JPS61230151A - Original plate for waterless lithographic printing - Google Patents
Original plate for waterless lithographic printingInfo
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- JPS61230151A JPS61230151A JP6921985A JP6921985A JPS61230151A JP S61230151 A JPS61230151 A JP S61230151A JP 6921985 A JP6921985 A JP 6921985A JP 6921985 A JP6921985 A JP 6921985A JP S61230151 A JPS61230151 A JP S61230151A
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- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/075—Silicon-containing compounds
- G03F7/0752—Silicon-containing compounds in non photosensitive layers or as additives, e.g. for dry lithography
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Abstract
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は湿し水を用いずに印刷可能な、水なし平版印刷
用原板に関する。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Field of Industrial Application] The present invention relates to a waterless lithographic printing original plate that can be printed without using dampening water.
シリコーンゴム層をインキ反発層とすることにより、湿
し水を用いずに印刷可能な水なし平版がこれまでに数多
く提案され、印刷時の湿し水量の制御が不要という特徴
のために大いに利用きれている。特に、基板、感光性層
、シリコーンゴム層の順に構成される水なし平版印刷用
原板は1画像再現性の良さ、製版の容易さから有効なも
のである。Many waterless lithographic plates have been proposed so far that can be printed without using dampening water by using a silicone rubber layer as an ink repellent layer, and are widely used because of the feature that there is no need to control the amount of dampening water during printing. It's broken. In particular, a waterless lithographic printing original plate consisting of a substrate, a photosensitive layer, and a silicone rubber layer in this order is effective because of its good single-image reproducibility and ease of plate making.
C〜発明が解決しようとする問題点〕
これまでの水なし平版印刷用原板のシリコーンゴム層と
しては、シラノール基を有するオルガノポリシロキサン
と、アセトキシ基、ケトキシメート基などの加水分解性
基がケイ素原子に直接結合したケイ素化合物(以下架橋
剤゛と称する)との反応によるものが、シリコーンゴム
層と感光性層との接着の安定性の面で優れている。C - Problems to be Solved by the Invention] Conventional silicone rubber layers of waterless lithographic printing original plates have been made of organopolysiloxanes having silanol groups and hydrolyzable groups such as acetoxy groups and ketoximate groups containing silicon atoms. A reaction with a silicon compound (hereinafter referred to as a crosslinking agent) directly bonded to the silicone rubber layer is superior in terms of stability of adhesion between the silicone rubber layer and the photosensitive layer.
しかしながらこれまでに提案され九き九架橋剤は同一ケ
イ素原子に結合する加水分解性基が5個以下のものであ
り、その加水分解性基の活性が低く、充分な硬化状態を
得にクク、そのため硬化後も有機溶剤でシリコーンゴム
層を洗浄すると傷がつきやすい、すなわち耐スクラッチ
性が劣るという問題があった。この解決策として、シリ
コーンゴム層の硬化前組成物にスズ、チタン等の公知の
金属塩触媒を添加する方法があげられるが、これらの添
加量が多くなるとシリコーンゴム層の弾性が失われると
いう問題点がある。However, the cross-linking agents that have been proposed so far have five or fewer hydrolyzable groups bonded to the same silicon atom, and the activity of the hydrolyzable groups is low, making it difficult to obtain a sufficient cured state. Therefore, even after curing, there was a problem in that cleaning the silicone rubber layer with an organic solvent would easily cause scratches, that is, the scratch resistance would be poor. One solution to this problem is to add known metal salt catalysts such as tin and titanium to the pre-curing composition of the silicone rubber layer, but if the amount of these added increases, the elasticity of the silicone rubber layer is lost. There is a point.
本発明は、従来よりも耐スクラッチ性および硬化性の良
好なシリコーンゴム層を有する水なし平版印刷用原板を
得んとするものである。The present invention aims to provide a waterless lithographic printing original plate having a silicone rubber layer with better scratch resistance and curability than conventional ones.
本発明は基板、感光性層詔よびシリコーンゴム層がこの
順に積層されてなる水なし平版印刷用原板において、該
シリコーンゴム層が、シラノール基を有するオルガノポ
リシロキサンおよびケイ素原子に4個のケトキシメート
基が結合したシランとする水なし平版印刷用原板に関す
る。The present invention provides a waterless lithographic original plate comprising a substrate, a photosensitive layer, and a silicone rubber layer laminated in this order, wherein the silicone rubber layer comprises an organopolysiloxane having a silanol group and four ketoximate groups on a silicon atom. The present invention relates to a waterless lithographic printing original plate having a silane bonded to the silane.
本発明における基板は、特に限定はされないが公知の水
なし平版印刷用原板で用いられているものであればいず
れでもよい。The substrate in the present invention is not particularly limited, but may be any substrate used in known waterless lithographic printing original plates.
たとえば、アルミ、鉄、亜鉛のような金属板およびポリ
エステル9、ポリアミド、ポリオレフィンなどの有機高
分子フィルム、あるいはこれらの複合体などがあげられ
る。これらのシート上にハレーション防止などの目的で
さらにコーティングを施して基板とすることも可能であ
る。Examples include metal plates such as aluminum, iron, and zinc, organic polymer films such as polyester 9, polyamide, and polyolefin, and composites thereof. It is also possible to further coat these sheets for the purpose of preventing halation, etc., and use them as a substrate.
本発明の感光性層としては公知の基板、感光性層、シリ
コーンゴム層がこの[K積層されてなる水なし平版印刷
用原板に用いられる各種の感光層が使用可能である。感
光性層において特に有効な成分としては。As the photosensitive layer of the present invention, various photosensitive layers used in a waterless planographic printing original plate formed by laminating a known substrate, a photosensitive layer, and a silicone rubber layer can be used. Particularly effective components in the photosensitive layer include:
(1)特公昭56−23150に示されるような露光に
より重合しうる不飽和結合基(例えばアクリロキシ基)
を有するもの。(1) Unsaturated bonding groups that can be polymerized by exposure as shown in Japanese Patent Publication No. 56-23150 (e.g. acryloxy group)
Those with
(2) 特開昭60−21050に示されるような露
光により2量化しうる基(例えばシナミリデン基)を有
するもの。(2) Those having a group (for example, cinamylidene group) that can be dimerized by exposure as shown in JP-A No. 60-21050.
