JPS63213849A - Original plate for waterless planographic printing plate - Google Patents

Original plate for waterless planographic printing plate

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JPS63213849A
JPS63213849A JP4731787A JP4731787A JPS63213849A JP S63213849 A JPS63213849 A JP S63213849A JP 4731787 A JP4731787 A JP 4731787A JP 4731787 A JP4731787 A JP 4731787A JP S63213849 A JPS63213849 A JP S63213849A
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acrylic acid
photosensitive layer
group
copolymer
printing
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磯野 正直
Masaharu Taniguchi
雅治 谷口
Yoichi Mori
森 与一
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    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/022Quinonediazides
    • G03F7/023Macromolecular quinonediazides; Macromolecular additives, e.g. binders

Abstract

PURPOSE:To improve the printing resistance of a printing plate by forming a photosensitive layer mainly of an acrylic acid deriv. copolymer having a quinone diazide group and hydroxyl group. CONSTITUTION:The acrylic acid deriv. copolymer having the quinone diazide group and hydroxyl group contains the acrylic acid deriv. monomer (A) having at least >=1 either or both of alcoholic hydroxyl group or phenolic hydroxyl group in the R2 part of the formula I. Said copolymer is the copolymer of the acrylic acid deriv which contains further the acrylic acid deriv. monomer (B) having the quinone diazide group in the part of R2 and in which the total of the monomer components (A) and (B) is 50-100mol.%. In the formula I, R1 is H or alkyl group of 1-10C; X1 is -O- or -NR3- (where R3 is H, alkyl group of 1-10C, or the same as R2); R4 is H or -COX1R2. The resilience of the photosensitive layer is thereby improved and the printing resistance of the printing plate is improved.

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は、湿し水なしに印刷が可能な水なし平版印刷用
原版に関するものでおり、特に耐刷力に浸れた水なし平
版印刷用の原版に関するものである。
Detailed Description of the Invention [Industrial Application Field] The present invention relates to a waterless lithographic printing original plate that can be printed without dampening water, and particularly to a waterless lithographic printing original plate that has excellent printing durability. It concerns the original version of .

[従来の技術] 水なし平版印刷とは、画線部と非画線部とを基本的にほ
ぼ同一平面に存在させ、画線部をインキ受容性、非画線
部をインキ反撥性とし、インキの付着性の差異を利用し
て、画線部のみにインキを着肉させた後、紙などの被印
刷体にインキを転写して印刷をする平版印刷方法におい
て、非画線部がシリコーンゴム、含フツ素化合物などの
インキ反撥性を有する物質層からなり、湿し水を用いず
に印刷可能であるような印刷方法を意味する。
[Prior Art] Waterless lithographic printing is basically a method in which a printed area and a non-printed area are made to exist on almost the same plane, with the printed area made to be ink-receptive and the non-printed part to be ink-repellent. In the lithographic printing method, which takes advantage of the difference in ink adhesion to apply ink only to the image area and then transfers the ink to a printing medium such as paper, the non-image area is made of silicone. Refers to a printing method that consists of a layer of a material that is ink repellent, such as rubber or a fluorine-containing compound, and allows printing without using dampening water.

ところで、この水なし平版印刷版として実用上すぐれた
性能を有しているものとしては、インキ反撥性を有して
いる物質層としてシリコーンゴム層を利用したもの、例
えば、ポジティブワーキング用としては、特公昭54−
26923などが、またネガティブワーキング用として
は、特開昭55−59466や特開昭56−80046
などがある。特に特開昭56−80046はネガティブ
ワーキング用として実用性の高い性能を有した版材構成
について述べたものと言える。ここに提案された印刷版
は、支持体に裏打ちされた光剥離性感光層の上にシリコ
ーンゴム層を設けた予備増感された平版印刷版であり、
該感光層としてナフトキノン−1,2−ジアジド−5−
スルホン酸クロライドとフェノールノボラック樹脂の部
分エステル化合物を多官能イソシアネートで架橋したも
のなどが開示されている。
By the way, waterless lithographic printing plates that have excellent practical performance include those that utilize a silicone rubber layer as an ink-repellent material layer, for example, for positive working, Special Public Service 1977-
26923, and for negative working, JP-A-55-59466 and JP-A-56-80046.
and so on. In particular, Japanese Patent Application Laid-Open No. 56-80046 can be said to describe a plate construction having high practical performance for negative working. The printing plate proposed here is a presensitized lithographic printing plate in which a silicone rubber layer is provided on a photoreleasable photosensitive layer backed by a support,
As the photosensitive layer, naphthoquinone-1,2-diazide-5-
A compound in which a partial ester compound of sulfonic acid chloride and a phenol novolac resin is crosslinked with a polyfunctional isocyanate has been disclosed.

これらの従来技術による水なし平版印刷版には、次のよ
うな問題点があった。すなわち、感光層が比較的もろく
硬いため、印刷時に版面に加わる応力により損傷しやす
く、印刷枚数が増えるとともに非画線部のシリコーンゴ
ム層下の感光層の損傷がシリコーンゴム層にまで拡大し
てしまう。その結果、このシコーンゴム層の局部的な脱
落などが発生し、本来、非画線部でおるべき部分にイン
キが付着するようになり、印刷物の汚れとなるなどの印
刷品質の低下をもたらす欠点があった。これらは主とし
て印刷版の耐刷力の不足による。
These conventional waterless planographic printing plates have the following problems. In other words, since the photosensitive layer is relatively brittle and hard, it is easily damaged by the stress applied to the plate surface during printing, and as the number of sheets printed increases, damage to the photosensitive layer under the silicone rubber layer in the non-image area spreads to the silicone rubber layer. Put it away. As a result, the silicone rubber layer may fall off locally, causing ink to adhere to areas that should normally be non-printing areas, resulting in poor printing quality such as staining of printed matter. there were. These are mainly due to the lack of printing durability of the printing plate.

[発明が解決しようとする問題点] 本発明者らは、上述の問題点を解決すべく鋭意検討した
結果、キノンジアジド基および水酸基を有するアクリル
酸誘導体共重合体を感光層の主成分として用いることに
より、画像再現性に優れ、かつ耐刷性に優れたネガティ
ブワーキング用水なし平版印刷版用原版が得られること
を見出し本発明に到達したものである。
[Problems to be Solved by the Invention] As a result of intensive studies to solve the above-mentioned problems, the present inventors have found that an acrylic acid derivative copolymer having a quinonediazide group and a hydroxyl group can be used as the main component of the photosensitive layer. The inventors discovered that a waterless lithographic printing plate precursor for negative working, which has excellent image reproducibility and excellent printing durability, can be obtained by the method, and the present invention was achieved based on this finding.

