JPS6323546B2 - - Google Patents

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Publication number
JPS6323546B2
JPS6323546B2 JP56133278A JP13327881A JPS6323546B2 JP S6323546 B2 JPS6323546 B2 JP S6323546B2 JP 56133278 A JP56133278 A JP 56133278A JP 13327881 A JP13327881 A JP 13327881A JP S6323546 B2 JPS6323546 B2 JP S6323546B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
silicone rubber
rubber layer
developer
layer
photosensitive layer
Prior art date
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Expired
Application number
JP56133278A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JPS5835539A (en
Inventor
Mikio Tsuda
Sadao Kobashi
Hiroyuki Takahata
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toray Industries Inc
Original Assignee
Toray Industries Inc
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Filing date
Publication date
Application filed by Toray Industries Inc filed Critical Toray Industries Inc
Priority to JP13327881A priority Critical patent/JPS5835539A/en
Publication of JPS5835539A publication Critical patent/JPS5835539A/en
Publication of JPS6323546B2 publication Critical patent/JPS6323546B2/ja
Granted legal-status Critical Current

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    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/075Silicon-containing compounds
    • G03F7/0752Silicon-containing compounds in non photosensitive layers or as additives, e.g. for dry lithography

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】[Detailed description of the invention]

本発明は、湿し水不要ネガ型平版印刷版の製版
方法に関するものであり、とくに新規な現像液を
用いることを特徴とする製版方法に関するもので
ある。 シリコーンゴム層をインキ反撥層とする湿し水
不要平版印刷版であつて、ネガ型に作用する版材
としては、例えば支持体上に設けた光剥離性感光
層上にシリコーンゴム層を設けて予備増感された
ものが、特願昭54−156871(特開昭56−80046号公
報)で提案されている。 これらの版材は、通常PS版と同時に露光一現
像工程により製版されるが、現像液として主とし
て脂肪族炭化水素と極性溶剤とを組合せたものを
用いる。このような溶剤混合系の現像液によりシ
ヤープな画像を版面上に形成させることができる
が、現像速度がおそく、現像操作が不十分な場合
には、画像部にシリコーンゴム層が残留し、微小
網点再現性の悪い印刷版になつてしまう。また、
このような現像液での現像操作は、現像時の湿度
の影響をうけやすい欠点がある。 本発明は、これらの欠点を克服した現像速さが
大きく、湿度の影響の小さい現像液を提供する。 本発明は、支持体上に設けられた光剥離性感光
層とその上のシリコーンゴム層からなる湿し水不
要ネガ型平版印刷版を露光後、(A)炭化水素類20〜
97%、(B)極性溶剤類2〜99%および(C)水0.1〜30
%からなる混合液を用いて、実質的に露光部分の
シリコーンゴム層のみを除去することを特徴とす
る湿し水不要ネガ型平版印刷版の製版方法に関す
るものである。 本発明において現像液として使用される炭化水
素としては、シリコーンゴムを膨潤させ得るもの
であり、例えば脂肪族炭化水素類(ペンタン、ヘ
キサン、ヘプタン、オクタンあるいはガソリン、
灯油、軽油、重油など)が好都合に適用できる。
ガソリン、灯油類は一般の印刷作業現場におい
て、印刷機、印刷版のインキを洗い落す目的で日
常的に使用されており、現像液として用いるのに
何ら抵抗のないものである。また芳香族炭化水素