(3) 特開昭55−59466に示されるようなキ
ノンジアジド基を有するもの。(3) Those having a quinonediazide group as shown in JP-A No. 55-59466.
である。It is.
本発明におけるシリコーンゴム層の厚みは任意であるが
、厚すぎると現像性が悪(なり、薄すぎるとインキ反発
性が悪くなることから、望ましくは0,5〜100ミク
ロン、さらに望ましくは1〜20ミクロンである。The thickness of the silicone rubber layer in the present invention is arbitrary, but if it is too thick, the developability will be poor (and if it is too thin, the ink repellency will be poor), so it is preferably 0.5 to 100 microns, more preferably 1 to It is 20 microns.
本発明の特徴であるシリコーンゴム層はシラノール基を
有するオルガノポリシロキサンとケイ素原子に4個のケ
トキシメート基が結合したシランもしくはその加水分解
縮合物との反応により得られるシリコーンゴムであり、
硬化前のシリコーンゴム組成物の望ましい組成比として
は、下記のようなものである。The silicone rubber layer, which is a feature of the present invention, is a silicone rubber obtained by reacting an organopolysiloxane having a silanol group with a silane in which four ketoximate groups are bonded to a silicon atom or a hydrolyzed condensate thereof,
A desirable composition ratio of the silicone rubber composition before curing is as follows.
(1) シラノール基を有するオルガノポリシロキサ
ン 100重量部(2)
ケイ素原子に4個のケトキシメート基が結合したシラ
ンもしくはその加水分解縮合物0.1〜20重量部
(さらに望ましくは 0.5〜10重量部)(3)必
要に応じて添加される公知架橋剤もしくはその加水分解
縮合物 0〜20重量部(さらに望ましくは
0.1〜20重量部)上記構成成分(1)のオルガノ
ポリシロキサンとは次式のような構造単位を主成分とす
るものである。(1) 100 parts by weight of organopolysiloxane having silanol groups (2)
Silane in which four ketoximate groups are bonded to a silicon atom or a hydrolyzed condensate thereof 0.1 to 20 parts by weight (more preferably 0.5 to 10 parts by weight) (3) Known crosslinking agent added as necessary or a hydrolyzed condensate thereof 0 to 20 parts by weight (more preferably
(0.1 to 20 parts by weight) The organopolysiloxane of the above-mentioned component (1) has as a main component a structural unit as shown in the following formula.
(式中、R4,R1は有機基)
H2R2としては、炭素数1〜10の置換もしくは非置
換の炭化水素基であることが望ましく、さらに基数にし
て60俤以上がメチル基であることがインキ反発性の面
で望ましい。オルガノポリシロキサンの構造としては、
直鎖状9分枝状、網目状など任意であるが、直鎖状であ
るものが一般的であり1分子量としては、低い場合には
インキ反発性が低下すること9.・高すぎる場合には、
耐スクラッチ性が低下することから、1,000〜1,
000,000であることが望ましい。シラノール基は
主鎖中、主鎖の末端どちらにあっても良いが、得られる
ゴム物性の面で主鎖の末端にあることが望ましく、同じ
理由によりシラノール基の数は平均して1.5個以上で
あることが望ましい。(In the formula, R4 and R1 are organic groups.) H2R2 is preferably a substituted or unsubstituted hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms, and moreover, 60 or more groups are methyl groups in the ink. Desirable in terms of repulsion. The structure of organopolysiloxane is
9. It can be in any shape such as linear, 9-branched, or network-like, but it is generally linear, and if the molecular weight is low, the ink repellency will decrease.9.・If it is too high,
1,000 to 1,000, since scratch resistance decreases.
Preferably, it is 000,000. The silanol group may be located either in the main chain or at the end of the main chain, but in terms of the physical properties of the rubber obtained, it is preferable that the silanol group be located at the end of the main chain.For the same reason, the number of silanol groups is 1.5 on average. It is desirable that the number is at least 1.
上記構成成分(2)のケイ素原子に4個のケトキシメー
ト基が結合したシランとは1式(II)もしくは式(I
II)の構造を有するものである。The above-mentioned constituent component (2), the silane in which four ketoximate groups are bonded to the silicon atom, is defined as formula (II) or formula (I).
It has the structure II).
C式中、 R”、R’、R’ gi有機基テアリm
%に@R’IR4は炭素数1〜10の置換もしくは非置
換の一価の炭化水素基であることが望ましく、さらに原
料の合成の容易さから、メチル基、エチル基、プロピル
基、ブチル基、フェニル基であることが望ましい。また
R6は、望ましくは炭素数3〜10の置換もしくは非
置換の2価の炭化水素基、さらにブチレン基、ペンテン
基、ヘキセン基が望ましい)。In formula C, R'', R', R' gi organic group
% @R'IR4 is preferably a substituted or unsubstituted monovalent hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms, and from the viewpoint of ease of synthesis of raw materials, methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group , preferably a phenyl group. Further, R6 is preferably a substituted or unsubstituted divalent hydrocarbon group having 3 to 10 carbon atoms, and more preferably a butylene group, a pentene group, or a hexene group).
例えば。for example.
CH。CH.
CH。CH.
などが例示され、これらの合成方法の一例は A。An example of these synthesis methods is A.
Singh、 A、 K、 Rai、 and R,C
,Mahrotra、 Journal ofChem
ical 5ooiety、 $alton Tran
sactions、 19.1911 (1972)に
示されている。またこれらの加水分解縮合物を用いるこ
とによっても同様の効果が得られる。Singh, A.K., Rai, and R.C.
, Mahrotra, Journal of Chem
ical 5ooiety, $alton Tran
sactions, 19.1911 (1972). Similar effects can also be obtained by using these hydrolyzed condensates.
上記構成成分(3)の公知架橋剤とは、シリコーンゴム
として公知の架橋剤となるものを言い1代表的には1次
式(III)、 (IV)、 (V)、 (VI)、
(■)で表わされるもの、もしくはそれらの加水分解縮
金物曝
が例示される。The above-mentioned component (3) known crosslinking agent refers to a crosslinking agent known as a silicone rubber (1) Typically, linear formula (III), (IV), (V), (VI),
Examples include those represented by (■) or those exposed to hydrolyzed condensates.
x’51(III)
x、5iR(■)
x、s*R2(V )
(式中、Xはケトキシメート基、アシルオキシ基、アミ
ノオキシ基、アミノ基、アルケニルオキシ基、アルコキ
シ基、アミド基など加水分解可能な基。x'51 (III) x, 5iR (■) x, s * R2 (V ) (wherein, X is a ketoximate group, acyloxy group, aminooxy group, amino group, alkenyloxy group, alkoxy group, amide group, etc. Degradable group.