[問題点を解決するための手段] すなわち本発明は、基板上に感光層およびインキ反溌性
層を順次積層してなる水なし平版印刷用原版において、
該感光層がキノンジアジド基および水酸基を有するアク
リル酸誘導体共重合体から主としてなることを特徴とす
る水なし平版印刷用原版に関するものである。
[Means for Solving the Problems] That is, the present invention provides a waterless lithographic printing original plate in which a photosensitive layer and an ink repellent layer are successively laminated on a substrate,
The present invention relates to a waterless lithographic printing original plate characterized in that the photosensitive layer is mainly composed of an acrylic acid derivative copolymer having a quinone diazide group and a hydroxyl group.

本発明で用いられるキノンジアジド基および水酸基を有
するアクリル酸誘導体共重合体とは、下記一般式(I)
のR2部分にアルコール性水酸基、フェノール性水酸基
のいずれか一方もしくは両方を少なくとも一個以上有す
るアクリル酸誘導体単量体(A)とR2の部分にキノン
ジアジド基を有するアクリル酸誘導体単量体(B)の両
者を構成成分として含有し、かつ、上記(A)と(B)
の単量体成分の合計が50〜100モル%であるアクリ
ルrti誘導体の共重合体を意味する。
The acrylic acid derivative copolymer having a quinonediazide group and a hydroxyl group used in the present invention is represented by the following general formula (I).
An acrylic acid derivative monomer (A) having at least one alcoholic hydroxyl group, a phenolic hydroxyl group, or both in the R2 part and an acrylic acid derivative monomer (B) having a quinonediazide group in the R2 part. Contains both as constituent components, and the above (A) and (B)
means a copolymer of an acrylic rti derivative in which the total amount of monomer components is 50 to 100 mol %.

ただし、シリコーンゴム層との接着性や、画像再現性を
損わないためには該共重合体中の(A>、(8)単量体
成分がともに10モル%以上存在することが好ましい。
However, in order not to impair the adhesion with the silicone rubber layer or the image reproducibility, it is preferable that the monomer components (A> and (8)) in the copolymer are both present in an amount of 10 mol % or more.

R1はHlまたは炭素数1〜1oのアルキル基X1は一
〇−1または−NR3−(ここでR3はH1炭素r&1
〜1oのアルキル基、またはR2と同一) R4はHlまたは一〇〇XI R2をそれぞれ意味する
R1 is Hl or an alkyl group having 1 to 1 carbon atoms.
~1o alkyl group, or same as R2) R4 means Hl or 100XI R2, respectively.

R2の部分にアルコール性水酸基、フェノール性水酸基
のいずれか一方もしくは両方を少なくとも1個以上有す
るアクリル酸誘導体単量体(A>としては、原料の入手
のしやすさや、合成の容易さ、また得られる共重合体の
柔軟性の観点から、下記の(1)から(5)の中から好
ましく選ぶことができる。また、これらの単量体の2種
類以上を混合してもよい。
An acrylic acid derivative monomer having at least one alcoholic hydroxyl group, phenolic hydroxyl group, or both in the R2 portion (A> is determined by the availability of raw materials, ease of synthesis, and From the viewpoint of the flexibility of the resulting copolymer, monomers can be preferably selected from the following (1) to (5).In addition, two or more of these monomers may be mixed.

(1)R2が、少なくとも1m以上の水酸基を有する炭
素数2〜30のアルキル基であるアクリル酸誘導体単量
体 例えば、2−ヒドロキシエチルアクリレート、または2
−ヒドロキシエチルメタアクリレート(Lu下両者を2
−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレートと略記する。
(1) An acrylic acid derivative monomer in which R2 is an alkyl group having 2 to 30 carbon atoms and having at least 1 m of hydroxyl groups, such as 2-hydroxyethyl acrylate or 2
-Hydroxyethyl methacrylate (both under Lu
-Abbreviated as hydroxyethyl (meth)acrylate.

また以下の説明でΔ△(メタ)○○の記載は、全てΔΔ
○○とΔΔメタ○○の両者を略記したものである。)、
4−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、2,3−
ジヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、トリメチ
ロールプロパン七ノ(メタ)アクリレート、2−ヒドロ
キシエチル(メタ)アクリルアミド、ジ(2−ヒドロキ
シエチル)マレエートなどが必る。
Also, in the following explanation, all descriptions of Δ△(meta)○○ are ΔΔ
This is an abbreviation for both ○○ and ΔΔmeta○○. ),
4-hydroxybutyl (meth)acrylate, 2,3-
Dihydroxypropyl (meth)acrylate, trimethylolpropane 7-(meth)acrylate, 2-hydroxyethyl (meth)acrylamide, di(2-hydroxyethyl)maleate, etc. are required.

(2)R2が下記の一般式(II)であるアクリル酸誘
導体単最体 R5は水素またはメチル基を示す。nは1〜10o、o
oo 、例えば、トリエチレングリコールモノ(メタ)
アクリレート、テトラエチレングリコールモノ(メタ)
アクリレートや、各種の重合度のポリエチレングリコー
ルモノ(メタ)アクリレート、ポリプロピレングリコー
ルモノ(メタ)アクリレートなどがある。
(2) An acrylic acid derivative monomer R5 in which R2 is represented by the following general formula (II) represents hydrogen or a methyl group. n is 1 to 10o, o
oo, e.g. triethylene glycol mono(meth)
Acrylate, tetraethylene glycol mono(meth)
Examples include acrylate, polyethylene glycol mono(meth)acrylate, and polypropylene glycol mono(meth)acrylate with various degrees of polymerization.

