JP2530693B2 - Plate making method of waterless lithographic printing plate - Google Patents

Plate making method of waterless lithographic printing plate

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JP2530693B2
JP2530693B2 JP22304688A JP22304688A JP2530693B2 JP 2530693 B2 JP2530693 B2 JP 2530693B2 JP 22304688 A JP22304688 A JP 22304688A JP 22304688 A JP22304688 A JP 22304688A JP 2530693 B2 JP2530693 B2 JP 2530693B2
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plate
printing plate
photosensitive layer
silicone rubber
image
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幹雄 津田
昌也 浅野
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Toray Industries Inc
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【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は水なし平版印刷版の製版方法に関するもので
あり、特にキノンジアジト化合物を感光性成分とする感
光材料を用いたポジティブワーキング用水なし平版印刷
版の製版方法に関するものである。
TECHNICAL FIELD The present invention relates to a plate-making method for a waterless planographic printing plate, and particularly to a positive working waterless planographic printing using a photosensitive material containing a quinonediazite compound as a photosensitive component. The present invention relates to a plate making method.

[従来技術] 感光層、シリコーンゴム層からなる水なし平版印刷版
としては、種々のものが知られている。中でも、支持体
上にキノンジアジド構造を含む物質を構成成分とする感
光層およびシリコーンゴム層をこの順に設けてなる画像
形成用積層体を塩基処理することによって、ネガ、ポジ
両性タイプの水なし平版印刷版を得る方法は、特開昭59
−17552に開示されているように、水なし平版印刷版の
画像再現性、耐溶剤性、現像性などを含めた現像ラチチ
ュードを広げ、かつネガ型とポジ型の版が同一の版材か
らできること等の優れた特徴を有している。
[Prior Art] Various waterless planographic printing plates comprising a photosensitive layer and a silicone rubber layer are known. Among them, negative and positive amphoteric waterless lithographic printing is carried out by subjecting an image forming laminate comprising a photosensitive layer having a substance containing a quinonediazide structure as a constituent and a silicone rubber layer on a support in this order to a base treatment. A method for obtaining a plate is described in JP-A-59
-17552, the development latitude including image reproducibility, solvent resistance, developability, etc. of waterless planographic printing plates can be expanded, and negative and positive plates can be made from the same plate material. It has excellent features such as.

しかしながら、上記のような版材からポジ型の水なし
平版印刷版を得る場合は、ネガ型の水なし平版印刷版を
得る場合よりも、現像ラチチュードが狭く、またポジテ
ィブワーキングとネガティブワーキングを同一の現像液
を用いて行えないなどの欠点を有している。
However, when a positive type waterless lithographic printing plate is obtained from the above plate material, the development latitude is narrower than in the case of obtaining a negative type waterless lithographic printing plate, and the positive working and the negative working are the same. It has the drawback that it cannot be performed using a developer.

本発明者らは、かかる問題点を改良すべく鋭意検討し
た結果、製版方法を工夫することにより上記問題点が良
好に解決できることを見出し本発明に到達したものであ
る。
The present inventors have made earnest studies to improve such problems, and as a result, they have found that the above problems can be satisfactorily solved by devising a plate making method, and arrived at the present invention.

[発明が解決しようとする課題] 従って、本発明の目的は、ポジ型の水なし平版印刷版
を得る場合にも現像ラチチュードを大幅に広げることが
できるとともにポジティブワーキングとネガティブワー
キングとを同一の現像液を用いて行なうことのできる水
なし平版印刷版の製版方法を提供することにある。
[Problems to be Solved by the Invention] Therefore, an object of the present invention is to significantly expand the development latitude even when a positive type waterless planographic printing plate is obtained, and to perform positive working and negative working in the same development. Another object of the present invention is to provide a method of making a waterless planographic printing plate that can be performed using a liquid.

[課題を解決するための手段] かかる本発明の目的は、支持体上にキノンジアジド構
造を含む物質を構成成分とする感光層およびシリコーン
ゴム層をこの順に設けてなる水なし平版印刷版を、画像
露光した後、塩基処理を施し、次いで全面露光を施した
後、現像処理を施すことを特徴とする水なし平版印刷版
の製版方法により達成される。
[Means for Solving the Problems] An object of the present invention is to provide a waterless lithographic printing plate having a photosensitive layer and a silicone rubber layer each having a substance containing a quinonediazide structure as a constituent on a support in this order. This is accomplished by a method for making a waterless planographic printing plate characterized by performing a base treatment after exposure, then exposing the entire surface, and then developing.