Rはケイ素原子に対して炭素が結合した有機基。R is an organic group in which carbon is bonded to a silicon atom.
m≧2.n≧0.構造単位はランダムでもブロックでも
よい)。m≧2. n≧0. Structural units can be random or blocks).
これらの公知架橋剤は必須ではないが、得られるシリコ
ーンゴムの物性の制御の面で添加が有効である。Although these known crosslinking agents are not essential, their addition is effective in controlling the physical properties of the resulting silicone rubber.
上記の硬化前のシリコーンゴム組成物は、成分(1)の
シラノール基数に対し、成分(2)、 (3)のケトキ
シメート基などの加水分解性基数を同数から2倍程度と
する組成とすることによって9例えば下式のように反応
してゴムを形成させることができる。The above silicone rubber composition before curing should have a composition in which the number of hydrolyzable groups such as ketoximate groups in components (2) and (3) is about the same to twice as many as the number of silanol groups in component (1). For example, rubber can be formed by reacting as shown in the following formula.
3 (−8i OH) + X s S i R→(9
5i−0−2,8i R十3XH(式中、X はケトキ
シメート基、Xは加水分解可能な基、Rは炭化水素基)
また、成分(1)のシラノール基数に対し、成分(2)
。3 (-8i OH) + X s Si R → (9
5i-0-2,8i R13XH (in the formula, X is a ketoximate group,
.
(3)のケトキシメート基が大過剰となる組成とし。(3) The composition has a large excess of ketoximate groups.
例えば下記のようにシラノール基を消滅させた状態とし
、さらに水を供給することによって、シラノール基の生
成、加水分解性基との縮合反応のくり返しによりゴムと
することができる。For example, by bringing the silanol groups into a state where they are extinguished as described below and further supplying water, a rubber can be obtained by repeating the generation of silanol groups and the condensation reaction with hydrolyzable groups.
この場合、構成成分(1)と(2)とを前もって反応さ
せてもよく、構成成分(1)と(3)とを前もって反応
させてもよい。In this case, components (1) and (2) may be reacted in advance, or components (1) and (3) may be reacted in advance.
上記、硬化前のシリコーンゴム組成物に以下の成分を添
加することも有効である。It is also effective to add the following components to the silicone rubber composition before curing.
(4) シラノール基を有しないオルガノポリシロキ
サン
(5) シランカップリング剤など公知の接着付与剤
(6)スズ、チタン化合物など公知の硬化触媒(7)補
強の目的でシリカ、炭酸カルシウムなどの充てん剤
(8) 塗工性改善の目的で非反応性の溶剤これらの
シリコーンゴム組成物の構成成分(2)に起因して、硬
化後印刷用原板においてシリコーンゴム層は下式に示す
ような架橋点構造を有するものである。(4) Organopolysiloxane without silanol groups (5) Known adhesion promoters such as silane coupling agents (6) Known curing catalysts such as tin and titanium compounds (7) Filling with silica, calcium carbonate, etc. for reinforcement purposes Agent (8) A non-reactive solvent for the purpose of improving coating properties Due to the component (2) of these silicone rubber compositions, the silicone rubber layer is crosslinked as shown in the following formula in the printing original plate after curing. It has a point structure.
OH
以上のように述べた印刷用原板は1例えば以下のような
方法で作られる。OH The printing original plate described above can be made, for example, by the following method.
まず支持体のうえに、リバースロールコータ、エアーナ
イフコータ、メイヤバーコータなどの通常のコータある
いはホエラのような回転塗布装置を用い感光性層を構成
すべき組成物溶液を塗布、乾 ゛燥および必要に応
じて熱キュア後、必要ならば該感光性層の上に同様な方
法で接着層を塗布、乾燥後、シリコーンゴム組成物を感
光性層または接着層上に同様の方法で塗布し9通常60
〜130℃の温度で数分間熱処理して十分に硬化せしめ
てシリコーンゴム層を形成する。必要ならば、保護フィ
ルムを該シリコーンゴム層上にラミネータ等を用いてラ
ミネートする。First, a composition solution to form a photosensitive layer is applied onto a support using a conventional coater such as a reverse roll coater, an air knife coater, or a Meyer bar coater, or a rotary coater such as a Whaler, followed by drying and drying. After heat curing, if necessary, apply an adhesive layer on the photosensitive layer in the same manner, and after drying, apply the silicone rubber composition on the photosensitive layer or the adhesive layer in the same manner. Usually 60
Heat treatment is performed at a temperature of ~130° C. for several minutes to fully cure and form a silicone rubber layer. If necessary, a protective film is laminated onto the silicone rubber layer using a laminator or the like.
このようにして得られる水なし平版印刷用原板に、原画
フィルムを通じて活性光線を照射し、感光性層の種類に
応じて公知の現像液を用いて現像用パッドなどでこすっ
て現像することにより、原画フィルムの画像を再現して
シリコーンゴム層が残存してインキが着肉しない非画像
部となる部分と、シリコーンゴム層が剥離して感光性層
もしくは基板が露出してインキ着肉性の画像部となる部
分とからなる水なし平版印刷版が得られる。そして印刷
版をオフセット印刷機に設置して湿し水を与えずに印刷
することにより印刷物を得ることができる。The thus obtained waterless lithographic printing original plate is irradiated with actinic rays through the original film, and developed by rubbing with a development pad using a known developer depending on the type of photosensitive layer. The image on the original film is reproduced, and the silicone rubber layer remains and the ink does not adhere to the non-image area, and the silicone rubber layer peels off and the photosensitive layer or substrate is exposed and the ink adheres to the image. A waterless lithographic printing plate is obtained, which consists of a portion that will become a copy. Printed matter can then be obtained by installing the printing plate in an offset printing machine and printing without applying dampening water.
