JPS60133452A - Photosensitive lithographic printing plate requiring no dampening water - Google Patents

Photosensitive lithographic printing plate requiring no dampening water

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JPS60133452A
JPS60133452A JP24289683A JP24289683A JPS60133452A JP S60133452 A JPS60133452 A JP S60133452A JP 24289683 A JP24289683 A JP 24289683A JP 24289683 A JP24289683 A JP 24289683A JP S60133452 A JPS60133452 A JP S60133452A
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JP
Japan
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compound
composition
photosensitive
lithographic printing
silicone rubber
Prior art date
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Pending
Application number
JP24289683A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Hiroshi Takahashi
弘 高橋
Keisuke Shiba
柴 恵輔
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Fujifilm Holdings Corp
Original Assignee
Fuji Photo Film Co Ltd
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Publication date
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    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/075Silicon-containing compounds
    • G03F7/0752Silicon-containing compounds in non photosensitive layers or as additives, e.g. for dry lithography

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  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)

Abstract

PURPOSE:To improve the printing resistance and solvent resistance during printing by successively laminating a photosensitive layer contg. an o-quinonediazido compound and a photosetting compound or composition and a silicone rubber layer on a support by coating. CONSTITUTION:A photosetting compound or composition is incorporated into a photosensitive layer contg. an o-quinonediazido compound, and the photosensitive layer is covered with a silicone rubber layer. The photosetting compound or composition has considerably lower sensitivity than the o-quinonediazido compound. A photosetting compound or composition different from the o-quinonediazido compound in the photosensitive wavelength region may be incorporated. The resulting material is imagewise exposed and developed to form an image, and this image is fixed by exposure to active light which sets the photosetting compound or composition. A condensation product of p-diazodiphenylamine with formaldehyde, a deriv. thereof, ethylene glycol di(meth)acrylate or the like is used as the photosetting compound or composition.

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、シリコーンゴム層をインキ反撥層とする湿し
水不要感光性平版印刷版に関するものである。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Field of Industrial Application] The present invention relates to a photosensitive lithographic printing plate that does not require dampening water and has a silicone rubber layer as an ink repellent layer.

〔従来技術〕[Prior art]

従来のオフセット方式による平版印刷では、像形状に構
成された界面化学的に性質の異なる二種の表面に画像部
(親油性)と非画像部(親水性)の機能を付与し、非画
像部に湿し水を供給し水膜を形成させることによりイン
キ反撥層としている。
In conventional planographic printing using the offset method, two types of surfaces with different surface chemical properties configured in an image shape are given functions of an image area (oleophilicity) and a non-image area (hydrophilicity), and the non-image area The ink repellent layer is created by supplying dampening water to form a water film.

この平版オフセット印刷版は、製版が比較的簡単で低コ
ストであり、しかも高品質の印刷物が得られるという利
点を有しているため、現在最も広〈実施されて居る。し
かし漫し水を用いることが不可避の要件であるため、そ
れに起因する数々の問題点がある。たとえば■水とイン
キのバランス−15整がむずかしく熟練を要する、この
ため印刷作業の自動化、省力化の障害となる、■印刷ス
タート吐 −し I−ノ+/ J−n)−9ニj/ w
 Js”、 65 仁”x −) ’L −k ツ1o
f二F−n J4かかり横紙率が高い、■水による紙の
伸縮があり見当ずれを発生しやすい、■インキの乳化に
より網点の形状がくずれ、インキの付きが態くなり、網
点再現性に問題が出る、等である。
This lithographic offset printing plate is currently most widely used because it has the advantage of being relatively easy to make, low cost, and capable of producing high-quality printed matter. However, since it is an unavoidable requirement to use diluted water, there are a number of problems caused by this. For example, ■ Adjusting the balance between water and ink is difficult and requires skill, which poses an obstacle to automation and labor saving of printing work. lol
Js", 65 jin"x -) 'L -k ツ1o
f2F-n J4 is applied and the horizontal paper ratio is high, ■ Paper expands and contracts with water and misregistration is likely to occur, ■ The shape of the halftone dots is distorted due to emulsification of ink, the ink adhesion becomes irregular, and the halftone dots There are problems with reproducibility, etc.