類(トルエン、キシレンなど)あるいはハロゲン
化炭化水素類(トリクレン、四塩化炭素など)も
勿論使用できる。現像液中の炭化水素の含有量と
しては0〜97重量%である。 極性溶剤としては下記に示すものが一般的に有
用である。 アルコール類(メタノール、エタノール、n−
プロパノール、イソプロパノール、3−メトキシ
ブタノール、3−メチル−3−メトキシブタノー
ル、ジアセトンアルコールなど)。 エーテル類(ジオキサン、テトラヒドロフラ
ン、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、ブチ
ルセロソルブ、エチレングリコールジエチルエー
テル、ジエチレングリコールモノメチルエーテ
ル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、
ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチ
レングリコールモノブチルエーテル、トリエチレ
ングリコールモノメチルエーテル、トリエチレン
グリコールジメチルエーテル、テトラエチレング
リコールモノメチルエーテル、テトラエチレング
リコールジメチルエーテル、テトラヒドロフルフ
リルアルコールなど)。 エステル類(アセト酢酸メチル、アセト酢酸エ
チル、メチルセロソルブアセテート、エチルセロ
ソルブアセテート、酢酸ジエチレングリコールモ
ノメチルエーテル、酢酸ジエチレングリコールモ
ノエチルエーテル、酢酸ジエチレングリコールモ
ノブチルエーテル、ジ酢酸グリコール、乳酸エチ
ル、プロピオン酸メチル、プロピオン酸エチル、
マロン酸ジメチル、マロン酸ジエチル、コハク酸
ジメチル、コハク酸ジエチル、アジピン酸ジメチ
ルなど)。 ケトン類(アセトン、メチルエチルケトン、メ
チルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、アセ
トニルアセトンなど)。 上記した極性溶剤の少なくとも一種を、2〜99
重量%で用いることが好ましい。 本発明の現像液は上記した現像液溶媒または混
合液に水を0.1〜30重量%、好ましくは1〜15重
量%添加することにより構成される。また適当な
乳化剤でエマルジヨンとしたものや染料を添加し
たものも使用できる。 本発明で用いられる光はくり性感光層とは特願
昭54−156871で提案されたようなものからなるも
のである。 即ち、光はくり性感光層とは、現像により、露
光部感光層が実質的に除去されることなく、その
上のシリコーンゴム層が除去されるものである。 このような光はくり性感光層は、公知の光可溶
化型感光性化合物を多官能化合物で架橋せしめる
か、あるいは光可溶化型感光性化合物中の活性基
を単官能化合物と結合するなどして変性し、現像
液に難溶もしくは不溶とすることにより得られ
る。 ここでいう光可溶化型感光性化合物としては、
通常ポジ型PS版、ワイポン版、フオトレジスト
などに用いられているキノンジアジド類、例えば
ベンゾキノン−1,2−ジアジドスルホン酸とポ
リヒドロキシフエニルとのエステル、ナフトキノ
ン−1,2−ジアジドスルホン酸とピロガロール
アセトン樹脂とのエステル、ナフトキノン−1,
2−ジアジドスルホン酸とフエノールホルムアル
デヒドノボラツク樹脂とのエステルなど、あるい
はジアゾ化合物の無機酸や有機酸とのコンプレツ
クス、例えばジアゾジフエニルアミンとリンタン
グステン酸との感光性コンプレツクスなどがあげ
られる。 このような光可溶化型感光性化合物に架橋構造
を導入せしめる方法としては、該感光性化合物が
有する反応性基、例えば水酸基、アミノ基などを
多官能性の架橋剤で架橋せしめる方法があげられ
る。 架橋剤としては多官能性イソシアナート類、例
えば、パラフエニレンジイソシアナート、2,4
−または2,6−トルエンジイソシアナート、
4,4−ジフエニルメタンジイソシアナート、ヘ
キサメチレンジイソシアナート、イソホロンジイ
ソシアナート、もしくはこれらのアダクト体な
ど、或いは多官能エポキシ化合物、例えばポリエ
チレングリコールジグリシジルエーテル類、ポリ
プロピレングリコールジグリシジルエーテル類、
ビスフエノールAジグリシジルエーテル、トリメ
チロールプロパントリグリシジルエーテルなどが
ある。これらの熱硬化は感光性物質の感光性を失
わせない範囲、通常130℃以下で行う必要があり、
このために触媒等が併用される。 また光可溶化型感光性化合物に、現像液に難溶
もしくは不溶の成分を導入する方法としては、同
様に該感光性化合物の活性な基を、例えばエステ
ル化、アミド化、ウレタン化することなどがあげ
られる。感光性化合物の活性な基と反応させる化
合物としては低分子であつても、比較的高分子で
あつても良いし、感光性化合物にモノマをグラフ
ト重合させても良い。 本発明で用いられる感光層として特に好ましい
ものは、ナフトキノン−1,2−ジアジド−5−
スルホン酸とフエノールホルムアルデヒドノボラ
ツク樹脂の部分エステル化物を多官能もしくは単
官能イソシアネートで架橋もしくは変性して得ら
れる。 光はくり性感光層の厚さは約0.1〜100μ、好ま
しくは約0.5〜10μが適当で、薄すぎると塗工時に
ピンホール等の欠陥が生じ易くなり、一方厚すぎ
ると経済的見地から不利である。 また感光層中には本発明の効果を損わない範囲
で塗膜形成性向上や支持体との接着性向上などの
目的で他成分を加えたり、また現像時あるいは露
光時に画像を可視化するために染料などを加えた