以下に実施例を示す。なお実施例中の配合部数はすべて
重量部数である。また1文中、シリコーンゴムの組成物
が記載されているが、これは特に示さない限り塗工の4
8時間前に、各組成物を混合し、60分間60°0にて
かくはんし、以後塗工までに密閉状態、室温にて静置保
存しておいたものである。Examples are shown below. In addition, all the blended parts in the examples are parts by weight. Also, in the first sentence, the composition of silicone rubber is described, but unless otherwise specified, this is the 4th grade of coating.
Each composition was mixed 8 hours before, stirred at 60° 0 for 60 minutes, and then stored in a sealed state at room temperature until coating.
実施例1 砂目室て加工したアルミ板上に。Example 1 On a grained aluminum plate.
(1)アクリル酸エチル/メタクリル酸メチル共重合体
60部(2)グリシ
ジルメタクリレートキシリレンジアミンとの4モルフ1
モル付加反応 40部(3) ミヒラー氏ケト
ン 5部からなる組成のエチルセロ
ソルブ溶液を塗工し。(1) Ethyl acrylate/methyl methacrylate copolymer 60 parts (2) 4 morphs of glycidyl methacrylate and xylylene diamine 1
Molar addition reaction 40 parts (3) Michler's ketone 5 parts ethyl cellosolve solution was applied.
50℃にて乾燥させ、厚さ5ンクロンの光重合性の感光
性層を設けた。It was dried at 50° C. to provide a photopolymerizable photosensitive layer with a thickness of 5 nm.
感光性層上に、シリコーンゴム組成として。As a silicone rubber composition on the photosensitive layer.
V
(4) υ、ω−ジヒドロキシボリジメチ惠シロキサ
ン(数平均分子量24,000) 100部(5
)テトラキス(ジメチルケトオキシム)シラン
3部。V (4) υ, ω-dihydroxyboridimethysiloxane (number average molecular weight 24,000) 100 parts (5
) Tetrakis(dimethylketoxime)silane
Part 3.
(6)エチルトリアセトキシシラン 5部(7)
ジブチルスズジアセテート 0.1部(8)
エクソン化学■製脂肪族炭化水素1アイソパー謄E
400部からなる組成物を
塗工し、100℃で1分間加熱乾燥処理したところ、厚
さ2ミクロンで完全に硬化していた。(6) Ethyltriacetoxysilane 5 parts (7)
Dibutyltin diacetate 0.1 part (8)
Exxon Chemical ■ Aliphatic Hydrocarbon 1 Isopar E
When a composition consisting of 400 parts was coated and heat-dried at 100° C. for 1 minute, it was completely cured to a thickness of 2 microns.
このシリコーンゴム層上に、厚さ6ミクロンのポリエチ
レンテレフタレートフィルム(東し株式会社製“ルミラ
ー″)をラミネートシ、印刷用原板とした。On this silicone rubber layer, a 6 micron thick polyethylene terephthalate film ("Lumirror" manufactured by Toshi Co., Ltd.) was laminated to form a printing original plate.
得られた印刷用原板上に、原画ポジフィルムを真空密着
し、岩崎電機株式会社製メタルハライドランプ1アイド
ルフィン= 2000」を用いて1mの距離から2.5
分間露光した。露光済の印刷用原板のフィルムを剥離し
、n−へブタン95部。The original positive film was vacuum-adhered onto the obtained printing original plate, and a 2.5-meter film was applied from a distance of 1 m using a metal halide lamp 1 idle fin = 2000 manufactured by Iwasaki Electric Co., Ltd.
Exposure was made for a minute. The film of the exposed printing plate was peeled off, and 95 parts of n-hebutane was added.
ポリプロピレングリコール(分子量400)5部からな
る現像液中に浸漬し、ダイニック株式会社製不織布「ソ
フパッド」でこすって現像したところ、未露光部分のシ
リコーンゴム層だけが剥離して感光性基が露出し、一方
露光部分のシリコーンゴム層は残存しており、優れた画
像再現性を有する印刷版を得た。When it was immersed in a developer consisting of 5 parts of polypropylene glycol (molecular weight 400) and rubbed with a non-woven fabric "Sofpad" manufactured by Dynic Co., Ltd. for development, only the unexposed silicone rubber layer was peeled off and the photosensitive groups were exposed. On the other hand, the silicone rubber layer in the exposed areas remained, and a printing plate with excellent image reproducibility was obtained.
得られた印刷版のシリコーンゴム層を、“アイソパー″
Eに浸漬して、無化成工業■製不織布1ハイゼガーゼを
用いて、200g/cs+の荷重で10往復こすり、耐
スクラッチ性試験を行なったところ、シリコーンゴム層
に傷は入っていなかった。The silicone rubber layer of the resulting printing plate is coated with “isopar”
When the silicone rubber layer was immersed in E and rubbed 10 times back and forth under a load of 200 g/cs+ using Nonwoven Fabric 1 Hise Gauze manufactured by Mukasei Kogyo (■) for 10 times, no scratches were found in the silicone rubber layer.
比較例1 実施例1と同様にして得られた感光性層上に。Comparative example 1 On the photosensitive layer obtained in the same manner as in Example 1.
(1) α、ω−ジヒドロキシポリジメチルシロキサ
ン(数平均分子量24,000) 100部(2
)エチルトリアセトキシシラン 8部(3)
ジブチルスズジアセテート 0.1部(4)@ア
イソパー’E 400部からなるシリコ
ーンゴム組成物を塗工し、100℃で1分間加熱乾燥し
たところ、未硬化状態であった。同じ条件で2分間加熱
乾燥したところ、完全に硬化しており、厚さ2ミクロン
のシリコーンゴム層が得られた。(1) α,ω-dihydroxypolydimethylsiloxane (number average molecular weight 24,000) 100 parts (2
) Ethyltriacetoxysilane 8 parts (3)
A silicone rubber composition consisting of 0.1 part of dibutyltin diacetate (4) @ 400 parts of Isopar'E was coated and dried by heating at 100° C. for 1 minute, and it was found to be in an uncured state. When it was heated and dried for 2 minutes under the same conditions, it was completely cured and a silicone rubber layer with a thickness of 2 microns was obtained.
得られたシリコーンゴム層上に実施例1と同様に“ルミ
ラー1をラミネートし印刷用原基とした。Lumirror 1 was laminated on the obtained silicone rubber layer in the same manner as in Example 1 to form a printing base.