このような問順点を根本的に解決するために、士数年程
前からシリコーンゴム層をインキ反撥層とする洋し水を
用いずに平版印刷を行5 ill究が開始された。特公
昭114t−,2、、? 041.2号公11)−イン
キ反撥層としてシリコーンゴムな用いることを示した最
初の文献であり、その後も種々の構成による湿し水不要
感光性平版印刷版に関する特許山崩〔1がなされて居る
。かかる湿し水不要平版印刷版のなかで、支持体上に感
光層、シリコーンゴム層をこの1(1αに設けてなるシ
リコーンがム上層型湿し水不要感光性平版印刷版におい
てネガティグワーキングとするには、感光層としてブC
可溶化型の感光性物質を選ぶ必要がある・このような構
成を持つ湿し水不要平版印刷版の例は特公昭り乙−/A
O’ll1号公報に示されている。この版構成では、露
光部の感光層は光分解されて現像液に可溶となり、上部
のシリコーンゴム層とともに除去されるので、露光部が
画像部となるネガティグワーキングの湿し水不要感光性
平版印刷版となる。しかし未露光部で非画像部となって
いるシリコーンゴム層を保持している先回溶化型の感光
性物質は、現像以降もその感光性を保っており、太高光
あるいは室内蛍光燈を感光し変化する。一方、印刷版は
印刷工程に於ける版面洗浄あるいは印刷インキとの接触
などにおいて現像溶媒に類似の有機溶媒に触れる機会が
考えられ、この場合、現像工程までいかに良好な画像再
現が得られていても、それ以降に再露光を受けて感光層
が可溶化しているため有イ畿溶媒に侵され、非画像部を
形成しているシリコーンゴム層ともども脱落し、版面で
のiil+1像再現性が保持出来なくなるという致命的
欠陥を持っている。
In order to fundamentally solve this problem, research began several years ago on lithographic printing using a silicone rubber layer as an ink-repellent layer without using washing water. Special Public Showa 114t-,2,? No. 041.2 Publication 11) - This is the first document showing the use of silicone rubber as an ink repellent layer, and since then, a mountain of patents have been published regarding photosensitive lithographic printing plates that do not require dampening water and have various configurations. . In such a lithographic printing plate that does not require dampening water, a photosensitive layer and a silicone rubber layer are provided on the support. In order to
It is necessary to choose a solubilized photosensitive substance. An example of a lithographic printing plate with such a structure that does not require dampening water is available at Tokko Akira Otsu-/A.
It is shown in the O'll1 publication. With this plate configuration, the photosensitive layer in the exposed area is photodecomposed, becomes soluble in the developer, and is removed together with the upper silicone rubber layer, so the exposed area becomes the image area and no dampening water is required. It becomes a lithographic printing plate. However, the previously dissolved photosensitive material that retains the silicone rubber layer in the unexposed and non-image areas retains its photosensitivity even after development, and cannot be exposed to bright light or indoor fluorescent lights. Change. On the other hand, printing plates may come into contact with organic solvents similar to developing solvents during plate cleaning or contact with printing ink during the printing process, and in this case, it is difficult to determine how good image reproduction is obtained up to the developing process. However, since the photosensitive layer has been solubilized by re-exposure since then, it is attacked by the active solvent and falls off together with the silicone rubber layer forming the non-image area, resulting in poor IIL+1 image reproducibility on the printing plate. It has a fatal flaw that it cannot be maintained.

かかる問題を解決するために漫し水不要ネガ型平版印刷
版を露光、現像後、熱定着する方法(0開昭タタ−乙0
9り7号公報および特開昭37−]9ユタ、1&号公報
)および露光、現像後、塩基処理する方法(特開昭左7
−2037グ0号公幹)が川−に開示されている。しか
し前者の方式は熱処理装置が必要なこと、また後者の方
式は現像処理後、湿式で処理するため処理行程が、2浴
となり、処理機を複雑にするという問h″nがある。
In order to solve this problem, a method of exposing, developing, and heat-fixing a negative planographic printing plate that does not require water (0 Kaisho Tata-Otsu 0
9-ri No. 7 and JP-A No. 1983-] 9 Utah, 1&) and a method of base treatment after exposure and development (JP-A No. 1989-7)
-2037G No. 0 public trunk) is disclosed in Kawa-. However, the former method requires a heat treatment device, and the latter method requires a two-bath treatment process since it is wet-processed after development, which complicates the processing equipment.

〔発明の目的〕[Purpose of the invention]

従って本発明の目的は、支4’¥体上に感光層、シリコ
ーンゴム層をこのl1fi K 塗設してなる構成を有
する湿し水不要感光性乎);〜印刷版の実用’i4.+
性、!ト「に印刷時の耐刷性、倒溶剤性を改良すること
である0 〔発明の構成〕 本発明者らは、鋭意検討した結果、上1ti24’14
成の湿し水不要感光性平版印刷版において、R礪光層に
光硬化性化合物または組成物を含有させ、これを像露光
、現像後、像露光量より多量の活性光線、または像ムF
光に使用したものとは異なる波長の活性光辞Qに露光す
ることにより上記目的が達成し得ることを見出し、本発
明を完成するに−jβつだ。
Therefore, the object of the present invention is to develop a photosensitive printing plate that does not require dampening water and has a structure in which a photosensitive layer and a silicone rubber layer are coated on a supporting body. +
sex,! [Structure of the Invention] As a result of intensive study, the present inventors have found that
In a photosensitive lithographic printing plate that does not require dampening water, the R luminescent layer contains a photocurable compound or composition, and after image exposure and development, it is exposed to actinic light in an amount greater than the image exposure amount, or to the image F layer.
We have now completed the present invention by discovering that the above object can be achieved by exposure to active light Q of a wavelength different from that used for the light used.

ジアジド化合物と光硬化性化合物または組成物を含む感
光層、およびシリコーンゴム層をこの順に塗設してなる
侵し水不要感光性平版印刷版である。
This is a water-free photosensitive lithographic printing plate which is formed by coating a photosensitive layer containing a diazide compound, a photocurable compound or composition, and a silicone rubber layer in this order.

本発明の感光付平版印刷版は、オルトキノンジアジド化
合物を含む感光IN中に1オルトキノンジアジド化合物
に比較して感度が十分に低い光硬化性化合物または組成
物1、またはオルトキノンジアジド化合物の感光波長域
とpなる感光波長域をもつ光Fφ化a化合物または組成
物を箔8加したことを取置としている。このため、像簾
光、現像後、上H[−1光硬化性化合物または組成物を
硬化させるのに十分な活性光μ)1で結党することKよ
り、画像を定第1することができるのである。
The photosensitive lithographic printing plate of the present invention includes a photocurable compound or composition 1 having sufficiently lower sensitivity than the orthoquinonediazide compound in the photosensitive IN containing the orthoquinonediazide compound, or a photosensitive wavelength range of the orthoquinonediazide compound. It is assumed that a photo-Fφ-forming a compound or composition having a photosensitive wavelength range p is added to the foil 8. For this reason, the image can be made uniform by screening the image with sufficient active light μ)1 to cure the photocurable compound or composition after development. It is.