りすることは可能である。 本発明に用いられるシリコーンゴム層は、次の
ようなくり返し単位を有する分子量数千〜数十万
の線状有機ポリシロキサンを主成分とする。 ここでnは1以上の整数、Rは炭素数1〜10の
アルキル基、アルケニル基あるいはフエニル基で
あり、Rの60%以上がメチル基であるものが好ま
しい。このような線状有機ポリシロキサンは有機
過酸化物を添加して熱処理等を施すことにより、
まばらに架橋しシリコーンゴムとすることも可能
である。 この線状有機ポリシロキサンにはまた架橋剤が
添加される。架橋剤としては、いわゆる室温(低
温)硬化型のシリコーンゴムに使われるものとし
て、アセトキシシラン、ケトオキシムシラン、ア
ルコキシシラン、アミノシラン、アミドシランな
どがあり、通常線状有機ポリシロキサンとして末
端が水酸基であるものとくみ合わせて、各々脱酢
酸型、脱オキシム型、脱アルコール型、脱アミン
型、脱アミド型のシリコーンゴムとなる。これら
のシリコーンゴムには、更に触媒として少量の有
機スズ化合物等が添加されるのが一般的である。 シリコーンゴム層の厚さは、約0.5〜100μ、好
ましくは約0.5〜10μが適当であり、薄すぎる場合
は耐刷力の点で問題を生じることがあり、一方厚
すぎる場合は経済的に不利であるばかりでなく、
現像時シリコーンゴム層を除去するのが困難とな
り画像再現性の低下をもたらす。 本発明の平版印刷版において、支持体と感光
層、感光層とシリコーンゴム層との接着は、画像
再現性、耐刷力などの基本的な版性能にとり、非
常に重要であるので、必要に応じて各層間に接着
剤層を設けたり、各層に接着改良性成分を添加し
たりすることが可能である。特に感光層とシリコ
ーンゴム層間の接着のために、層間に公知のシリ
コーンプライマやシランカツプリング剤層を設け
たり、シリコーンゴム層あるいは感光層にシリコ
ーンプライマやシランカツプリング剤を添加する
と効果的である。 支持体としては、通常の平版印刷機にセツトで
きるたわみ性と印刷時に加わる荷重に耐えうるも
のでなければならない。代表的なものとしてはア
ルミ、銅、鋼等の金属板、ポリエチレンテレフタ
レートのようなプラスチツクフイルムあるいはコ
ート紙等があげられる。これらのシート上にハレ
ーシヨン防止その他の目的でさらにコーテイング
を施して支持体とすることも可能である。 以上説明したようにして構成された湿し水不要
の平版印刷版の表面を形成するシリコーンゴム層
の表面に薄い保護フイルムをラミネートすること
もできる。 以上説明したように本発明に用いられる湿し水
不要の平版印刷版は、例えば次のようにして製造
される。まず支持体のうえに、リバースロールコ
ータ、エアーナイフコータ、メーヤバーコータな
どの通常のコータあるいはホエラーのような回転
塗布装置を用い感光層を構成すべき組成物溶液を
塗布、乾燥および必要に応じて熱キユア後、必要
ならば該感光層のうえに同様な方法で接着層を塗
布、乾燥後、シリコーンガム溶液を接着層上に同
様の方法で塗布し、通常100〜130℃の温度で数分
間熱処理して、十分に硬化せしめてシリコーンゴ
ム層を形成する。必要ならば、保護フイルムを該
シリコーンゴム層上にラミネーター等を用いカバ
ーする。 このようにして製造された湿し水不要の平版印
刷版は、例えば真空密着されたネガフイルムを通
して活性光線に露光される。この露光工程で用い
られる光源は、紫外線を豊富に発生するものであ
り、水銀灯、カーボンアーク灯、キセノンラン
プ、メタルハライドランプ、螢光灯などを使うこ
とができる。 次いで露光ずみの版の表面を本発明の現像液を
用いて、現像用パツドでこすると、露光部のシリ
コーンゴム層のみが除去され、架橋されたり、変
性されることにより現像液に不溶となつている感
光層は実質的にその厚みを減じることなく残存
し、その露出した感光層表面がインキ受容部とな
る湿し水不要ネガ型平版印刷版を与える。 本発明の現像液を適用することにより、従来よ
りも短い現像時間で微小網点の再現性がより良好
で、かつ現像時の湿度による影響が著しく受けに
くい、現像性の安定した印刷版が得られる。 以下に実施例をあげて本発明を詳細に説明す
る。 実施例1 比較例1 (A)住友金属製、化成処理アルミ板(厚さ0.3mm)
に下記の感光層組成物を回転塗布し、120℃、2
分加熱処理して厚さ2.6μの感光層を設けた。 (a) エステル化度44%のフエノールノボラツク樹
脂(スミライトレジンPR 50235、住友デユレ
ンス製のナフトキノン−1,2−ジアジド−5
−スルホン酸エステル 100部 (b) 4,4′−ジフエニルメタンジイソシアナート
20部 (c) ジブチルスズジラウレート 0.2部 (d) メチルセロソルブアセテート 2000部 続いてこの上に下記の組成のシリコーンゴム組
成物を回転塗布後、120℃、2分で加熱硬化して
厚み2.2μのシリコーンゴム層を設けた。 (a) ジメチルポリシロキサン (分子量約80000末端水酸基) 100部 (b) エチルトリアセトキシシラン 5部 (c) ジブチルスズジアセテート 0.2部 (d) γ−アミノプロピルトリエトキシシラン 3部 (e) アイソパーE (エツソ石油化学製脂肪族炭化水素) 1650部 上記のようにして得られた印刷原版に網点面積
率を段階的に変えたネガフイルム(150線、1%
〜99%)を真空密着し、メタルハライドランプ
2kwで1mの距離から30秒露光した。 第1表に示すような現像液を用いて露光ずみの
版をそれぞれ現像し湿し水不要ネガ型平版印刷版
を得た。これらの現像液によつて得られた印刷版