印刷用原板を実施例1と同様に露光、現像して印刷版と
した。印刷版を実施例1と同じ副スクラッチ性試験を行
なったところ、シリコーンゴム層に多数の傷が入ってお
り、#4スクラッチ性が劣るものであった。The original printing plate was exposed and developed in the same manner as in Example 1 to obtain a printing plate. When the printing plate was subjected to the same sub-scratch test as in Example 1, the silicone rubber layer had many scratches, and #4 scratch resistance was poor.
実施例2
砂目立て加工されたアル考板上にγ−シンナミリデンー
β−ヒドロキシ−n−プロピルアクリレート重合体(数
平均分子量4,000)のトルエン。Example 2 Toluene of γ-cinnamylidene-β-hydroxy-n-propyl acrylate polymer (number average molecular weight 4,000) on a grained aluminum board.
メチルイソブチルケトン(1部1重量比)溶液を塗工し
、60℃で3分間乾燥させ、厚さ3ミクロンの光二量化
性の感光性層を設けた。A methyl isobutyl ketone (1 part 1 weight ratio) solution was applied and dried at 60° C. for 3 minutes to provide a 3 micron thick photodimerizable photosensitive layer.
感光性層上に実施例1と同じシリコーンゴム組成物を塗
工し、100℃で1分間加熱乾燥したところ完全に硬化
していた。The same silicone rubber composition as in Example 1 was coated on the photosensitive layer and dried by heating at 100° C. for 1 minute to find that it was completely cured.
得られたシリコーンゴム層上に厚さ6ミクロンの1ルミ
ラー1をラミネートし、印刷用原板を得た。印刷用原板
を実施例1と同様に露光、現像したところ、優れた画像
再現性を有する印刷版を得た。A 1-luminor mirror 1 having a thickness of 6 microns was laminated on the obtained silicone rubber layer to obtain a printing original plate. When the original printing plate was exposed and developed in the same manner as in Example 1, a printing plate with excellent image reproducibility was obtained.
印刷版のシリコーンゴム層を実施例1と同じ耐スクラッ
チ性試験を行なったところ、傷は全く入っていなかった
。When the silicone rubber layer of the printing plate was subjected to the same scratch resistance test as in Example 1, no scratches were found.
比較例2
実施例2と同じ感光性層上に、比較例1と同じシリコー
ンゴム組成物を塗工し、100℃、1分間加熱乾燥した
ところ、未硬化状態であった。同じように2分間加熱乾
燥したものは硬化しており。Comparative Example 2 The same silicone rubber composition as in Comparative Example 1 was coated on the same photosensitive layer as in Example 2 and dried by heating at 100° C. for 1 minute, but it was found to be in an uncured state. In the same way, those that were heated and dried for 2 minutes were cured.
それをシリコーンゴム層とした。This was made into a silicone rubber layer.
得られたシリコーンゴム層上に厚さ6ミクロンの1ルミ
ラー2をラミネートし印刷用原板とした。A 1-luminescent mirror 2 having a thickness of 6 microns was laminated on the obtained silicone rubber layer to prepare a printing original plate.
印刷用原板を実施例1と同様の方法で、露光。A printing original plate was exposed in the same manner as in Example 1.
現像し印刷版を得た。印刷版のシリコーンゴム層を実施
例1と同様に副スクラッチ性試験を行なったところ、傷
が多数入っていた。It was developed to obtain a printing plate. When the silicone rubber layer of the printing plate was subjected to a sub-scratch test in the same manner as in Example 1, many scratches were found.
実施例3
砂目立て加工したアルミ板に、住友デュレス楠製フェノ
ールホルムアルデヒドレゾール樹脂ヲ1ミクロンの厚み
に塗布し、200℃で3分間硬化させ基板とした。Example 3 A grained aluminum plate was coated with phenol formaldehyde resol resin manufactured by Sumitomo Durres Kusunoki to a thickness of 1 micron, and cured at 200° C. for 3 minutes to obtain a substrate.
この上に、数平均重合度4.7のフェノールホルムアル
デヒドノボラック樹脂とナフトキノン−1゜2−ジアジ
ド−5−スルホン酸クロリドの部分エステル化物(エス
テル化率49チ)のテトラヒドロフラン溶液を塗工し、
100℃、35秒間加熱処理して厚さ2ミクロンの感光
性層を設けた。On top of this, a tetrahydrofuran solution of a partially esterified product of a phenol formaldehyde novolak resin with a number average degree of polymerization of 4.7 and a naphthoquinone-1°2-diazide-5-sulfonic acid chloride (esterification rate of 49°) was applied,
A photosensitive layer having a thickness of 2 microns was formed by heat treatment at 100° C. for 35 seconds.
この感光性層上に。on this photosensitive layer.
(1)d、ω−ジヒドロキシポリジメチルシロキサン(
数平均分子量46,000) 100部(2)
テトラキス(メチルエチルケトオキシム)シラン
4部(3) ジブチル
スズジアセテート0.1部(4) γ−アミノプロピ
ルトリメトキシシラン1部
(5)「アイソパーRtJ 400部
からなるシリコーンゴム組成物を塗工し、io。(1) d,ω-dihydroxypolydimethylsiloxane (
Number average molecular weight 46,000) 100 parts (2)
Tetrakis (methyl ethyl ketoxime) silane
4 parts (3) 0.1 part dibutyltin diacetate (4) 1 part γ-aminopropyltrimethoxysilane (5) A silicone rubber composition consisting of 400 parts of Isopar RtJ was applied and io.
℃で2分間加熱乾燥し、厚さ6ミクロンの完全に硬化し
たシリコーンゴム層を得た。It was heated and dried at .degree. C. for 2 minutes to obtain a completely cured silicone rubber layer with a thickness of 6 microns.
得られたシリコーンゴム層上に、厚さ10ミクロンのポ
リプロピレンフィルム(東し株式会社製1トレファン1
)をラミネートし、印刷用原板とした。印刷用原板上に
原画ネガフィルムを真空密着し、実施例1と同様の方法
で1分間露光を行なった。On the obtained silicone rubber layer, a 10 micron thick polypropylene film (manufactured by Toshi Co., Ltd.
) was laminated and used as a printing plate. The original negative film was vacuum-adhered onto the printing original plate, and exposed for 1 minute in the same manner as in Example 1.