不発114に使用出来る光硬化性化合物または組成物に
は、大きくわけて光架15((型のものと光市台型のも
のがある。光架橋型感光性化合物または組成物には、ジ
アゾ基を含有する化合物、例えばp−ジアゾジフェニル
アミンのホルムアルデヒド縮合物およびその誘尋体、或
は)J? リプ−バインダ中に−アジドベンザル)シク
ロヘキザノン、クグ′−ノアシトカルコンなどを含有さ
せたもの、ポリケイ皮酸ビニル、β−シンナモイルオキ
シエチルメタクリレートホモポリマー、および共用合体
、p−フェニレンノアクリル酸とジオールの縮合物より
得られる不飽和ポリエステルといった光二4景化型。
Photocurable compounds or compositions that can be used for Fudou 114 are broadly divided into photocurable 15 ((type) and photocurable compositions. compounds containing, for example, formaldehyde condensates of p-diazodiphenylamine and their derivatives; Koji4keika type, such as vinyl senate, β-cinnamoyloxyethyl methacrylate homopolymer, and copolymer, unsaturated polyester obtained from condensate of p-phenylenenoacrylic acid and diol.

ニアff結合を持つ感光411ポリマーを含ませたもの
等がある。ジアゾ基或はアジド基の感光波長域は通常0
−キノンシアノドのそれと近似しており、感度を自由に
訴節出来ないため本発明の場合あまり適当でないがその
量比を調節することにより使用することは可能である。
There are those containing a photosensitive 411 polymer having a near ff bond. The sensitive wavelength range of diazo group or azide group is usually 0.
- It is similar to that of quinone cyanide, and the sensitivity cannot be adjusted freely, so it is not very suitable for the present invention, but it can be used by adjusting the ratio of their amounts.

又、光重合型の例としては末端基に二重結合を含むモノ
マーを含む組成物で、モノマーとして、エチレングリコ
ールジ(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコール
ジ(メタ)アクリレート、ヒドロキシエチル(メタ)ア
クリレート、ヒドロキシノロビル(メタ)アクリレート
、グリシジル(メタ)アクリレート、/−りp日−λ−
ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、ジメチルアミ
ノエチル(メタ)アクリレート、トリメチロールノpノ
9ントリ(メタ)アクリレートなどの一連のアクリル酸
エステル、メタアクリルはエステル類、メチレンビスア
クリルアミド、N−メチロールアクリルアミド、メトキ
シメチルアクリルアミド等のアクリルアミド誘導体が適
当であり、特に末端−jil;に二つ以上の二重結合を
含むものが有効である。
Examples of photopolymerizable types include compositions containing monomers containing double bonds in terminal groups, such as ethylene glycol di(meth)acrylate, polyethylene glycol di(meth)acrylate, hydroxyethyl(meth)acrylate, Hydroxynorovir (meth)acrylate, glycidyl (meth)acrylate, /-ripday-λ-
A series of acrylic acid esters such as hydroxyethyl (meth)acrylate, dimethylaminoethyl (meth)acrylate, trimethylol-p-n-tri(meth)acrylate, methacrylic is an ester, methylenebisacrylamide, N-methylolacrylamide, methoxy Acrylamide derivatives such as methylacrylamide are suitable, and those containing two or more double bonds at the terminal -jil are particularly effective.

勿論これ等モノマーがポリマー間の架橋剤として朗く場
合もある。
Of course, these monomers may be useful as crosslinking agents between polymers.

これ等光硬化性化合物または組成物のうち感光性二重結
合を含む架橋型と重合型のものは、それ等に対する増感
剤を選択することにより光硬化速度を自由に変えられる
が、あまり多量の増感剤を使用することはii!++像
形成工程と定着工程とを分離することを考える場合好ま
しい態様ではない。
Among these photocurable compounds or compositions, the photocuring speed of crosslinked and polymerized types containing photosensitive double bonds can be freely changed by selecting a sensitizer for them, but if too much Using a sensitizer is ii! ++ This is not a preferred embodiment when considering separating the image forming process and the fixing process.

従って、オルトキノンジアジド化合物の感光波長域と光
硬化性化合物又は組成物の感光波長域が近似する場合に
は、画像形成工程に必セとされる感度(即ち、感光層が
現像液に可溶性となる感度)が定着工程に必要とされる
感度の70倍以上となるように感光層を調整しておくこ
とが好ましい。
Therefore, when the photosensitive wavelength range of the orthoquinone diazide compound and the photosensitive wavelength range of the photocurable compound or composition are similar, the sensitivity necessary for the image forming process (i.e., the photosensitive layer becomes soluble in the developer) It is preferable to adjust the photosensitive layer so that the sensitivity (sensitivity) is 70 times or more the sensitivity required for the fixing step.

本発明感光性平版印刷版の感光層に含まれる光硬化性化
合物または組成物の量は、オルトキノンシアシト9化合
物の量より少いことが望ましい。一般にオルトキノンジ
アジド化合物の七(に対しC,20重景%以上700重
″#1′%未満が適当である。
The amount of the photocurable compound or composition contained in the photosensitive layer of the photosensitive lithographic printing plate of the present invention is desirably smaller than the amount of the orthoquinone cyacyto-9 compound. In general, it is appropriate to use C, 20 to 700% by weight and less than 1'% by weight of the orthoquinonediazide compound.

これより少いと目的とする効果がHH著でな(なり、/
θ0重:t%以上では、光硬化性化合物または組成物の
光硬化が進行し、溶剤系現像液による現像が極めて回船
になるという点で好ましくない。
If it is less than this, the desired effect will not be achieved by HH.
If θ0 weight: t% or more, photocuring of the photocurable compound or composition proceeds, and development with a solvent-based developer becomes extremely slow, which is not preferable.