の現像に要した時間および印刷版の網点再現域に
ついての結果を第1表に示す。なお第1表中、ア
イソパーHはエツソ石油化学製脂肪族炭化水素で
ある。
The present invention relates to a plate-making method for negative-working lithographic printing plates that do not require dampening water, and particularly to a plate-making method characterized by using a novel developer. A lithographic printing plate that does not require dampening water and has a silicone rubber layer as an ink repellent layer, and is a negative-working plate material, for example, has a silicone rubber layer provided on a light-releasable photosensitive layer provided on a support. A pre-sensitized one is proposed in Japanese Patent Application No. 156871/1983 (Japanese Patent Application Laid-open No. 80046/1983). These plate materials are usually plate-made by an exposure and development process at the same time as the PS plate, and a developer mainly using a combination of an aliphatic hydrocarbon and a polar solvent is used. A sharp image can be formed on the printing plate using such a solvent-mixed developer, but if the development speed is slow and the development operation is insufficient, a silicone rubber layer will remain in the image area, causing minute particles to form. This results in a printing plate with poor halftone reproducibility. Also,
A developing operation using such a developer has the disadvantage that it is susceptible to the influence of humidity during development. The present invention provides a developer that overcomes these drawbacks, has a high development speed, and is less affected by humidity. In the present invention, after exposure of a negative-working lithographic printing plate that does not require dampening water and consists of a photoreleasable photosensitive layer provided on a support and a silicone rubber layer thereon, (A) hydrocarbons of 20 to
97%, (B) polar solvents 2-99% and (C) water 0.1-30%
The present invention relates to a plate-making method for a negative-working lithographic printing plate that does not require dampening water and is characterized in that substantially only the silicone rubber layer in the exposed area is removed using a mixed solution consisting of %. Hydrocarbons used as a developer in the present invention include those capable of swelling silicone rubber, such as aliphatic hydrocarbons (pentane, hexane, heptane, octane, gasoline,
Kerosene, light oil, heavy oil, etc.) can be conveniently applied.