(3)R2が下記一般式(III)により表わされ水酸
基の置換位置としては、オルト、メタ、パラのいずれで
もよく、また、水酸基の数は1〜5個のいずれでもよい
。ざらに芳香核の他の置換位置には水素または炭素数1
〜30のアルキル基、アルケニル基、炭素数6〜30の
アリール基、ハロゲン、ニトロ基、アルコキシ基、カル
ボキシル基、アルコキシカルボニル基、アミノ基、シア
ノ基、クロロメチル基などが置換されてもよい。また、
これらの置換基は構造の中に他の適当な置換基を有して
いてもよく、エステル、エーテル、アミド結合などを有
していてもよい。
(3) R2 is represented by the following general formula (III), and the substitution position of the hydroxyl group may be ortho, meta, or para, and the number of hydroxyl groups may be any one from 1 to 5. In other substitution positions of the aromatic nucleus, hydrogen or carbon number 1
-30 alkyl groups, alkenyl groups, aryl groups having 6 to 30 carbon atoms, halogens, nitro groups, alkoxy groups, carboxyl groups, alkoxycarbonyl groups, amino groups, cyano groups, chloromethyl groups, etc. may be substituted. Also,
These substituents may have other suitable substituents in their structures, and may have ester, ether, or amide bonds.

×2は炭素数O〜10のアルキレン基、アルケニレン基
、 −C−Y−Re−X1−1 〇 −Y−C−R6−XI−1−Y−Re−X1を示し、こ
れらは水酸基などの他の適当な置換基を有していてもよ
い。
×2 represents an alkylene group having 0 to 10 carbon atoms, an alkenylene group, -C-Y-Re-X1-1 〇-Y-C-R6-XI-1-Y-Re-X1, and these are hydroxyl groups, etc. It may also have other suitable substituents.

ここでYは一〇−または−NR7−で、R6は炭素数1
〜10のアルキレン基、R7はHまたは炭素数1〜10
のアルキル基を意味する。
Here, Y is 10- or -NR7-, and R6 has 1 carbon number.
-10 alkylene group, R7 is H or carbon number 1-10
means an alkyl group.

このような化合物としては、例えば次式(IV)に示す
、p−ヒドロキシ安息香酸とグリシジルメタアクリレー
トとの開環反応生成物や、次式(V’)に示す、サリチ
ル酸と2−ヒドロキシエチルメタアクリレートとの反応
物などがある。
Examples of such compounds include the ring-opening reaction product of p-hydroxybenzoic acid and glycidyl methacrylate shown in the following formula (IV), and the ring-opening reaction product of p-hydroxybenzoic acid and glycidyl methacrylate shown in the following formula (V'), and the product of salicylic acid and 2-hydroxyethyl methacrylate shown in the following formula (V'). There are also reactants with acrylates.

CH3 CH2=C C=O ト(0−CH CH2 CH3 CH2=C CH2(V) CH2 (4)上記の(1)、(2〉に記載されたR2の水酸基
を利用した炭素数6〜30のヒドロキシアリール基を有
するアルキルエステル、グリコールエステル結合を有す
るアクリル酸誘導体単信体例えば、次式(VI)に示す
、2−ヒドロキシエチルメタアリレートとp−ヒドロキ
シ安息香酸との反応物、次式(■)に示す、ジエチレン
グリコールモノメタアクリレートとp−ヒドロキシ安息
香酸との反応物などである。
CH3 CH2=CC An alkyl ester having a hydroxyaryl group, an acrylic acid derivative monomer having a glycol ester bond, for example, a reaction product of 2-hydroxyethyl metaarylate and p-hydroxybenzoic acid shown in the following formula (VI), a reaction product of the following formula (■ ), such as a reaction product of diethylene glycol monomethacrylate and p-hydroxybenzoic acid.

CH3 CH2 CH2 CH2 CH2(■) (5)上述した(3)に記載されたR2の水酸基もしく
は伯の適当な反応性の高い置換基(カルボキシル基など
)を利用した炭素数1〜30のヒドロキシアルキルエス
テル、または各種の重合度のポリエチレングリコールモ
ノエステル、ポリプロピレングリコールエステル基を有
するアクリル酸誘導体単口体 例えば、2−ヒドロキシエチルメタアクリレートとサリ
チル酸との反応物のフェノール性水酸基にざらにグリコ
ール酸を反応させたもの(次式4式% R2の部分にキノンジアジド基を有するアクリル酸誘導
体単口体(B)とは、分子内に1.2−キノンジアジド
あるいは、1,2−ナフトキノンジアジド構造を有する
化合物(通常よく用いられるのは、スルホンrli誘導
体、例えばオルトキノンジアジドスルホン酸またはその
誘導体)と上記の一般式(I)の水酸基、アミン基をも
つアクリル酸誘導体単量体との反応で得られるエステル
あるいはアミド化合物を意味する。
CH3 CH2 CH2 CH2 CH2 (■) (5) Hydroxyalkyl having 1 to 30 carbon atoms using the hydroxyl group of R2 described in (3) above or a suitable highly reactive substituent (carboxyl group, etc.) Ester, polyethylene glycol monoester of various degrees of polymerization, acrylic acid derivative monomer having polypropylene glycol ester groups, for example, roughly reacting glycolic acid with the phenolic hydroxyl group of the reaction product of 2-hydroxyethyl methacrylate and salicylic acid. The acrylic acid derivative monomer (B) having a quinonediazide group in the R2 moiety is a compound having a 1,2-quinonediazide or 1,2-naphthoquinonediazide structure in the molecule ( Usually, esters or amides obtained by the reaction of sulfone rli derivatives (for example, orthoquinonediazide sulfonic acid or its derivatives) with the above-mentioned acrylic acid derivative monomer having a hydroxyl group or an amine group of general formula (I) are commonly used. means a compound.

また、キノンジアジド基を導入する方法としては、 (A)アクリル酸誘導体単量体(A)と(B>とを共重
合する方法 (B)アクリル1誘導体単量体(A>の重合体に上記し
たキノンジアジド構造を有する化合物をグラフト反応し
て、結果として(B)成分を形成する方法 があり、いずれの方法によっても本発明の効果を充分に
発現しうる感光層を得ることができる。
In addition, as a method for introducing a quinone diazide group, (A) a method of copolymerizing acrylic acid derivative monomer (A) and (B>), (B) a method of copolymerizing the acrylic acid derivative monomer (A>) into the polymer of acrylic acid derivative monomer (A>). There is a method of grafting a compound having a quinonediazide structure to form component (B) as a result, and either method can provide a photosensitive layer that can fully exhibit the effects of the present invention.

また、上記(A)と(B)の単量体成分以外の単量体成
分としては上記(A>、(B)と共重合し得るものであ
れば、基本的には制限を受けない。
In addition, monomer components other than the above monomer components (A) and (B) are basically not limited as long as they can be copolymerized with the above (A>, (B)).