露光部の原板の”トレファン”を剥離して“アイソパー
”E/エチルアルコール混合液(重量比75/25 )
に浸漬し、“ソフパツドでこすって現像したところ、露
光部はシリコーンゴム層および感光性層が剥離し、非露
光部はシリコーンゴム層が残っている画像再現性の優れ
た印刷版を得た。Peel off the "Trephan" on the original plate in the exposed area and apply "Isopar" E/ethyl alcohol mixture (weight ratio 75/25)
When the plate was developed by immersing it in water and rubbing it with a soft pad, a printing plate with excellent image reproducibility was obtained in which the silicone rubber layer and photosensitive layer were peeled off in the exposed areas and the silicone rubber layer remained in the non-exposed areas.
印刷版を実施例1と同様に副スクラッチ性試験を行なっ
たが、シリコーンゴム層には傷が全く入っていなかった
。The printing plate was subjected to a sub-scratch test in the same manner as in Example 1, but no scratches were found in the silicone rubber layer.
実施例4
実施例3において、シリコーンゴム層の組成全以下の組
成としたほかは、実施例3と同様の方法で印刷用原板を
得た(シリコーンゴム層は100℃、2分間の加熱乾燥
で完全に硬化しており、厚さ3ミクロンであった)。Example 4 A printing original plate was obtained in the same manner as in Example 3, except that the silicone rubber layer had the following composition (the silicone rubber layer was dried by heating at 100°C for 2 minutes). fully cured and 3 microns thick).
(1) α、+4+−ジヒドロキシポリジメチルシロ
キサン(数平均分子量4(5,000) 100
部(2)テトラキス(メチルエチルケトオキシム)シラ
ン 2部(3) ビ
ニルトリス(メチルエチルケトオキシム)シラン
2部(4) ジブチル
ススジアセテー)、0.1部(5) γ−アミノプロ
ピルトリメトキシシラン1部
(6) “アイソパー″H400部
得られた印刷用原板を実施例6と同様の方法で露光現像
したところ、優れた画像再現性を有する印刷版を得た。(1) α, +4+-dihydroxypolydimethylsiloxane (number average molecular weight 4 (5,000) 100
Part (2) Tetrakis (methyl ethyl ketoxime) silane Part 2 (3) Vinyl tris (methyl ethyl ketoxime) silane
2 parts (4) dibutylstin diacetate), 0.1 part (5) 1 part γ-aminopropyltrimethoxysilane (6) 400 parts of “Isopar” H The obtained printing plate was treated in the same manner as in Example 6. After exposure and development, a printing plate with excellent image reproducibility was obtained.
印刷版を実施例1と同様に耐スクラッチ性試験を行なっ
たところシリコーンゴム層に全く傷は入っていなかった
。When the printing plate was subjected to a scratch resistance test in the same manner as in Example 1, no scratches were found in the silicone rubber layer.
実施例5
実施例3の感光性層上に、以下に示すA液、B液の混合
液(171重量比)を塗工し、100℃で2分間加熱乾
燥させて、完全に硬化した厚さ3ミクロンのシリコーン
ゴム層を得た。Example 5 A mixed solution of liquid A and liquid B shown below (171 weight ratio) was coated on the photosensitive layer of Example 3, and dried by heating at 100°C for 2 minutes to obtain a completely cured thickness. A 3 micron silicone rubber layer was obtained.
A液
(1) α、ω−ジヒドロキシポリジメチルシロキサ
ン(数平均分子量46,000) 100部(2
)テトラキス(メチルエチルケトオキシム)シラン
4部(3) ジブチル
スズジアセテート0.1部(4) γ−アミノプロピ
ルトリメトキシシラン1部
(5)”アイソパー−z 400部B液
(1) α、ω−ジヒドロキシボリジメチルボリシロ
キサン(数平均分子量46,000) 100部(2
) ビニルトリス(メチルエチルケトオキシム)シラ
ン 4部(3) ジ
ブチルスズジアセテー) 0.1 部(4)
γ−アミノプロピルトリメトキシシラン1部
(5) 1アイツバ−”E 400部−
そしてシリコーンゴム層上に厚さ10ミクロンの”トレ
ファン”をラミネートして印刷用原板を得た。Solution A (1) α,ω-dihydroxypolydimethylsiloxane (number average molecular weight 46,000) 100 parts (2
) Tetrakis (methyl ethyl ketoxime) silane
4 parts (3) 0.1 part dibutyltin diacetate (4) 1 part γ-aminopropyltrimethoxysilane (5) 400 parts “isopar-z” Solution B (1) α, ω-dihydroxyboridimethylborisiloxane (number average molecular weight 46,000) 100 parts (2
) Vinyltris(methylethylketoxime)silane 4 parts (3) Dibutyltin diacetate) 0.1 part (4)
γ-Aminopropyltrimethoxysilane 1 part (5) 1 Aituba”E 400 parts
Then, a 10 micron thick "Trephan" was laminated on the silicone rubber layer to obtain a printing original plate.
得られた印刷用原板を実施例3と同様の方法で露光、現
像したところ、優れた画像再現性を有する印刷版を得た
。実施例1と同様に印刷版の副スクラッチ性試験を行な
ったところ、シリコーンゴム層には傷は全く入っていな
かった。When the obtained printing original plate was exposed and developed in the same manner as in Example 3, a printing plate having excellent image reproducibility was obtained. When the printing plate was subjected to a sub-scratch test in the same manner as in Example 1, no scratches were found in the silicone rubber layer.
実施例6 実施例3と同じ感光性層上に。Example 6 On the same photosensitive layer as Example 3.
(1) α、ω−ジヒドロキシボリジメチルボリシロ
キサン(数平均分子量16,000) 100部(2
)@アイソパー”B 400部からなる組
成物と
(3) テトラキス(メチルエチルケトオキシム)シ
ラン 1.0部(4)
ビニルトリス(メチルエチルケトオキシム)シラン
0.5部(5) γ−
アミノプロピルトリメトキシシラン1部
(6)トルエン 0.5部(7
) ジブチルスズジアセテート0.1部からなる組成
物とを混合し、10秒後に塗工し。(1) 100 parts (2
)@isopar"B 400 parts and (3) tetrakis (methyl ethyl ketoxime) silane 1.0 part (4)
Vinyltris(methylethylketoxime)silane
0.5 part (5) γ-
Aminopropyltrimethoxysilane 1 part (6) Toluene 0.5 part (7
) A composition consisting of 0.1 part of dibutyltin diacetate was mixed and coated 10 seconds later.