Gasoline and kerosene are routinely used in general printing work sites for the purpose of washing away ink from printing machines and printing plates, and there is no objection to using them as developing solutions. Of course, aromatic hydrocarbons (toluene, xylene, etc.) or halogenated hydrocarbons (triclene, carbon tetrachloride, etc.) can also be used. The content of hydrocarbons in the developer is 0 to 97% by weight. As polar solvents, those shown below are generally useful. Alcohols (methanol, ethanol, n-
propanol, isopropanol, 3-methoxybutanol, 3-methyl-3-methoxybutanol, diacetone alcohol, etc.). Ethers (dioxane, tetrahydrofuran, methyl cellosolve, ethyl cellosolve, butyl cellosolve, ethylene glycol diethyl ether, diethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol monoethyl ether,
diethylene glycol diethyl ether, diethylene glycol monobutyl ether, triethylene glycol monomethyl ether, triethylene glycol dimethyl ether, tetraethylene glycol monomethyl ether, tetraethylene glycol dimethyl ether, tetrahydrofurfuryl alcohol, etc.). Esters (methyl acetoacetate, ethyl acetoacetate, methyl cellosolve acetate, ethyl cellosolve acetate, diethylene glycol monomethyl ether acetate, diethylene glycol monoethyl acetate, diethylene glycol monobutyl ether acetate, glycol diacetate, ethyl lactate, methyl propionate, ethyl propionate,
dimethyl malonate, diethyl malonate, dimethyl succinate, diethyl succinate, dimethyl adipate, etc.). Ketones (acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone, acetonylacetone, etc.). At least one of the above polar solvents,
Preferably, it is used in % by weight. The developer of the present invention is constituted by adding 0.1 to 30% by weight, preferably 1 to 15% by weight of water to the developer solvent or mixed solution described above. Also, emulsions made with a suitable emulsifier or dyes added can also be used. The light-reflecting photosensitive layer used in the present invention is the one proposed in Japanese Patent Application No. 156871/1983. That is, the light-peeling photosensitive layer is one in which the silicone rubber layer thereon is removed by development without substantially removing the exposed portion of the photosensitive layer. Such a light-peeling photosensitive layer can be produced by crosslinking a known photo-solubilizable photosensitive compound with a polyfunctional compound, or by bonding an active group in the photo-solubilizable photosensitive compound with a monofunctional compound. It can be obtained by modifying the resin to make it poorly soluble or insoluble in a developer. The photo-solubilizable photosensitive compound mentioned here is
Quinone diazides usually used in positive PS plates, Wipon plates, photoresists, etc., such as esters of benzoquinone-1,2-diazide sulfonic acid and polyhydroxyphenyl, naphthoquinone-1,2-diazide sulfonic acid and pyrogallol acetone resin, naphthoquinone-1,
Examples include esters of 2-diazide sulfonic acid and phenol formaldehyde novolac resin, or complexes of diazo compounds with inorganic or organic acids, such as photosensitive complexes of diazodiphenylamine and phosphotungstic acid. . A method for introducing a crosslinked structure into such a photo-solubilized photosensitive compound includes a method of crosslinking reactive groups such as hydroxyl groups and amino groups of the photosensitive compound with a polyfunctional crosslinking agent. . As a crosslinking agent, polyfunctional isocyanates such as paraphenylene diisocyanate, 2,4
- or 2,6-toluene diisocyanate,
4,4-diphenylmethane diisocyanate, hexamethylene diisocyanate, isophorone diisocyanate, or adducts thereof, or polyfunctional epoxy compounds such as polyethylene glycol diglycidyl ethers, polypropylene glycol diglycidyl ethers,
Examples include bisphenol A diglycidyl ether and trimethylolpropane triglycidyl ether. These thermal curing processes must be carried out within a range that does not cause loss of photosensitivity of the photosensitive material, usually at 130°C or lower.
For this purpose, a catalyst or the like is used in combination. In addition, methods for introducing components that are poorly soluble or insoluble in a developer into a photo-solubilized photosensitive compound include similarly esterifying, amidating, or urethanizing the active group of the photosensitive compound. can be given. The compound to be reacted with the active group of the photosensitive compound may be a low-molecular compound or a relatively high-molecular compound, or a monomer may be graft-polymerized to the photosensitive compound. A particularly preferred photosensitive layer for use in the present invention is naphthoquinone-1,2-diazide-5-
It is obtained by crosslinking or modifying a partially esterified product of sulfonic acid and phenol formaldehyde novolak resin with a polyfunctional or monofunctional isocyanate. The appropriate thickness of the photosensitive layer with light stripping properties is about 0.1 to 100μ, preferably about 0.5 to 10μ.If it is too thin, defects such as pinholes will easily occur during coating, while if it is too thick, it will be disadvantageous from an economic standpoint. It is. In addition, other components may be added to the photosensitive layer for the purpose of improving coating film formation properties and adhesion to the support within a range that does not impair the effects of the present invention, or to make images visible during development or exposure. It is possible to add dyes etc. The silicone rubber layer used in the present invention is mainly composed of a linear organic polysiloxane having a molecular weight of several thousand to several hundred thousand and having the following repeating units. Here, n is an integer of 1 or more, R is an alkyl group, alkenyl group, or phenyl group having 1 to 10 carbon atoms, and preferably 60% or more of R is a methyl group. Such linear organic polysiloxanes can be made by adding organic peroxides and subjecting them to heat treatment, etc.