本発明に使用されるオルトキノンジアジド化合物とは、
分子内にニージアゾ−/−ナフトール構造を有する化合
物であり、通常、スルホン酸討導体、たとえばスルホク
四リドと水酸基やアミン基を持つ化合物との反応により
得られるものである。
The orthoquinonediazide compound used in the present invention is
It is a compound having a di-diazo-/-naphthol structure in its molecule, and is usually obtained by reacting a sulfonic acid derivative, such as sulfoctetralide, with a compound having a hydroxyl group or an amine group.

これ等オルトキノンジアジド化合物は、添加される光硬
化性化合物または組成物との相溶性が良ければどのよう
な骨格構造のものでも使用することが出来る。
These orthoquinonediazide compounds may have any skeleton structure as long as they are compatible with the photocurable compound or composition to be added.

本感光性組成物中のオルトキノンジアジド化合物の量は
、用いられる覗、像液に対して画像形成に十分な°叶存
在すわば良い。一般に左0薦%゛%以上が適当である。
The amount of the orthoquinonediazide compound in the photosensitive composition may be such that it is present in an amount sufficient for image formation with respect to the imaging solution used. Generally, a value of 0% or more is appropriate.

ところで従来のオフセット印刷用感光性平版印刷版にお
いてもガ;似の考え方、すなわち光硬化性化合物または
組成物とオルトキノンジアジド化合物jを混合すること
によってポジ型感光性平版印刷版の高馴刷化をねらった
技術が特公昭左Z−λ乙θ/コ号公郭に開示されている
。この方法は、光硬化性組成物とオルトキノン・シアシ
ト化合物を含む感光層を備えた感光性印刷版を像露光し
、現像拶、形成された画像罠対して全面露光し、光硬化
性組成物を充分に硬化し、耐刷性のすぐれた刷版を製造
するというものであり、本発明と一見類似している。し
かし、特公昭3乙−2607−号公報に記載された発明
(以下、「公知例」という)と本発明は次の点で著しく
異なるものである。第1に、現像液が異なっている。本
発明は湿し水不要感光性平版印刷版であり、最外表面層
はシリコーンゴム層によって役務されている。これ九対
し公知例は、従来型の湿し水を心裏tとするタイプの感
光性平版印址: 1jjiであり、シリコーンゴム層は
設けられていない。ところで、シリコーンゴム層は実a
的に水不浸透性であるから、本発明の平版印刷版を、ア
ルカリ水溶液で鯛、 (@することは極めて困A’lト
であり、従って本発明では溶剤系現像液を使用する。こ
れ1C対し公知例では、アルカリ水溶液からなる現像液
を用いるのが好ましいとされ、その実施例においても、
実a的にアルカリ水溶液からなる現像液が用いられてい
る。第λに、光硬化性化合物または組成物の割合が異な
っている。本発明では、前述のとおり、現像液として溶
剤系のものしか使用できない。このため、感光層中の光
硬化性化合物または組成物の省1″がオルトキノンジア
ジド化合物の月にくらべて多(なると、光硬化生成物が
多葉に形成されるため、溶剤系現像液による現像ができ
なくなってしまう。このため本発明では、光硬化性化合
物または組成物の量は、オルトキノンジアジドの馴:よ
り少くすることが望ましい。これに対して公知例では、
アルカリ水溶液が現像液として使用されるため、光硬化
性組成物のセ1をそれほど厳格にコントロールする必要
はない。この点につき、公知例の慣許請求の範囲には、
光硬化性組成物/重量部に対し0.0S−り重量部のオ
ルトキノンジアジド化合物を使用することが′記載され
ている。さらに公知例の実施例では、光硬化性組成物/
重量部に対し、オルトキノンジアジド化合物0..25
〜0.50重量部が使用され、公知側第3株1第3g行
以下には、オルトキノンジアジド化合物の最適値は0.
λ〜0.乙重量部と記載されている。このように公知例
は、本発明とは反対に、光硬化性組成物の館を、オルト
キノンジアジドの句より多くすることが望ましいことを
、積極的に記載している。
By the way, in the case of conventional photosensitive lithographic printing plates for offset printing, a similar idea has been adopted, that is, by mixing a photocurable compound or composition with an orthoquinone diazide compound j, a high printability of a positive photosensitive lithographic printing plate can be achieved. The targeted technology is disclosed in the Special Publication Showa Z-λ Otsu θ/Ko-No. In this method, a photosensitive printing plate equipped with a photosensitive layer containing a photocurable composition and an orthoquinone cyasito compound is imagewise exposed, developed, and the entire surface of the formed image trap is exposed to light to expose the photocurable composition. The purpose of this method is to produce a printing plate that is sufficiently cured and has excellent printing durability, and is at first glance similar to the present invention. However, the invention described in Japanese Patent Publication No. 3-2607 (hereinafter referred to as "known example") and the present invention are significantly different in the following points. First, the developer is different. The present invention is a photosensitive lithographic printing plate that does not require dampening water, and the outermost surface layer is served by a silicone rubber layer. On the other hand, a known example is a conventional photosensitive lithographic printing press using dampening water as a backing, and is not provided with a silicone rubber layer. By the way, the silicone rubber layer is actually a
Since it is essentially water-impermeable, it is extremely difficult to develop the lithographic printing plate of the present invention in an alkaline aqueous solution.Therefore, in the present invention, a solvent-based developer is used. In known examples for 1C, it is said that it is preferable to use a developer consisting of an alkaline aqueous solution, and in those examples,
In practice, a developer consisting of an alkaline aqueous solution is used. [lambda]th, the proportions of the photocurable compounds or compositions are different. In the present invention, as described above, only solvent-based developers can be used. For this reason, if the amount of photocurable compound or composition in the photosensitive layer is larger than that of the orthoquinonediazide compound, the photocured product will be formed in many layers, so it cannot be developed with a solvent-based developer. Therefore, in the present invention, it is preferable that the amount of the photocurable compound or composition is smaller than the amount of the photocurable compound or composition that is used for orthoquinonediazide.On the other hand, in the known examples,
Since an alkaline aqueous solution is used as a developer, it is not necessary to control Se1 of the photocurable composition so strictly. In this regard, the conventional claims of known examples include:
It is described that an orthoquinonediazide compound is used in an amount of 0.0 S-part by weight based on part by weight of the photocurable composition. Furthermore, in the examples of known examples, photocurable composition/
Orthoquinonediazide compound 0.0% based on weight part. .. 25
~0.50 parts by weight is used, and the optimum value of the orthoquinone diazide compound is 0.
λ~0. It is stated as 1 part by weight. In this manner, the known examples positively state, contrary to the present invention, that it is desirable to use more photocurable compositions than orthoquinone diazide.

