下の波長の紫外線を含む活性
光線を照射することにより画像を形成することを特徴と
するポジテイブワーキング用水なし平版印刷版の製版方
法。
a photosensitive layer containing a quinonediazide compound on the substrate;
When imagewise exposing a waterless lithographic printing plate in which ink-repellent layers are sequentially laminated, the plate surface is irradiated with actinic rays containing ultraviolet rays with a wavelength of 350 nm or less using a light source that does not have a transparent plate for blocking ultraviolet rays. A method for making a waterless lithographic printing plate for positive working, which is characterized by forming an image.
JP63212811A 1987-09-25 1988-08-26 Production of waterless planographic printing plate Pending JPH01158451A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP63212811A JPH01158451A (en) 1987-09-25 1988-08-26 Production of waterless planographic printing plate

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP24116487 1987-09-25
JP62-241164 1987-09-25
JP63212811A JPH01158451A (en) 1987-09-25 1988-08-26 Production of waterless planographic printing plate

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH01158451A true JPH01158451A (en) 1989-06-21

Family

ID=26519442

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP63212811A Pending JPH01158451A (en) 1987-09-25 1988-08-26 Production of waterless planographic printing plate

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH01158451A (en)

Citations (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5570847A (en) * 1978-11-24 1980-05-28 Toray Ind Inc Processing method of waterless lithographic printing plate
JPS5692536A (en) * 1979-12-27 1981-07-27 Fujitsu Ltd Pattern formation method
JPS59202462A (en) * 1983-05-02 1984-11-16 Oki Electric Ind Co Ltd Formation of negative type resist pattern
JPS6045246A (en) * 1983-08-23 1985-03-11 Oki Electric Ind Co Ltd Formation of resist pattern
JPS6045247A (en) * 1983-05-23 1985-03-11 フユージヨン・セミコンダクター・システムズ Method and apparatus for hardening photoresist
JPS60130829A (en) * 1983-12-19 1985-07-12 Oki Electric Ind Co Ltd Formation of resist pattern
JPS60133452A (en) * 1983-12-21 1985-07-16 Fuji Photo Film Co Ltd Photosensitive lithographic printing plate requiring no dampening water
JPS60135943A (en) * 1983-12-26 1985-07-19 Dainippon Screen Mfg Co Ltd Method and device for improving strength of resist layer
JPS61131446A (en) * 1984-11-29 1986-06-19 Oki Electric Ind Co Ltd Formation of resist pattern
JPS61241745A (en) * 1985-04-18 1986-10-28 Oki Electric Ind Co Ltd Negative type photoresist composition and formation of resist pattern
JPS6230322A (en) * 1985-07-31 1987-02-09 Oki Electric Ind Co Ltd Formation of photoresist pattern

Patent Citations (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5570847A (en) * 1978-11-24 1980-05-28 Toray Ind Inc Processing method of waterless lithographic printing plate
JPS5692536A (en) * 1979-12-27 1981-07-27 Fujitsu Ltd Pattern formation method
JPS59202462A (en) * 1983-05-02 1984-11-16 Oki Electric Ind Co Ltd Formation of negative type resist pattern
JPS6045247A (en) * 1983-05-23 1985-03-11 フユージヨン・セミコンダクター・システムズ Method and apparatus for hardening photoresist
JPS6045246A (en) * 1983-08-23 1985-03-11 Oki Electric Ind Co Ltd Formation of resist pattern
JPS60130829A (en) * 1983-12-19 1985-07-12 Oki Electric Ind Co Ltd Formation of resist pattern
JPS60133452A (en) * 1983-12-21 1985-07-16 Fuji Photo Film Co Ltd Photosensitive lithographic printing plate requiring no dampening water
JPS60135943A (en) * 1983-12-26 1985-07-19 Dainippon Screen Mfg Co Ltd Method and device for improving strength of resist layer
JPS61131446A (en) * 1984-11-29 1986-06-19 Oki Electric Ind Co Ltd Formation of resist pattern
JPS61241745A (en) * 1985-04-18 1986-10-28 Oki Electric Ind Co Ltd Negative type photoresist composition and formation of resist pattern
JPS6230322A (en) * 1985-07-31 1987-02-09 Oki Electric Ind Co Ltd Formation of photoresist pattern

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US4496647A (en) Treatment of image-forming laminated plate
JPS6154222B2 (en)
JPS63317379A (en) Process liquid for making waterless plate
JPH043866B2 (en)
JPH01158451A (en) Production of waterless planographic printing plate
JPH043865B2 (en)
JPS63163857A (en) Waterless lithographic printing plate
JP2507428B2 (en) Waterless planographic printing plate making method
JP2507470B2 (en) Waterless lithographic printing plate
JP2507390B2 (en) Waterless planographic processing solution
JPH0213295B2 (en)
JPS6323546B2 (en)
JP2530693B2 (en) Plate making method of waterless lithographic printing plate
JP2921092B2 (en) Waterless lithographic plate processing solution
JP2507376B2 (en) Waterless planographic processing solution
JPS6322304B2 (en)
JP2647648B2 (en) Waterless lithographic printing plate processing method
JPH0145625B2 (en)
JPH042942B2 (en)
JPS6011845A (en) Original printing plate requiring no dampening water
JPS62170965A (en) Photoengraving method for laminate for image formation
JPH0356623B2 (en)
JPH0356624B2 (en)
JPH07295209A (en) Original plate of waterless planographic printing plate
JPH07104598B2 (en) Waterless planographic printing plate