It is also possible to form a silicone rubber by sparsely crosslinking. A crosslinking agent is also added to the linear organopolysiloxane. Crosslinking agents used in so-called room temperature (low temperature) curing silicone rubber include acetoxysilane, ketoxime silane, alkoxysilane, aminosilane, amidosilane, etc., and are usually linear organic polysiloxanes with hydroxyl groups at the ends. When combined, they become deaceticated, oxime-free, alcohol-dealt, deamined, and deamidated silicone rubbers. Generally, a small amount of an organic tin compound or the like is further added as a catalyst to these silicone rubbers. The appropriate thickness of the silicone rubber layer is approximately 0.5 to 100μ, preferably approximately 0.5 to 10μ; if it is too thin, it may cause problems in terms of printing durability, while if it is too thick, it is economically disadvantageous. Not only is it
It becomes difficult to remove the silicone rubber layer during development, resulting in a decrease in image reproducibility. In the lithographic printing plate of the present invention, adhesion between the support and the photosensitive layer, and between the photosensitive layer and the silicone rubber layer is very important for basic plate performance such as image reproducibility and printing durability, so it is necessary to Accordingly, it is possible to provide an adhesive layer between each layer or to add an adhesion-improving component to each layer. In particular, for adhesion between the photosensitive layer and the silicone rubber layer, it is effective to provide a known silicone primer or silane coupling agent layer between the layers, or to add a silicone primer or silane coupling agent to the silicone rubber layer or photosensitive layer. . The support must be flexible enough to be set in a normal lithographic printing machine and capable of withstanding the load applied during printing. Typical examples include metal plates such as aluminum, copper, and steel, plastic films such as polyethylene terephthalate, and coated paper. It is also possible to provide a support by further applying a coating to these sheets for antihalation and other purposes. A thin protective film may also be laminated on the surface of the silicone rubber layer forming the surface of the planographic printing plate that does not require dampening water and is constructed as described above. As explained above, the lithographic printing plate that does not require dampening water and is used in the present invention is manufactured, for example, as follows. First, a composition solution to form a photosensitive layer is applied onto a support using a normal coater such as a reverse roll coater, an air knife coater, a Meyer bar coater, or a rotary coater such as a Whaler, and then dried and coated as necessary. After heat curing, if necessary, an adhesive layer is applied on the photosensitive layer in the same manner. After drying, a silicone gum solution is applied on the adhesive layer in the same manner and cured for several times at a temperature of usually 100 to 130°C. Heat treatment is performed for a minute to fully cure and form a silicone rubber layer. If necessary, cover the silicone rubber layer with a protective film using a laminator or the like. The thus produced lithographic printing plate, which does not require dampening water, is exposed to actinic light through, for example, a negative film sealed in vacuum. The light source used in this exposure process is one that generates abundant ultraviolet light, and can be a mercury lamp, a carbon arc lamp, a xenon lamp, a metal halide lamp, a fluorescent lamp, or the like. Next, when the surface of the exposed plate is rubbed with a developer pad using the developer of the present invention, only the silicone rubber layer in the exposed area is removed and becomes insoluble in the developer due to crosslinking or modification. The exposed photosensitive layer remains without substantially reducing its thickness, and the exposed