例えば、スチレン、メチル(メタ)アクリレート、n−
ブチル(メタ)アクリレートなどの各種のアクリル酸誘
導体、アルリロニトリル、酢酸ビニルなどがあるが、本
発明の目的である耐刷力向上の点から、柔軟性を増すよ
うな構造を有するものであることが好ましく、例えば、
ラウリル(メタ)アクリレート、2−エチルヘキシル(
メタ)アクリレートなどが好ましく用いられる。
For example, styrene, methyl (meth)acrylate, n-
There are various acrylic acid derivatives such as butyl (meth)acrylate, allylonitrile, vinyl acetate, etc., but from the viewpoint of improving printing durability, which is the objective of the present invention, they have a structure that increases flexibility. Preferably, for example,
Lauryl (meth)acrylate, 2-ethylhexyl (
Meth)acrylate and the like are preferably used.

本発明で用いられるキノンジアジド基および水酸基を有
するアクリル酸誘導体共重合体の重合度は10〜100
.000のものが好ましく用いられる。
The degree of polymerization of the acrylic acid derivative copolymer having a quinonediazide group and a hydroxyl group used in the present invention is 10 to 100.
.. 000 is preferably used.

また、本発明に適用しつる感光層としては、上記したア
クリルH導体共重合体を、多官能化合物で架橋せしめる
、あるいは、単官能化合物、例えば単官能イソシアネー
トなどと結合させるなどして変性した構造を有するもの
も含まれる。上記の架橋構造を導入させるために用いら
れる化合物としては、多官能イソシアナート類、例えば
パラフェニレンジイソシアナート1.4,4−−ジフェ
ニルメタンジイソシアナート、ヘキサメチレンジイソシ
アナート、イソホロンジイソシアナートもしくはこれら
のアダクト体など、あるいは、多官能エポキシ化合物、
例えば、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル
類、ポリプロピレングリコールジグリシジルエーテル類
、ごスフエノールAジグリシジルエーテル、トリメチロ
ールプロパントリグリシジルエーテルなどがある。これ
らの架橋反応は、加熱することにより進行するがこの加
熱範囲は、キノンジアジド基の熱分解を急速に進行ざぜ
ないためには、通常150°C以下で行なう必要がおり
、一般には触媒などが併用される。また、変性せしめる
方法としては、該感光性化合物の活性な基を、例えば、
エステル化、アミド化、ウレタン化することなどが挙げ
られる。該感光性化合物の活性な基と反応させる化合物
としては、低分子であっても比較的高分子であってもよ
いし、該感光性化合物にモノマーをグラフト重合させる
などの方法でもよい。
Furthermore, the vine photosensitive layer applicable to the present invention has a structure obtained by modifying the above-mentioned acrylic H conductor copolymer by crosslinking it with a polyfunctional compound or bonding it with a monofunctional compound such as a monofunctional isocyanate. This also includes those with. Examples of the compound used to introduce the above-mentioned crosslinked structure include polyfunctional isocyanates such as paraphenylene diisocyanate, 1,4,4-diphenylmethane diisocyanate, hexamethylene diisocyanate, isophorone diisocyanate, These adducts, or polyfunctional epoxy compounds,
Examples include polyethylene glycol diglycidyl ethers, polypropylene glycol diglycidyl ethers, sphenol A diglycidyl ether, and trimethylolpropane triglycidyl ether. These crosslinking reactions proceed by heating, but this heating range usually needs to be carried out at 150°C or below in order to prevent rapid thermal decomposition of the quinone diazide group, and generally a catalyst etc. is used in combination. be done. In addition, as a method for modifying the photosensitive compound, for example, the active group of the photosensitive compound can be modified by
Examples include esterification, amidation, and urethanization. The compound to be reacted with the active group of the photosensitive compound may be a low-molecular compound or a relatively high-molecular compound, and a method such as graft polymerization of a monomer to the photosensitive compound may be used.

本発明で用いられる感光層の厚さは、約0.1〜100
ミクロン、好ましくは約0.5〜10ミクロンが適当で
ある。
The thickness of the photosensitive layer used in the present invention is about 0.1 to 100
Microns, preferably about 0.5 to 10 microns, are suitable.

また、本発明で用いられる感光層中には、本発明の効果
を損なわない範囲で、塗膜形成性向上や、支持体との接
着性向上などの目的で、上記以外の成分、例えばポリウ
レタンなどの樹脂や公知のナフトキノンシト化合物など
を加えてもよい。
In addition, the photosensitive layer used in the present invention may contain components other than those mentioned above, such as polyurethane, for the purpose of improving coating film formation and adhesion to the support, to the extent that the effects of the present invention are not impaired. resin or a known naphthoquinone site compound may be added.

ただし、本発明の効果を損なわないためには1、  感
光層中の該アクリル酸誘導体共重合体は重量分率で50
%以上であることが好ましく、より好ましくは70%以
上である。
However, in order not to impair the effects of the present invention, the weight fraction of the acrylic acid derivative copolymer in the photosensitive layer must be 50
% or more, more preferably 70% or more.

すなわち、該アクリル酸誘導体共重合体以外の樹脂や公
知のキノンジアジド化合物などは感光層中に重量分率で
50%未満であることが好ましい。
That is, it is preferable that the weight fraction of resins other than the acrylic acid derivative copolymer and known quinonediazide compounds is less than 50% in the photosensitive layer.

より好ましくは30%未満である。More preferably it is less than 30%.

また現像時あるいは、露光時に像を可視化するために染
料などを加えたりすることも可能である。
It is also possible to add a dye or the like to make the image visible during development or exposure.