以上のことから、今知例と本発明とは、目的、構成、効
果の点で明らかに異なるものであることが理解される。
From the above, it is understood that the present invention and the present invention are clearly different in purpose, structure, and effect.

本発明に用いられるシリコーンゴム層としては、−液性
常温硬化型シリコーンゴム、二液性はく船級用シリコー
ン、場合によっては二液性付加反応型シリコーンゴムあ
るいは特公昭S乙−7.2g60号公報記載の−M件常
温硬化型シリコーンゴムと二液性付加反応型シリコーン
ゴムの混合物であっても良く、インキ反撥性層を形成す
るシリコーンゴム組成物ならばいずれも用いることが出
来る。
The silicone rubber layer used in the present invention includes -liquid room-temperature curing silicone rubber, two-component foil silicone, and in some cases, two-component addition reaction silicone rubber or Tokko Sho S-7.2g60. It may be a mixture of a room-temperature curing silicone rubber and a two-component addition reaction silicone rubber described in the publication, and any silicone rubber composition that forms an ink-repellent layer can be used.

本発明の湿し水不髪ネガ型感光性平版印刷版の層構成は
、支持体、プライマー層、感光層、接着層、シリコーン
ゴム層の順に層を重ねたもので、場合によってはプライ
マー層、接着層を省略することが出来る。層の厚さは、
感光層はほぼO1左〜3φ?、シリコーンゴム層は八〇
〜’I f/yri”まで可能であるが、調子再現性か
らはシリコーンゴム層は薄ければ蒋い程よく、印刷・汚
れの点からはある程度の厚さが必要であり、通常2.0
〜2.3 f/rrjが好ましい。プライマー層および
接着層はその機能を十分発揮出来る量であれば、薄けれ
ば薄い程良い。
The layer structure of the dampening water-neutral negative photosensitive lithographic printing plate of the present invention includes a support, a primer layer, a photosensitive layer, an adhesive layer, and a silicone rubber layer, which are stacked in this order. The adhesive layer can be omitted. The thickness of the layer is
The photosensitive layer is almost O1 left ~ 3φ? The silicone rubber layer can have a thickness of 80 to 'I f/yri', but from the viewpoint of tone reproducibility, the thinner the silicone rubber layer, the better, and from the point of view of printing and staining, a certain thickness is required. Yes, usually 2.0
~2.3 f/rrj is preferred. The thinner the primer layer and the adhesive layer, the better, as long as they are sufficient to exhibit their functions.

本発明の湿し水不要ネガ型感光性平版印刷版用の現像剤
は、アルコール類、例えばエタノール、イソプロピルア
ルコール、n−プロピルアルコール、メチルグリコール
、エチルグリコール、n−プロピルグリコール、n−ブ
チルグリコール、ジエチレングリコールモノメチルエー
テル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエ
チレングリコールモノゾロビルエーテル、ジエチレング
リコールモノブチルエーテル、ベンジルアルコール等を
含む水溶液が好ましく、シリコーンゴム層を膨淵させる
ような石油系溶剤、例えばヘキサン、ヘゾタン、イソパ
ラフィン系炭化水素溶剤とアルコール類との混合物でも
よい。
The developer for the negative-working photosensitive lithographic printing plate that does not require dampening water according to the present invention includes alcohols such as ethanol, isopropyl alcohol, n-propyl alcohol, methyl glycol, ethyl glycol, n-propyl glycol, n-butyl glycol, Aqueous solutions containing diethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol monoethyl ether, diethylene glycol monozorobyl ether, diethylene glycol monobutyl ether, benzyl alcohol, etc. are preferred, and petroleum solvents that swell the silicone rubber layer, such as hexane, hezotane, isoparaffin hydrocarbons A mixture of a solvent and an alcohol may also be used.

〔発明の効果〕〔Effect of the invention〕

本発明によれば、印刷時の耐刷性、耐溶剤性にすぐれた
7りし水不要ネガ型感光性平版印刷版が得られる。
According to the present invention, a negative-working photosensitive lithographic printing plate that does not require water and has excellent printing durability and solvent resistance during printing can be obtained.

〔実施例〕〔Example〕

一以下実施例により本発明をさらに詳細に説明する。実
施例中の「%」は「M量%」を示すものである。
The present invention will be explained in more detail with reference to one example below. "%" in the examples indicates "M amount %".