100℃で2分間、加熱、乾燥したところ完全に硬化し
ており、厚さ2ミクロンのシリコーンゴム層が得られた
。When heated and dried at 100° C. for 2 minutes, it was completely cured and a silicone rubber layer with a thickness of 2 microns was obtained.
さらにシリコーンゴム層上に厚さ10ミクロンの”トレ
7アン″をラミネートして印刷用原板を得た。Furthermore, a 10 micron thick "Tre 7 Anne" was laminated on the silicone rubber layer to obtain a printing original plate.
得られた印刷用原板を実施例3と同様の方法で露光、現
像したところ、優れた画像再現性を有する印刷版を得た
。実施例1と同様に印刷版の耐スクラッチ性試験を行な
ったところ、シリコーンゴム層には傷は全く入っていな
かった。When the obtained printing original plate was exposed and developed in the same manner as in Example 3, a printing plate having excellent image reproducibility was obtained. When the scratch resistance test of the printing plate was conducted in the same manner as in Example 1, no scratches were found in the silicone rubber layer.
比較例3 実施例3と同じ感光性層上に。Comparative example 3 On the same photosensitive layer as Example 3.
(1) α、ω−ジヒドロキシボリジメチルシロキ、
サン(数平均分子量46.000 ) 100部
(2) ビニルトリス(メチルエチルケトオキシム)
シラン 4部(3)
ジプチルスズアセテート 0.1部(4)
γ−アミノプロピルトリメトキシシラン1部
(5)1アイソパー” E 400部か
らなるシリコーンゴム組成物を塗工し、100℃で2分
間加熱、乾燥したが完全には硬化していなかった。同様
に100℃で5分間加熱乾燥したところ完全に硬化した
厚さ3ミクロンのシリコーンゴム層を得た。シリコーン
ゴム層上に厚さ10ミクロンの“トレファン1をラミネ
ートして印刷用原板とした。(1) α,ω-dihydroxyboridimethylsiloxy,
San (number average molecular weight 46.000) 100 parts (2) Vinyltris (methyl ethyl ketoxime)
Silane 4 parts (3)
Diptyltin acetate 0.1 part (4)
A silicone rubber composition consisting of 400 parts of γ-aminopropyltrimethoxysilane 1 part (5) 1 Isopar" E was coated and heated at 100°C for 2 minutes and dried, but it was not completely cured.Similarly, After heating and drying at 100°C for 5 minutes, a completely cured silicone rubber layer with a thickness of 3 microns was obtained.Trephan 1 with a thickness of 10 microns was laminated on the silicone rubber layer to prepare a printing original plate.
得られた印刷用原板を実施例3と同様に露光。The obtained printing original plate was exposed in the same manner as in Example 3.
現像して印刷版を得た。この印刷版を実施例1と同じ副
スクラッチ性試験を行なったところ、シリコーンゴム層
に多数の傷が入っていた。A printing plate was obtained by development. When this printing plate was subjected to the same sub-scratch test as in Example 1, many scratches were found in the silicone rubber layer.
実施例7
実施例乙における基板上に、以下の組成を有するテトラ
ヒドロフラン溶液を塗布し、125℃。Example 7 A tetrahydrofuran solution having the following composition was applied onto the substrate in Example B at 125°C.
35秒間加熱処理して厚さ2ミクロンの感光性層を設け
た。A 2 micron thick photosensitive layer was provided by heat treatment for 35 seconds.
(1)数平均重合度4.7のフェノールホルムアルデヒ
ドノボラック樹脂とナフトキノン−1,2−ジアジド−
5−スルホン酸クロリドの部分エステル化物(エステル
化率49俤) 100部(2) 4,4/−
ジフェニルメタンジイソシアネート50部
(3) ジプチルスズジアセテート 0.2部
得られた感光性層上に。(1) Phenol formaldehyde novolak resin with number average polymerization degree of 4.7 and naphthoquinone-1,2-diazide
Partially esterified product of 5-sulfonic acid chloride (esterification rate: 49 yen) 100 parts (2) 4,4/-
50 parts of diphenylmethane diisocyanate (3) 0.2 parts of diptyltin diacetate on the resulting photosensitive layer.
(4)d、ω−ジヒドロキシポリジメチルシロキサン(
数平均分子量34,000) 100部(5)テ
トラキス(ジメチルケトオキシム)シラン
3部(6) ビニルトリス(ジメチルケトオキ
シム)シラン 3部(
7) ジプチルスズジアセテート 0.1部(
8)T−アミノプロビルトリエトキシシラン0.2部
(9) “アイソパー”E 400部か
らなるシリコーンゴム組成物を塗工し、100℃で2分
間、加熱、乾燥させたところ完全に硬イビしており、厚
さ3ミクロンのシリコーンゴム層が得られ、その上に厚
さ10ミクロンの1トレフアン1をラミネートして印刷
用原板を得た。(4) d,ω-dihydroxypolydimethylsiloxane (
Number average molecular weight 34,000) 100 parts (5) Tetrakis(dimethylketoxime)silane
3 parts (6) Vinyltris(dimethylketoxime)silane 3 parts (
7) Diptyltin diacetate 0.1 part (
8) A silicone rubber composition consisting of 0.2 parts of T-aminopropyltriethoxysilane (9) 400 parts of "Isopar" E was coated, heated and dried at 100°C for 2 minutes, and completely hardened. A silicone rubber layer with a thickness of 3 microns was obtained, and a 10 micron thick layer of 1-Trephan 1 was laminated thereon to obtain a printing original plate.
・得られた印刷用原板を実施例3と同様に露光。- The obtained printing original plate was exposed in the same manner as in Example 3.
現像したところ優れた画像再現性を有する印刷版となっ
た。印刷版を実施例1と同様にII、Aクラッチ性試験
を行なったところシリコーンゴム層には傷が入らなかっ
た。When developed, a printing plate with excellent image reproducibility was obtained. When the printing plate was subjected to II and A clutch tests in the same manner as in Example 1, no scratches were found in the silicone rubber layer.
実施例8 実施例7と同じ感光性層上に。Example 8 On the same photosensitive layer as Example 7.