本発明に用いられるインキ反撥性層としては、シリコー
ンゴム、含フツ素化合物(例えば分子中にフッ素を有す
るゴムなど)が挙げられるが、特にシリコーンゴムが好
ましく用いられる。このようなシリコーンゴム層は、線
状ポリジオルガノシロキサンに、必要に応じて架橋剤お
よび触媒を添加したシリコーンガム組成物を適当な溶媒
で希釈したものを、該感光層上に塗布し、加熱乾燥し硬
化させることにより形成される。ここで言う線状ポリジ
オルガノシロキサンは、下記の一般式で示されるような
繰り返し単位を有するポリマーで、RおよびR−は炭素
数1〜10のアルキル基、アルケニル基、炭素数6〜1
0のアリール基であり、それらは他の適当な置換基を有
していてもよい。
Examples of the ink-repellent layer used in the present invention include silicone rubber and fluorine-containing compounds (for example, rubbers containing fluorine in the molecule), and silicone rubber is particularly preferably used. Such a silicone rubber layer is prepared by applying a silicone gum composition prepared by adding a crosslinking agent and a catalyst to a linear polydiorganosiloxane and diluting it with an appropriate solvent onto the photosensitive layer, and drying it by heating. It is formed by hardening. The linear polydiorganosiloxane mentioned here is a polymer having a repeating unit as shown by the general formula below, where R and R- are an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, an alkenyl group, or an alkenyl group having 6 to 1 carbon atoms.
0 aryl groups, which may have other suitable substituents.

またポリマー主鎖にそって、繰り返し単位が異なってい
てもよい。一般的には、RおよびR−の60%以上がメ
チル基であり、40%以下がビニル基、フェニル基、あ
るいはハロゲン化フェニル基などであるものが好ましい
Also, the repeating units may be different along the polymer main chain. Generally, it is preferable that 60% or more of R and R- are methyl groups, and 40% or less are vinyl groups, phenyl groups, or halogenated phenyl groups.

このような線状ポリジオルガノシロキサンは、例えば有
機過酸化物の添加などにより強固に架橋させることがで
きるが、本発明の目的を有利に達成するには縮合型の架
橋を行なわせるのが好ましい。なかでも、両末端が水酸
基の線状ポリジオシカ/シロキサン(Ik平均分子15
,000〜1,000,000)に、縮合型の架橋剤、
またはその縮合物を添加して縮合架橋せしめるようにす
るのが有利である。ここで述べた縮合型の架橋剤として
は次の一般式で示されるようなものが好ましい。
Such a linear polydiorganosiloxane can be strongly crosslinked, for example, by adding an organic peroxide, but in order to advantageously achieve the object of the present invention, it is preferable to carry out condensation type crosslinking. Among them, linear polydiosica/siloxane with hydroxyl groups at both ends (Ik average molecular 15
,000 to 1,000,000), a condensed crosslinking agent,
It is advantageous to add condensates or condensates thereof to effect condensation crosslinking. As the condensation type crosslinking agent mentioned here, those represented by the following general formula are preferred.

Rm−3i−Xn (m+n=4、nは2以上の整数) ここでRは先に説明したRと同じ意味であり、Xは次に
示すような置換基である。
Rm-3i-Xn (m+n=4, n is an integer of 2 or more) Here, R has the same meaning as R described above, and X is a substituent as shown below.

■ CI、Br、■などのハロゲン ■ HまたはOH,0COR1、OR2、などの有機置
換基。
■ Halogen such as CI, Br, ■ ■ Organic substituents such as H or OH, 0COR1, OR2, etc.

ここでR1、R2、R3、R4、R5、R6は炭素数1
〜10のアルキル基または置換アルキ基またはフェニル
基、または置換フェニル基を示す。
Here, R1, R2, R3, R4, R5, R6 have 1 carbon number
~10 alkyl groups, substituted alkyl groups, phenyl groups, or substituted phenyl groups.

R7は炭素数3〜10の置換または非置換のアルキレン
基を示す。このような縮合型の架橋を行なうシリコーン
ガム組成物には反応促進の目的で、錫、亜鉛、カルシウ
ム、マンガンなどの金属の有機カルボン酸塩、例えばラ
ウリン酸ジブチルスズ、オクチル酸鉛、ナフテン酸鉛な
と、あるいは塩化白金酸のような触媒を添加してもよい
R7 represents a substituted or unsubstituted alkylene group having 3 to 10 carbon atoms. Silicone gum compositions that undergo such condensation-type crosslinking contain organic carboxylates of metals such as tin, zinc, calcium, and manganese, such as dibutyltin laurate, lead octylate, and lead naphthenate, for the purpose of accelerating the reaction. or a catalyst such as chloroplatinic acid may be added.

本発明において用いられるシリコーンガム組成物の好ま
しい組成比は次のようなものである。
The preferred composition ratio of the silicone gum composition used in the present invention is as follows.

■線状ポリジオルガノシロキサン (数平均分子量5,000〜i、ooo、ooo)10
0重量部 ■縮合型架橋剤      3〜70重量部■置部  
        0〜10重量部上記のシリコーンガム
組成物の溶媒としては、パラフィン系炭化水素、イソパ
ラフィン系炭化水素、シクロパラフィン系炭化水素およ
び芳香族炭化水素、さらには、これらの混合物などが有
利に用いられる。このような炭化水素類の代表的な例と
しては、石油の分留品およびその改質品などがある。
■Linear polydiorganosiloxane (number average molecular weight 5,000 to i, ooo, ooo) 10
0 parts by weight ■ Condensation type crosslinking agent 3 to 70 parts by weight ■ Placement part
0 to 10 parts by weight As the solvent for the above silicone gum composition, paraffinic hydrocarbons, isoparaffinic hydrocarbons, cycloparaffinic hydrocarbons, aromatic hydrocarbons, and mixtures thereof are advantageously used. Typical examples of such hydrocarbons include fractionated petroleum products and reformed products thereof.

本発明に用いられるシリコーンゴム層の厚さは、耐刷力
およびインキ反撥性をある程度以上に保ち、かつ良好な
現像性を維持する点から、約0.5〜100ミクロン、
より好ましくは約0.5〜10ミクロンがよい。
The thickness of the silicone rubber layer used in the present invention is approximately 0.5 to 100 microns, in order to maintain printing durability and ink repellency above a certain level, and to maintain good developability.
More preferably, it is about 0.5 to 10 microns.

本発明に用いられる水なし平版印刷版において、基板と
感光層、感光層とシリコーンゴム層との間の接着は、画
像再現性や耐刷力などの基本的な版性能にとり、極めて
重要であるので、必要に応じて、各層間に接着剤層を設
けたり、各層に接着改良成分を添加したりすることが可
能である。特に感光層とシリコーンゴム層間の接着のた
めに、層間に公知のシリコーンプライマーやシランカッ
プリング剤層を設けたり、シリコーンゴム層おるいは感
光層にシリコーンブライマーやシランカップリング剤を
添加すると効果的である。
In the waterless planographic printing plate used in the present invention, adhesion between the substrate and the photosensitive layer, and between the photosensitive layer and the silicone rubber layer is extremely important for basic plate performance such as image reproducibility and printing durability. Therefore, if necessary, it is possible to provide an adhesive layer between each layer or add an adhesion improving component to each layer. In particular, for adhesion between the photosensitive layer and the silicone rubber layer, it is effective to provide a known silicone primer or silane coupling agent layer between the layers, or to add a silicone primer or silane coupling agent to the silicone rubber layer or photosensitive layer. It is.