実施例/ λ液型エポキシ系接着剤(スーパーセメダイン)A、B
合液をλ、s重−冨部ずつとり、93月c量部のメチル
エチルケトンに溶解した。あらかじめ通常の方法で脱脂
したアルミニウム版上に、」下記接着剤溶液を塗布乾燥
し、プライマ一層を塗設したアルミニウム板を作製した
。このようにしてイ1)られたプライマ一層を塗設した
アルミニウム板は、現像液あるいは感光J(q塗布用混
合溶剤(メチルセロソルブアセテート二メチルエチルケ
トン=2:/混合物)に浸漬しても溶出することはなか
った。
Example/λ liquid type epoxy adhesive (Super Cemedine) A, B
Parts of λ and s of the combined solution were taken and dissolved in 93 parts of methyl ethyl ketone. The following adhesive solution was applied and dried on an aluminum plate that had been previously degreased in a conventional manner to produce an aluminum plate coated with a single layer of primer. The aluminum plate coated with a single layer of primer prepared in (1) in this way does not dissolve even when immersed in a developer or photosensitive J(q coating solvent mixture (methyl cellosolve acetate dimethyl ethyl ketone = 2:/mixture)). There was no.

上記のようにして得られたプライマ一層を塗設したアル
ミニウム支持体上に、下記組成の感光液を乾燥油:!i
t: / 、097mになるよう塗布し乾燥した。
On the aluminum support coated with a single layer of the primer obtained as described above, a photosensitive solution having the following composition was applied with drying oil:! i
It was coated to a thickness of t: / 097 m and dried.

アセトンとピロガロールの縮合7合 により得られるポリヒドロキシフェ ニルの一−ジアゾー/−ナフトール ー5−スルホン酸エステル(米1Ei%W1第3乙3!
;709号明細契−中記載の化合物) 乙、3重量部 p−フェニレンジアクリルmニスf ルとl11.−ジヒドロキシエチルオキシシクロヘキサ
ノンとの/:/η1縮 合ポリエステル 3J重量部 ビクトリアピュアブルー BOH(採土ケ谷化学)0.7重量部 メチルセロソルブアセテート / 、20 *、fa部
メチルエチルケトン 乙θ重都部 次に信越化学株式会社製のシランカッシリング斉11に
BM−乙03(N−β(アミノエチル)−γ−アミノプ
ロビルトリメトキシシラン)/3P’を部をn−へブタ
ンS0θl景部に溶解した溶液を上記感光層上に塗布・
乾燥し、さらに信越シリコーンにE4/T(−滑型RT
V脱酢酸型)70重量部をアイソパーG (EXXON
 Chemica1社製)750爪桶部に#解したもの
を乾燥石刊で2輪′になるよう塗布した。100℃でλ
分乾繰し暗所に一晩放置し硬化を完了させた。この湿し
水不要感光性平版印刷版上にネガフィルムを密着させ、
′ヌアーり社製プリンターにより30カウント露光した
のチ、エチレングリコール屯ノプチルエーテルヲ含ませ
た沙、像パッドで7分間軽く擦ったところ、霧光部分の
感光層およびその上のシリコーンゴム層は除去され、未
露光部即ち非画像部はなんらの変化を受けずノリコーン
ゴム1?4はそのまま夕νつていた。上記方法により得
られた現像済みの水なし平版の三分の−の部分(A+を
上記プリンターのガラス面上で300カウン)[lR光
し、さらに別の三分の−の部分(B)を露光14と同じ
30カウントで1D:’光し残りの三分の−の部分(C
)はまったく光の当らない状態とした。上記のように訓
1叡1したサンプルをF4び現像と同様の処理を行った
ところ、(A) 、 (C)部はまったく変化しなかっ
たのに対し、(B)部の感光層及びシリコーンゴム層は
除去され、汐0θカウントの曝光により(A)部は完全
に光定着されたことがわかった。
Polyhydroxyphenyl 1-diazo/-naphthol-5-sulfonic acid ester obtained by condensation of acetone and pyrogallol (US 1 Ei% W 1 3 Otsu 3!
; Compound described in specification contract No. 709) B, 3 parts by weight p-phenylene diacrylic m varnish and l11. - dihydroxyethyloxycyclohexanone/:/η1 condensation polyester 3J parts by weight Victoria Pure Blue BOH (Odugaya Chemical) 0.7 parts by weight Methyl cellosolve acetate /, 20 *, fa part Methyl ethyl ketone Otsu θ Jutobe Next Shin-Etsu Chemical A solution of BM-Otsu 03 (N-β(aminoethyl)-γ-aminoprobyltrimethoxysilane)/3P' dissolved in 1 part of n-hebutane SOθl was added to Silane Cassilling Chii 11 manufactured by Co., Ltd. Coating on the above photosensitive layer
After drying, apply E4/T (-smooth type RT) to Shin-Etsu silicone.
70 parts by weight of Isopar G (EXXON)
750 (manufactured by Chemica 1) was coated with a dry stone so that two rings were formed. λ at 100℃
It was left to dry in a dark place overnight to complete curing. A negative film is closely attached to this photosensitive lithographic printing plate that does not require dampening water,
``After 30 counts of exposure using a Nuar printer, the photosensitive layer in the foggy light area and the silicone rubber layer on top of it were revealed by rubbing it lightly with an image pad for 7 minutes using a sandpaper impregnated with ethylene glycol ether. After removal, the unexposed areas, ie, the non-image areas, were left unaffected by any change and the Noricone Rubbers 1 to 4 remained as they were. A -third part of the waterless lithographic plate developed by the above method (300 counts of A+ on the glass surface of the above printer) [lR light was applied, and another -third part (B) was At the same 30 counts as Exposure 14, 1D:' is illuminated and the remaining - third part (C
) were completely exposed to no light. When the sample treated as described above was subjected to the same process as F4 and development, parts (A) and (C) did not change at all, but the photosensitive layer and silicone in part (B) did not change at all. It was found that the rubber layer was removed and part (A) was completely photofixed by exposure to 0θ counts.