surface of the photosensitive layer serves as an ink receiving area to provide a negative-working lithographic printing plate that does not require dampening water. By applying the developer of the present invention, a printing plate with stable developability, which has better reproducibility of minute halftone dots in a shorter development time than conventional ones and is significantly less affected by humidity during development, can be obtained. It will be done. The present invention will be explained in detail by giving examples below. Example 1 Comparative Example 1 (A) Chemical conversion treated aluminum plate (0.3 mm thick) manufactured by Sumitomo Metals
The following photosensitive layer composition was spin-coated onto
A photosensitive layer having a thickness of 2.6 μm was formed by heat treatment for 20 minutes. (a) Phenol novolac resin with a degree of esterification of 44% (Sumilight Resin PR 50235, naphthoquinone-1,2-diazide-5 manufactured by Sumitomo Duerens)
-Sulfonic acid ester 100 parts (b) 4,4'-diphenylmethane diisocyanate
20 parts (c) 0.2 parts of dibutyltin dilaurate (d) 2000 parts of methyl cellosolve acetate Next, a silicone rubber composition with the following composition was spin-coated on top of this, and the silicone rubber composition was cured by heating at 120°C for 2 minutes to form a silicone with a thickness of 2.2μ. A rubber layer was provided. (a) Dimethylpolysiloxane (molecular weight approx. 80,000 terminal hydroxyl group) 100 parts (b) Ethyltriacetoxysilane 5 parts (c) Dibutyltin diacetate 0.2 parts (d) γ-aminopropyltriethoxysilane 3 parts (e) Isopar E ( 1,650 copies (Etsuso Petrochemical Co., Ltd., aliphatic hydrocarbon) Negative film (150 lines, 1%
~99%) vacuum-adhered metal halide lamp
Exposure was done for 30 seconds at 2kw from a distance of 1m. Each of the exposed plates was developed using a developer shown in Table 1 to obtain a negative planographic printing plate that did not require dampening water. Table 1 shows the results regarding the time required to develop the printing plates and the halftone dot reproduction area of the printing plates obtained using these developers. In Table 1, Isopar H is an aliphatic hydrocarbon manufactured by Etsuso Petrochemical.

【表】【table】

【表】 水を含むNo.2,No.4,No.6,No.8の現像液を用
いると、露光部のシリコーンゴム層のみが除去さ
れ、かついずれの場合も網点再現域は1〜98%以
上であつた。比較例として、水を含まないNo.1,
No.3,No.5,No.7の現像液を用いた場合は、露光
部のシリコーン層のみが除去されるが、現像時間
が長くかかり、網点再現性も不十分である。さら
に冬期のような乾燥した時期は現像できない場合
もある。 実施例2 比較例2 厚み0.24mmのアルミ板(住友軽金属製)にレゾ
ール樹脂(スミライトレジンPC−1、住友デユ
レズ製)を2μの厚みに塗布し、180℃、3分間キ
ユアして支持体とした。この支持体上に下記の感
光層組成物を回転塗布、120℃、2分間加熱硬化
させ、厚み2.4μの感光層を設けた。 (a) フエノールノボラツク樹脂のナフトキノン−
1,2−ジアジド−5−スルホン酸エステル
(実施例1のもの) 100部 (b) 2,6−トルエンジイソシアナート 20部 (c) ジブチルスズジラウレート 0.2部 (d) ジオキサン 2000部 この上にγ−アミノプロピルトリエトキシシラ
ン(ユニオンカーバイド製、“A1100”0.5重量%
“アイソパーE”(エツソ製)溶液をホエラーで回
転塗布し、1日放置後、この上に下記の組成を持
つシリコーンゴム組成液を回転塗布し、120℃、
2分間加熱硬化させて2.1μのシリコーンゴム層を
設けた。 (a) ジメチルポリシロキサン(分子量約80000、
末端水酸基) 100部 (b) ビニルトリメチルエチルケトキシム)シラン
8部 (c) ジブチルスズジアセテート 0.2部 (d) アイソパーE 1800部 上記のようにして得られた印刷原版に真空密着
した150線の網点画像を持つネガフイルムを通し
てメタルハライドランプ2kwを用い1mの距離か
ら60秒露光した。現像時の雰囲気の相対湿度が35
〜80%の状態で従来から用いられている現像液
(アイソパーE/エタノール=35/65)に露光ず
みの版を浸漬し、現像パツドで版の表面を軽くこ
すると露光部シリコーンゴム層のみが除去されて
感光層表面が露出し、原画フイルムに忠実な画像
が得られる。しかし現像時の雰囲気の相対湿度が
35%以下になると現像速度が著しく低下し忠実に
画像の再現性ができなくなり現像不良の状態にな
りやすい。 さらに、湿度が80%以上になると現像速度が著
しく早くなるなど現像性が一定しない。ところ
が、この現像液に水を3部添加すると現像時の湿
度に影響されずいつも現像性が一定になり、作業
性が向上する。また網点再現域も150線、1%〜
99%といつも安定した印刷版が得られた。
[Table] When using developing solutions No. 2, No. 4, No. 6, and No. 8 containing water, only the silicone rubber layer in the exposed area is removed, and in each case, the halftone dot reproduction area is 1. It was ~98% or more. As a comparative example, No. 1, which does not contain water,