本発明に用いられる平版印刷版の基板としては、通常の
平版印刷機に取り付けられるたわみ性と印刷時に加わる
荷重に耐えうるものでなければならない。代表的なもの
としては、アルミ、銅、鉄などの金属板、ポリエステル
フィルムやポリプロピレンフィルムなどのプラスチック
フィルムあるいはコート紙、ゴムなどが挙げられる。該
基板は、これらが複合されたものであってもよい。また
、これらの基板上にハレーションなどを防止する目的で
、ざらにコーティングなどを施して基板とすることも可
能である。
The substrate of the lithographic printing plate used in the present invention must be flexible enough to be attached to a normal lithographic printing machine and capable of withstanding the load applied during printing. Typical examples include metal plates such as aluminum, copper, and iron, plastic films such as polyester films and polypropylene films, coated paper, and rubber. The substrate may be a composite of these. Further, it is also possible to provide a rough coating or the like on these substrates for the purpose of preventing halation or the like.

以上説明したようにして構成された水なし平版印刷版の
シリコーンゴム層の表面には、本発明の効果を損わない
範囲で、シリコーンゴム層を保護する目的で保護フィル
ムをラミネートすることも可能である。
It is also possible to laminate a protective film on the surface of the silicone rubber layer of the waterless lithographic printing plate constructed as described above for the purpose of protecting the silicone rubber layer within a range that does not impair the effects of the present invention. It is.

以し説明したような構成を持つ水なし平版印刷版は、こ
の分野において一般に用いられるコーチインクの手法に
よって製造される。
A waterless lithographic printing plate having the structure as described below is manufactured by a coach ink method commonly used in this field.

次に水なし平版印刷版の露光現像工程について説明する
。上記の水なし平版印刷版は、例えば真空密着されたネ
ガフィルムを通して通常の光線により露光される。この
露光工程で用いられる光源としては、例えば高圧水銀灯
、カーボンアーク灯、キセノンランプ、メタルハライド
ランプ、螢光灯などがある。このような通常の露光を行
なった後、版面を現像液を含んだ現像用パッドでこする
と、露光部のシリコーンゴム層が除去され、インキ受容
部が露出する。該感光層が架橋されたり、変成されたり
していない場合、該感光層の一部もしくは全部が現像処
理過程において脱落し、現像処理の後、露出した表面が
インキ受容部となる。また、架橋されたり、変成された
りすることにより現像液に対して不溶化させられた感光
層の場合は、実質的にその厚みを減することなく残存し
、その露出した感光層表面がインキ受容部となる。
Next, the exposure and development process of a waterless lithographic printing plate will be explained. The waterless lithographic printing plates described above are exposed to normal light, for example through a vacuum sealed negative film. Examples of light sources used in this exposure step include high-pressure mercury lamps, carbon arc lamps, xenon lamps, metal halide lamps, and fluorescent lamps. After such normal exposure, when the plate surface is rubbed with a developing pad containing a developer, the silicone rubber layer in the exposed area is removed and the ink receiving area is exposed. If the photosensitive layer is not crosslinked or modified, part or all of the photosensitive layer falls off during the development process, and the exposed surface becomes an ink receiving area after the development process. In addition, in the case of a photosensitive layer that has been made insoluble in a developer by crosslinking or denaturation, it remains without substantially reducing its thickness, and the exposed surface of the photosensitive layer becomes an ink receiving area. becomes.

[実施例] 以下に実施例を示す。例中の部数は重量部である。[Example] Examples are shown below. Parts in the examples are parts by weight.

実施例1 住友金属(株)製、化成処理アルミ板(厚さ0゜3mm
>に、下記の感光層組成物を回転塗布し、120℃、2
分間加熱処理して、厚さ3.5ミクロンの感光層を設け
た。
Example 1 Chemically treated aluminum plate (thickness 0°3mm) manufactured by Sumitomo Metals Co., Ltd.
>, the following photosensitive layer composition was spin-coated and heated at 120°C for 2 hours.
A photosensitive layer having a thickness of 3.5 microns was provided by heat treatment for a minute.

■ 2−ヒドロキシエチルメタクリレートと2−エチル
へキシルアクリレートとの共重合体〔組成比:80/2
0(モル比)、重量平均分子量125.000)にナフ
トキノン−1,2−ジアジド−5−スルホン酸クロライ
ドをグラフト反応して合成された部分エステル化物(エ
ステル化度50%)100部 ■ 4,4°−ジフェニルメタンジイソシアナート20
部 ■ ジブチル錫ジラウレート   0.2部■ エチル
セロソルブアセテート 2,000部続いて、この上に
下記の組成のシリコーンガム組成物を回転塗布後、12
0℃、2分で加熱硬化して、厚さ2.5ミクロンのシリ
コーンゴム層を設けた。
■ Copolymer of 2-hydroxyethyl methacrylate and 2-ethylhexyl acrylate [composition ratio: 80/2
100 parts of a partially esterified product (degree of esterification 50%) synthesized by grafting naphthoquinone-1,2-diazide-5-sulfonic acid chloride onto 0 (molar ratio), weight average molecular weight 125.000) 4. 4°-diphenylmethane diisocyanate 20
Part ■ Dibutyltin dilaurate 0.2 parts ■ Ethyl cellosolve acetate 2,000 parts Subsequently, a silicone gum composition having the following composition was spin-coated thereon, and 12 parts of dibutyltin dilaurate were applied.
A silicone rubber layer having a thickness of 2.5 microns was provided by heating and curing at 0° C. for 2 minutes.