実施例ユ 実施例/と同様のプライマ一層を塗設したアルミニウム
板を用意しこれに下記組成の感光液を7.0シ讐になる
よう塗布し乾昧した。
EXAMPLE 1 An aluminum plate coated with a single layer of primer similar to Example 1 was prepared, and a photosensitive solution having the following composition was applied to the plate to a coating thickness of 7.0, and allowed to dry.

アセトンとピロガロールの縮合1合 により得られるポリヒドロキシフェ ニルの一一ジアゾー/−ナフトール シンナモイルオキシエチルメ タアクリレート クリル酸の9:/共重合体 11.3沖相部ビクトリア
ピュアブルー BOH(採土ケ谷化学) θ/ ]1−尾部メチルセロ
ソルブアセテート 720重弗部メチルエチルケトン 
乙θ重カ1部 次に実施例/と同45゛9にシランカップリング剤、ひ
きつづきシリコーンがム層を塗布し、侵し水不要感光性
平版印刷原版を得た。これにネガフィルムを密着させ、
実施例/記載のプリンターで30カウント露光したのち
、エチレングリコールモツプチルエーテルを含ませた現
像.パッドで実施例/と同様に現像処理をした。得られ
た版の三分の−の部分(A)を上記プリンターのガ′ラ
ス面上で500カウント曝光し、さらに別の三分の−の
部分(B)を露光量と同じ30カウント曝光し、残りの
三分の−の部分(C)はまったく光の肖らない状態に保
った。
Polyhydroxyphenyl 1-diazo/-naphthol cinnamoyloxyethyl methacrylate 9:/copolymer of acrylic acid obtained by condensation of acetone and pyrogallol 11.3 Oki Aabe Victoria Pure Blue BOH (Odugaya Chemical) θ/ ]1-tailed methyl cellosolve acetate 720-tailed methyl ethyl ketone
1 part of θ weight Next, a silane coupling agent was applied to the same 45゛9 as in Example, followed by a silicone layer to obtain a photosensitive lithographic printing original plate that did not require water. Apply negative film to this,
After 30 counts of exposure using the printer described in Examples/Description, development was carried out with ethylene glycol motsubutyl ether. A pad was used for development in the same manner as in Example. A third of the obtained plate (A) was exposed to light for 500 counts on the glass surface of the printer, and another third of the plate (B) was exposed for 30 counts, the same as the exposure amount. , the remaining -third part (C) was kept completely out of the light.

上記のように訓製したサンプルを再び現像と同様の処理
を行ったところ、(A) l (C)部はまったく変化
しなかったのに対し、(B)部の感光層は現像液可溶性
となりシリコーンゴム層は除去された。このことより1
.!i″00カウント長時間曝光した(A)部は完全に
光定着されたことが認められる。
When the sample prepared as described above was again subjected to the same process as development, parts (A) and (C) did not change at all, while the photosensitive layer in part (B) became soluble in the developer. The silicone rubber layer was removed. From this 1
.. ! It is recognized that the part (A) exposed to light for a long time was completely photofixed.

実施例3 厚さ0..2 ’l rnmのアルミニウム板を、ナイ
ロンブラシとq00メツシュのパミストンー水懸濁液を
用いてその表面を砂目立てした後、よ(洗浄した。
Example 3 Thickness 0. .. The surface of a 2'l nm aluminum plate was grained using a nylon brush and a q00 mesh pumice stone-water suspension, and then washed.

70%水酸化ナトリウムに70℃で60秒間浸漬してエ
ツチングし、流水で水洗後1.20%硝酸水溶液で中和
洗浄し、水洗後、特開昭33−1.7307号公報記載
の電気化学的粗面化処理、即ちVA=/J、7V 、 
VC=9./Vの正弦波交番電流を用い、/%硝酸水溶
液中で/乙0クーロン/d、1の陽極特電気量で電解粗
面化を行った。ひきつづき30%の硫酸水溶液中に浸漬
し1.t、t’Cで2分間ディスマット処理した後、7
%硫酸水溶液中で厚さが2.797mになるよう隣接酸
化処理を行った。
Etching by immersing in 70% sodium hydroxide at 70°C for 60 seconds, washing with running water, neutralization washing with 1.20% nitric acid aqueous solution, and washing with water, followed by electrochemistry as described in JP-A-33-1.7307. surface roughening treatment, i.e. VA=/J, 7V,
VC=9. Electrolytic surface roughening was carried out using a sinusoidal alternating current of /V in a /% nitric acid aqueous solution with an anode special electricity amount of /20 coulomb/d, 1. Continued immersion in 30% sulfuric acid aqueous solution 1. After dismuting for 2 minutes at t and t'C, 7
% sulfuric acid aqueous solution to a thickness of 2.797 m.

以上のようにして得られた基板に、以下の感光性組成物
を乾燥重重が/、!;t/rrjになるよう塗布乾燥し
た。
The following photosensitive composition was applied to the substrate obtained in the above manner under dry conditions. ; It was coated and dried so that it became t/rrj.