(1) α、ω−ジヒドロキシポリジメチルシロキサ
ン(数平均分子量!14,000) 100部(
2) ビニルトリス(ジメチルケトオキシム)シラン
3部(3) ジプ
チルスズアセテート
(4)1アイソパー″E 400部からな
る48時間前に調製した組成物に。(1) α,ω-dihydroxypolydimethylsiloxane (number average molecular weight! 14,000) 100 parts (
2) 3 parts vinyltris(dimethylketoxime)silane (3) diptyltin acetate (4) 1 isopar''E to a composition prepared 48 hours ago consisting of 400 parts.
(5) テトラキス(ジメチルケトオキシムシラン)
3部
(6) γ−アミノプロピルトリエトキシシラン0.
2部
(7)トルエン 3部を添加
したものをシリコーンゴム組成物として塗工し、100
℃で2分間加熱乾燥させたところ完全に硬化して詔り、
厚さ3ミクロンのシリコーンゴム層が得られ、その上に
厚さ10ミクロンの1トレフアン“をラミネートして印
刷用原板を得た。(5) Tetrakis (dimethylketoxime silane)
3 parts (6) γ-aminopropyltriethoxysilane 0.
2 parts (7) 3 parts of toluene was added and applied as a silicone rubber composition, and 100
When it was heated and dried at ℃ for 2 minutes, it was completely cured.
A silicone rubber layer with a thickness of 3 microns was obtained, and a 10 micron thick layer of 1 trepan was laminated thereon to obtain a printing original plate.
得られた印刷用原板を実施例3と同様に露光。The obtained printing original plate was exposed in the same manner as in Example 3.
現像したところ優れ念画像再現性を有する印刷版となっ
た。印刷版を実施例1と同様に耐スクラッチ性試験を行
なったところ、シリコーンゴム層には傷が入っていなか
った。When developed, a printing plate with excellent image reproducibility was obtained. When the printing plate was subjected to a scratch resistance test in the same manner as in Example 1, no scratches were found in the silicone rubber layer.
比較例4 実施例7で得られた感光性層上に。Comparative example 4 On the photosensitive layer obtained in Example 7.
(1) α、ω−ジヒドロキシポリジメチルシロキサ
ン(数平均分子量34,000) 100部(2
)ビニルトリス(ジメチルケトオキシム)シラン
6部(3) ジブチルス
ズジアセテート 0.1部(4) γ−アミノ
プロピルトリエトキシシラン0.2部
(5) “アイソパー= lit 4
00部からなるシリコーンゴム組成物を塗工し、100
℃で2分間加熱、乾燥したところ硬化は不充分であった
。5分間加熱することにより完全に硬化したシリコーン
ゴム層が得られた。その上に厚さ10ミク9ンの1トレ
7アン1をラミネートし印刷用原板とした。印刷用原板
を実施例3と同様に露光、現像して得られた印刷版を、
実施例1と同様に副スクラッチ性試験を行なったところ
、シリコーンゴム層に傷が多く入ってい5た。(1) α,ω-dihydroxypolydimethylsiloxane (number average molecular weight 34,000) 100 parts (2
) Vinyltris(dimethylketoxime)silane
6 parts (3) Dibutyltin diacetate 0.1 part (4) γ-aminopropyltriethoxysilane 0.2 part (5) “Isopar = lit 4
Coating a silicone rubber composition consisting of 100 parts
After heating and drying at ℃ for 2 minutes, curing was insufficient. A completely cured silicone rubber layer was obtained by heating for 5 minutes. On top of that, 1 tre 7 an 1 with a thickness of 10 mm and 9 mm was laminated to form a printing original plate. A printing plate obtained by exposing and developing a printing original plate in the same manner as in Example 3,
When a sub-scratch test was conducted in the same manner as in Example 1, the silicone rubber layer was found to have many scratches.
本発明の特徴を有するシリコーンゴム組成物を使用する
ことにより、硬化性が良好で、副スクラッチ性の優れた
シリコーンゴム層を有する水なし平版印刷版が得られる
。By using a silicone rubber composition having the characteristics of the present invention, a waterless lithographic printing plate having a silicone rubber layer with good curability and excellent sub-scratch resistance can be obtained.
Claims (1)
に積層されてなる水なし平版印刷用原板において、該シ
リコーンゴム層が、シラノール基を有するオルガノポリ
シロキサンおよびケイ素原子に4個のケトキシメート基
が結合したシランもしくはその加水分解縮合物を含有す
る組成物を硬化して得られたシリコーンゴムであること
を特徴とする水なし平版印刷用原板。(1) In a waterless lithographic original plate in which a substrate, a photosensitive layer and a silicone rubber layer are laminated in this order, the silicone rubber layer comprises an organopolysiloxane having a silanol group and four ketoximate groups on a silicon atom. 1. An original plate for waterless lithographic printing, characterized in that it is a silicone rubber obtained by curing a composition containing bound silane or a hydrolyzed condensate thereof.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP6921985A JPS61230151A (en) | 1985-04-03 | 1985-04-03 | Original plate for waterless lithographic printing |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP6921985A JPS61230151A (en) | 1985-04-03 | 1985-04-03 | Original plate for waterless lithographic printing |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS61230151A true JPS61230151A (en) | 1986-10-14 |
JPH0356626B2 JPH0356626B2 (en) | 1991-08-28 |
Family
ID=13396388
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP6921985A Granted JPS61230151A (en) | 1985-04-03 | 1985-04-03 | Original plate for waterless lithographic printing |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS61230151A (en) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5922505A (en) * | 1995-09-14 | 1999-07-13 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Lithographic printing plate requiring no fountain solution |
JP2017167537A (en) * | 2016-03-15 | 2017-09-21 | 東レ株式会社 | Silicone composition for printing plate, and method of manufacturing lithographic printing plate original plate, lithographic printing plate and printed matter |
-
1985
- 1985-04-03 JP JP6921985A patent/JPS61230151A/en active Granted
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5922505A (en) * | 1995-09-14 | 1999-07-13 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Lithographic printing plate requiring no fountain solution |
JP2017167537A (en) * | 2016-03-15 | 2017-09-21 | 東レ株式会社 | Silicone composition for printing plate, and method of manufacturing lithographic printing plate original plate, lithographic printing plate and printed matter |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0356626B2 (en) | 1991-08-28 |
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EXPY | Cancellation because of completion of term |