■ 両末端OHのポリジメチルシロキサン(分子量: 
20,0OC)>     100部■ ビニルトリス
(メチルエチルケトオキシム)シラン        
      8部■ γ−アミノプロピルトリエトキシ
シラン0.1部 ■ ″アイソパーE″ (エツゾ(株)製)1.800
部 上記のようにして得られた印刷原版に150線/インチ
の網点画像を持つネガフィルムを真空密着し、メタルハ
ライドランプ(アイドルフィン20000.2 kw、
岩崎電気(株)製)を用いて1mの距離から60秒間露
光した。次いで現像液(“アイソパーE″/エタノール
=9/1;重量比)に約1分間浸漬し、現像パッドで軽
くこすると、露光部のシリコーンゴム層のみが除去され
、ネガフィルムの画像を忠実に再現した感光層の露出し
た印刷版が得られた。
■ Polydimethylsiloxane with OH at both ends (molecular weight:
20,0OC) > 100 parts■ Vinyltris(methylethylketoxime)silane
8 parts■ γ-aminopropyltriethoxysilane 0.1 part■ ``Isoper E'' (manufactured by Etsuzo Co., Ltd.) 1.800
A negative film with a halftone image of 150 lines/inch was vacuum-adhered to the original printing plate obtained as described above, and a metal halide lamp (idle fin 20000.2 kW,
(manufactured by Iwasaki Electric Co., Ltd.) for 60 seconds from a distance of 1 m. Next, it is immersed in a developer ("ISOPAR E"/ethanol = 9/1; weight ratio) for about 1 minute, and rubbed lightly with a development pad. Only the silicone rubber layer in the exposed areas is removed, and the image on the negative film is faithfully reproduced. A printing plate with a reproduced exposed photosensitive layer was obtained.

一方、感光層において上記したアクリル酸誘導体共重合
体の代りにエステル化度44%のフェノールノボラック
樹脂(スミライトレジンPR50235、住友デュレス
製)のナフトキノン−1,2−ジアジド−5−スルホン
酸エステル、を使用した以外同様の構成の平版印刷版を
作成し、以下の条件で強制耐刷力試験を行なった。
On the other hand, in the photosensitive layer, instead of the above-mentioned acrylic acid derivative copolymer, naphthoquinone-1,2-diazide-5-sulfonic acid ester of phenol novolak resin (Sumilight Resin PR50235, manufactured by Sumitomo Duress) with a degree of esterification of 44%, A lithographic printing plate having the same configuration except that 1 was used was prepared, and a forced printing durability test was conducted under the following conditions.

印刷条件 印刷機:ハマダスター700  重刷改造機印圧 :ア
ンダーレイ500μ インキ:大阪インキ製 “OPIプロセスUNアイ″ 上記の試験の結果、前者は印刷枚数が約4.000枚で
版面の損傷によるインキ汚れが印刷物に現れたが、後者
は約750枚で汚れが発生し、明らかに印刷版の耐刷力
に差が見られた。アクリル酸誘導体共重合体を感光層と
して用いた版の方が耐刷力が著しく優れていることがわ
かる。
Printing conditions Printing machine: Hamada Star 700 Modified overprinting machine Printing pressure: Underlay 500μ Ink: “OPI Process UN Eye” manufactured by Osaka Ink As a result of the above test, the former printed about 4,000 sheets and the ink was damaged due to damage to the plate surface. Smudges appeared on the printed matter, and the latter appeared after about 750 sheets, clearly showing a difference in the printing durability of the printing plates. It can be seen that the plate using the acrylic acid derivative copolymer as the photosensitive layer has significantly better printing durability.

実施例2 実施例1で記載たれた感光層において上記したアクリル
酸誘導体共重合体の代りに、アクリル酸トリエチレング
リコールモノエステルとラウリルメタクリレートの共重
合体〔組成比ニア5/25(モル比)、@量平均分子量
 9,000 )にナフトキノン−1,2−ジアジド−
5−スルホン酸クロライドをグラフト反応して合成され
た部分エステル化物(エステル化度40%)を使用した
以外同様の構成の平版印刷版を作成し、実施例1と同様
の条件で強制耐刷力試験を行なった。
Example 2 In the photosensitive layer described in Example 1, a copolymer of triethylene glycol acrylate monoester and lauryl methacrylate [composition ratio near 5/25 (molar ratio)] was used instead of the above-mentioned acrylic acid derivative copolymer. , @weight average molecular weight 9,000) and naphthoquinone-1,2-diazide-
A lithographic printing plate having the same structure except that a partially esterified product (degree of esterification: 40%) synthesized by grafting reaction of 5-sulfonic acid chloride was prepared, and the forced printing durability was measured under the same conditions as in Example 1. I conducted a test.

その結果、印刷枚数が約3.750枚で版面の損傷によ
るインキ汚れが印刷物に現れ、比較例1よりも耐刷力が
優れていた。
As a result, ink stains due to damage to the plate surface appeared on the printed matter after approximately 3,750 copies were printed, and the printing durability was superior to that of Comparative Example 1.

実施例3 実施例1で記載された感光層において上記したアクリル
酸誘導体共重合体の代りに、グリシジルメタクリレート
とp−ヒドロキシ安息香酸のグリシジル基の開環付加物
とラウリルメタクリレートの共重合体〔組成比ニア5/
25(モル比)、重量平均分子!  12,700)に
ナフトキノン−1,2−ジアジド−5−スルホン酸クロ
ライドをグラフト反応して合成された部分エステル化物
(エステル化度45%)を使用した以外同様の構成の平
版印刷版を作成し、実施例1と同様の条件で強制耐刷力
試験を行なった。
Example 3 In the photosensitive layer described in Example 1, instead of the acrylic acid derivative copolymer described above, a copolymer of glycidyl methacrylate and a ring-opened adduct of glycidyl groups of p-hydroxybenzoic acid and lauryl methacrylate [composition] Philippines 5/
25 (mole ratio), weight average molecule! A lithographic printing plate having the same structure was prepared except that a partially esterified product (degree of esterification: 45%) synthesized by grafting naphthoquinone-1,2-diazide-5-sulfonic acid chloride onto 12,700) was used. A forced printing durability test was conducted under the same conditions as in Example 1.

その結果、印刷枚数が約3,500枚で版面の@傷によ
るインキ汚れが印刷物に現れ、比較例1よりも耐刷力が
優れていた。
As a result, ink stains due to @ scratches on the plate surface appeared on the printed matter after approximately 3,500 copies were printed, and the printing durability was superior to that of Comparative Example 1.