When developing solutions No. 3, No. 5, and No. 7 are used, only the silicone layer in the exposed areas is removed, but the development time is long and the halftone dot reproducibility is insufficient. Furthermore, developing may not be possible during dry periods such as winter. Example 2 Comparative Example 2 A resol resin (Sumilight Resin PC-1, manufactured by Sumitomo Durez) was coated to a thickness of 2μ on an aluminum plate (manufactured by Sumitomo Light Metals) with a thickness of 0.24 mm, and cured at 180°C for 3 minutes to form a support. And so. On this support, the following photosensitive layer composition was spin-coated and cured by heating at 120° C. for 2 minutes to form a photosensitive layer having a thickness of 2.4 μm. (a) Naphthoquinone in phenolic novolac resin
1,2-diazide-5-sulfonic acid ester (from Example 1) 100 parts (b) 2,6-toluene diisocyanate 20 parts (c) Dibutyltin dilaurate 0.2 parts (d) Dioxane 2000 parts On top of this, γ -Aminopropyltriethoxysilane (manufactured by Union Carbide, “A1100” 0.5% by weight
A solution of "Isopar E" (manufactured by Etsuso) was spin-coated using a Whaler, and after leaving it for one day, a silicone rubber composition liquid having the composition below was spin-coated on top of the solution and heated at 120℃.
A silicone rubber layer of 2.1 μm was formed by heating and curing for 2 minutes. (a) Dimethylpolysiloxane (molecular weight approximately 80,000,
(terminal hydroxyl group) 100 parts (b) Vinyltrimethylethylketoxime)silane
8 parts (c) 0.2 parts of dibutyltin diacetate (d) 1800 parts of Isopar E A negative film with a 150-line halftone image that was vacuum-adhered to the printing original plate obtained as above was passed through it at a distance of 1 m using a 2 kW metal halide lamp. It was exposed for 60 seconds. The relative humidity of the atmosphere during development is 35
When the exposed plate is immersed in a conventional developer (Isopar E/ethanol = 35/65) at ~80% concentration and the surface of the plate is lightly rubbed with a developing pad, only the exposed silicone rubber layer is removed. When removed, the surface of the photosensitive layer is exposed and an image faithful to the original film is obtained. However, the relative humidity of the atmosphere during development
If it is less than 35%, the development speed will drop significantly, making it impossible to faithfully reproduce the image, resulting in poor development. Furthermore, when the humidity exceeds 80%, the development speed becomes significantly faster and the developability becomes inconsistent. However, when 3 parts of water is added to this developer, the developability is always constant without being affected by the humidity during development, and workability is improved. Also, the halftone reproduction area is 150 lines, 1% ~
A stable printing plate of 99% was always obtained.

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 1 支持体上に設けられた光剥離性感光層とその
上のシリコーンゴム層とからなる湿し水不要ネガ
型平版印刷版を露光後、(A)炭化水素類20〜97%、
(B)極性溶剤類2〜99%および(C)水0.1〜30%から
なる混合液を用いて、実質的に露光部分のシリコ
ーンゴム層のみを除去することを特徴とする湿し
水不要ネガ型平版印刷版の製版方法。
1 After exposure of a negative-working lithographic printing plate that does not require dampening water and consists of a photoreleasable photosensitive layer provided on a support and a silicone rubber layer thereon, (A) 20 to 97% hydrocarbons;
Negatives that do not require dampening water, characterized in that substantially only the silicone rubber layer in the exposed areas is removed using a mixed solution consisting of (B) 2 to 99% of polar solvents and (C) 0.1 to 30% of water. Plate making method for lithographic printing plates.
JP13327881A 1981-08-27 1981-08-27 Method for making negative lithographic plate requiring no dampening water Granted JPS5835539A (en)

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JPS6028655A (en) * 1983-07-27 1985-02-13 Toray Ind Inc Developing liquid for lithographic plate using no dampening water
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JPS5489805A (en) * 1977-12-27 1979-07-17 Toray Industries Makeup method of planographic printing plate
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JPS5713448A (en) * 1980-06-30 1982-01-23 Toray Ind Inc Developing solution for use in lithographic plate requiring no dampening water

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