アセトンとピロガロールの縮合 重合により得られるポリヒドロ キシフェニルのスージアゾー/ −ナフトールー3−スルホン酸 エステル(米国特許第 3乙3左709号明細刊中記載 の化合物) ′70重量部 p−フェニレンジアクリル酸エ ステルとlクージヒドロキシエ チルオキシシクロヘキサノンと の/:/沖縮合ポリエステル 3.θNN郡部メチルセ
ロソルブアセテ−/20’TiC責部メチルエチルケト
ン 60重量部 次に実施例/と同様にシランカッシリング剤、ひきつづ
きシリコーンゴム層を塗布し、湿し水不要感光性平版印
刷原版を得た。これにネガフィルムを密着させ、実施例
/記載のプリンターで30カウン)AN光した後、エタ
ノールを含ませた現像パッドで現像処理を行った。得ら
れた水なし平版をさらにS分間上記プリンターのガう・
ス面上で曝光した。このプレートをエタノール溶液で処
理したがまったく変化を受けず、十分定着されているこ
とが確認された。
Sudiazo/-naphthol-3-sulfonic acid ester of polyhydroxyphenyl obtained by condensation polymerization of acetone and pyrogallol (compound described in the specification of U.S. Pat. No. 3, No. 3, No. 709) '70 parts by weight p-phenylene diacrylic acid ester /:/Oki condensation polyester of and l Kudihydroxyethyloxycyclohexanone 3. 60 parts by weight of θNN methyl cellosolve acetate/20' TiC methyl ethyl ketone Next, a silane cassilling agent and a silicone rubber layer were applied in the same manner as in Example to obtain a photosensitive lithographic printing original plate that did not require dampening water. A negative film was brought into close contact with the film, and after 30 counts of AN light was applied to the film using the printer described in Examples/Description, development was performed using a development pad impregnated with ethanol. The obtained waterless lithographic plate was further heated in the above printer for S minutes.
It was exposed to light on the surface. This plate was treated with an ethanol solution, but no change occurred, confirming that it was sufficiently fixed.

比較例 特公昭タム−Ω乙0/ユ号公報の実施例/(光硬化性組
成物/オルトキノンジアジド化合物=/10.3)に記
載された感光性平版印刷版に、実施例/と同様にシラン
カップリング剤、ひきつづきシリコーンゴム層を塗設し
、湿し水不要感光性平版印刷原版を得た。これにネガフ
ィルムを密着させ、実施例/記載のプリンターで30カ
ウント露光した後、エタノールを含ませた現像パッドで
現像処理を行った。しかし期待する画像は得られず、光
硬化性組成物の硬化により、ネガフィルムの画像部がシ
リコーンゴム層を保持した非画像部となった、反転した
ような刷版しか得られなかった0 手続補1E書 1、事件の表示 昭和58年特許廟第242896号2
、発明の名称 湿し水不要感光性平版印刷版3、補止を
する省 事件との関係 出願人 名 称 (520)冨士写真フィルム株式会社4、代理
人 5、補正命令の日付 自 発 弓 明細書第4頁7行の“蛍光燈を感光し”を1−蛍光燈よ
り感光し」と1正する。
Comparative Example The photosensitive lithographic printing plate described in Example/(Photocurable composition/orthoquinonediazide compound=/10.3) of Publication of Special Publication SHOTAM-ΩOtsu0/U was treated in the same manner as in Example/. A silane coupling agent and a silicone rubber layer were subsequently applied to obtain a photosensitive lithographic printing original plate that did not require dampening water. A negative film was attached to this, and after exposure was performed for 30 counts using the printer described in Examples/Description, development was performed using a development pad impregnated with ethanol. However, the expected image could not be obtained, and due to the curing of the photocurable composition, only an inverted printing plate was obtained, with the image area of the negative film becoming a non-image area that retained the silicone rubber layer.0 Procedure Appendix 1E Book 1, Indication of the Case 1981 Patent Temple No. 242896 2
, Title of the invention: Photosensitive lithographic printing plate that does not require dampening water 3, Relationship with the Ministry case requiring amendment: Name of applicant: (520) Fuji Photo Film Co., Ltd. 4, Agent: 5, Date of amendment order: Self Filing specification On page 4, line 7, ``exposed to fluorescent light'' was corrected by 1 to ``1-exposed to light from fluorescent light''.

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)支持体上に、オルトキノンジアジド化合物と光硬
化性化合物または組成物を含む感光層、およびシリコー
ンゴム層をこの順に塗設してなる湿し水不要感光性平版
印刷版。
(1) A photosensitive lithographic printing plate that does not require dampening water and is prepared by coating a support with a photosensitive layer containing an orthoquinonediazide compound, a photocurable compound or composition, and a silicone rubber layer in this order.
(2)光硬化性化合物または組成物が光二郡″化型感光
性樹脂である特許請求の範囲第1項記載の瀞し水不要感
光性平版印刷版。
(2) The photosensitive lithographic printing plate that does not require washing water according to claim 1, wherein the photocurable compound or composition is a photosensitive resin.
(3)光硬化性化合物または組成物の含有用が、オルト
キノンジアジド化合物の含有分−より少いことを特徴と
する特許請求の範囲鋲/項または第、2項記載の湿し水
不要感光性XF版印刷版。
(3) Fountain water-free photosensitivity according to claim 1 or 2, characterized in that the content of the photocurable compound or composition is less than the content of the orthoquinone diazide compound. XF version printing version.
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS63213849A (en) * 1987-03-02 1988-09-06 Toray Ind Inc Original plate for waterless planographic printing plate
JPH01158451A (en) * 1987-09-25 1989-06-21 Toray Ind Inc Production of waterless planographic printing plate
JPH03228054A (en) * 1990-02-02 1991-10-09 Konica Corp Developer for waterless photosensitive planographic printing plate

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