実施例4 実施例1で記載された感光層において上記したアクリル
r!Ii誘導体共重合体の代りに、グリシジルメタクリ
レートとp−ヒドロキシ安息香酸のグリシジル基の開環
付加物、2−ヒドロキシエチルメタクリレートとナフト
キノン−1,2−ジアジド−5−スルホン酸クロライド
との反応物、2−エチルへキシルアクリレートとの三元
共重合体〔組成比: 50/25/25 (モル比〉、
重量平均分子量14,500)を使用した以外同様の構
成の平版印刷版を作成し、実施例1と同様の条件で強制
耐刷力試験を行なった。
Example 4 In the photosensitive layer described in Example 1, the acrylic r! Instead of the Ii derivative copolymer, a ring-opening adduct of the glycidyl group of glycidyl methacrylate and p-hydroxybenzoic acid, a reaction product of 2-hydroxyethyl methacrylate and naphthoquinone-1,2-diazido-5-sulfonic acid chloride, Ternary copolymer with 2-ethylhexyl acrylate [composition ratio: 50/25/25 (molar ratio),
A lithographic printing plate having the same structure except that a weight average molecular weight of 14,500) was used was prepared, and a forced printing durability test was conducted under the same conditions as in Example 1.

その結果、印刷枚数が約4.000枚で版面の損傷によ
るインキ汚れが印刷物に現われ、比較例1よりも耐刷力
が優れていた。
As a result, ink stains due to damage to the plate surface appeared on the printed matter after approximately 4,000 copies were printed, and the printing durability was superior to that of Comparative Example 1.

実施例5 住友金属(株)製、化成処理アルミ板(厚さ0゜3mm
>に、下記の感光層組成物を回転塗布し、120℃、2
分間加熱処理して、厚さ3.8ミクロンの感光層を設け
た。
Example 5 Chemically treated aluminum plate (thickness 0°3mm) manufactured by Sumitomo Metals Co., Ltd.
>, the following photosensitive layer composition was spin-coated and heated at 120°C for 2 hours.
A photosensitive layer having a thickness of 3.8 microns was provided by heat treatment for a minute.

■ 2−ヒドロキシエチルメタクリレートと2−エチル
へキシルアクリレートとの共重合体〔組成比:80/2
0(モル比)、重量平均分子量125.000)にナフ
トキノン−1,2−ジアジド−5−スルホン酸クロライ
ドをグラフト反応して合成された部分エステル化物(エ
ステル化度50%)100部 ■ ジオキサン       1,500部続いて、こ
の上に下記の組成のシリコーンガム組成物を回転塗布後
、120’C12分で加熱硬化して、厚さ3ミクロンの
シリコーンゴム層を設けた。
■ Copolymer of 2-hydroxyethyl methacrylate and 2-ethylhexyl acrylate [composition ratio: 80/2
0 (molar ratio), weight average molecular weight 125.000) with naphthoquinone-1,2-diazide-5-sulfonic acid chloride (degree of esterification 50%) 100 parts Dioxane 1 Subsequently, a silicone gum composition having the following composition was spin-coated thereon and cured by heating at 120'C for 12 minutes to form a silicone rubber layer with a thickness of 3 microns.

■ 両末端水酸基のポリジメチルシロキサン(分子量:
 80,000)     ’I O0部■ ビニルト
リス(メチルエチルケトオキシム)シラン      
        6部■ ジブチル錫ジアセテート  
 0.2部■ ジ−n−ブトキシビス(アセチルアセト
ナート)チタン             2部上記の
ようにして得られた印刷原版を用いて、実施例1と同様
の露光現像処理を行ない、印刷版とした。
■ Polydimethylsiloxane with hydroxyl groups at both ends (molecular weight:
80,000) 'I O0 parts■ Vinyl tris(methyl ethyl ketoxime) silane
Part 6■ Dibutyltin diacetate
0.2 parts ■ di-n-butoxybis(acetylacetonato) titanium 2 parts Using the printing original plate obtained as above, the same exposure and development treatment as in Example 1 was carried out to prepare a printing plate.

一方、感光層ににおいで上記したアクリル酸誘導体共重
合体の代りにエステル化度44%のフェノールノボラッ
ク樹脂(スミライトレジンPR50235、住友デュレ
ス製)のナフトキノン−1,2−ジアジド−5−スルホ
ン酸エステル、を使用した以外同様の構成の平版印刷版
を作成し、実施例1と同様の条件で強制耐刷力試験を行
なった。その結果、前者は印刷枚数が約2,000枚で
版面の損傷によるインキ汚れが印刷物に現われたが、後
者は約500枚で汚れが発生し、明らかに印刷版の耐刷
力に差が見られた。
On the other hand, naphthoquinone-1,2-diazide-5-sulfonic acid of a phenol novolak resin (Sumilight Resin PR50235, manufactured by Sumitomo Duress) with a degree of esterification of 44% was used instead of the above-mentioned acrylic acid derivative copolymer in the photosensitive layer. A lithographic printing plate having the same structure except that ester was used was prepared, and a forced printing durability test was conducted under the same conditions as in Example 1. As a result, ink stains due to damage to the plate surface appeared on the printed matter after about 2,000 copies were printed in the former case, but stains appeared on the printed matter after about 500 copies were printed in the latter case, and there was clearly a difference in the printing durability of the printing plates. It was done.

[発明の効果] 本発明の水なし平版印刷用原版は、上)小のごとく構成
したので、感光層の柔軟性および可1尭性を向上させる
ことができるため、印刷物の耐刷力を向上させることが
できる。
[Effects of the Invention] Since the waterless lithographic printing original plate of the present invention is configured as shown in the above (a), it is possible to improve the flexibility and fragility of the photosensitive layer, thereby improving the printing durability of printed matter. can be done.

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 基板上に感光層およびインキ反撥性層を順次積層してな
る水なし平版印刷用原版において、該感光層がキノンジ
アジド基および水酸基を有するアクリル酸誘導体共重合
体から主としてなることを特徴とする水なし平版印刷用
原版。
A waterless lithographic printing original plate comprising a photosensitive layer and an ink repellent layer sequentially laminated on a substrate, wherein the photosensitive layer is mainly composed of an acrylic acid derivative copolymer having a quinonediazide group and a hydroxyl group. Original plate for lithographic printing.
JP62047317A 1987-03-02 1987-03-02 Waterless planographic printing plate Expired - Lifetime JPH07101304B2 (en)

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