本発明の水なし平版印刷版の製版方法は、特にポジ型
の水なし平版印刷版を得る場合に好適に使用される。
The method for making a waterless lithographic printing plate of the present invention is preferably used particularly for obtaining a positive type waterless lithographic printing plate.

本発明において使用される水なし平版印刷版は、支持
体に裏打ちされた感光層および該感光層の上にシリコー
ンゴム層を設けた公知のものである。
The waterless planographic printing plate used in the present invention is a known one having a photosensitive layer backed by a support and a silicone rubber layer provided on the photosensitive layer.

このような水なし平版印刷版からポジ型の水なし平版
印刷版を作製するには、例えば前記構成の水なし平版印
刷版にポジフィルムまたはポジ原画を用いて画像露光、
好ましくは画像露光部の感光層中のキノンジアジド構造
を含む物質のキノンジアジド単位の5〜60モル%が光分
解するに足る程度の量の露光を施し、次いでアミン化合
物などで塩基処理を施した後、全面露光、好ましくは感
光層中のキノンジアジド構造を含むキノンジアジド単位
の6〜100モル%が光分解するに足る量の露光を施し、
続いて現像処理を施すことによって、ポジ型の水なし平
版印刷版を得ることができる。
To prepare a positive type waterless lithographic printing plate from such a waterless lithographic printing plate, for example, image exposure using a positive film or a positive original image to the waterless lithographic printing plate having the above-mentioned structure,
Preferably, 5-60 mol% of the quinonediazide unit of the substance containing a quinonediazide structure in the photosensitive layer of the image-exposed area is exposed to an amount sufficient for photolysis, and then subjected to a base treatment with an amine compound or the like, The entire surface is exposed, preferably 6 to 100 mol% of the quinonediazide unit containing a quinonediazide structure in the photosensitive layer is exposed to an amount sufficient for photolysis.
Subsequently, by performing a developing treatment, a positive type waterless planographic printing plate can be obtained.

かかる水なし平版印刷版からポジ型の水なし平版印刷
版を作製するうえで塩基処理と全面露光は重要な役割を
はたす。すなわち、キノンジアジド構造を含む物質のキ
ノンジアジド単位の5〜60モル%が光分解するように画
像露光された部分は、塩基処理を行なうとその上の上部
にあるシリコーンゴム層との接着力が向上し、かつその
耐溶剤性も著しく向上するため、後工程で全面露光を施
した後、現像処理を行なっても該感光層上にあるシリコ
ーンゴム層は除去されることなく感光層とシリコーンゴ
ム層とが共に支持体上に残存して非画線部を形成する。
In producing a positive type waterless lithographic printing plate from such a waterless lithographic printing plate, the base treatment and whole surface exposure play important roles. That is, a portion of the substance containing a quinonediazide structure, which is image-exposed so that 5 to 60 mol% of the quinonediazide unit is photolyzed, undergoes a base treatment to improve the adhesive force with the silicone rubber layer above the base. In addition, since the solvent resistance thereof is also remarkably improved, the silicone rubber layer on the photosensitive layer is not removed even after development is performed after the entire surface is exposed in the subsequent step and the photosensitive layer and the silicone rubber layer are not removed. Both remain on the support to form a non-image area.

また画像露光されなかった部分は塩基処理を行なう
と、その上部にあるシリコーンゴム層との接着力が逆に
低下し、または感光層の耐溶剤性も低下し、続いて全面
露光を施して現像処理を行なうことにより現像性は大幅
に向上し、該感光層上にあるシリコーンゴム層またはシ
リコーンゴム層と感光層は容易に除去され、画線部を形
成する。
When the base that has not been image-exposed is subjected to a base treatment, the adhesive force with the silicone rubber layer on top of it is reduced, or the solvent resistance of the photosensitive layer is also reduced. By performing the treatment, the developability is significantly improved, and the silicone rubber layer or the silicone rubber layer and the photosensitive layer on the photosensitive layer are easily removed to form an image area.

このように画像露光部と画像露光されなかった部分の
感光層とシリコーンゴム層間の接着力の差および耐溶剤
性の差が大きくなることにより、現像性が大幅に向上
し、現像ラチチュードが広がる。
In this way, the difference in the adhesive force and the difference in the solvent resistance between the photosensitive layer and the silicone rubber layer in the image-exposed area and the area not exposed to the image become large, so that the developability is greatly improved and the development latitude is expanded.

本発明において画像露光工程および全面露光工程で用
いられる光源は、紫外線を豊富に発生するものであり、
水銀灯、カーボンアーク灯、キセノンランプ、メタルハ
ライドランプ、ケミカル灯、螢光灯などを使うことがで
きる。
In the present invention, the light source used in the image exposure step and the overall exposure step is one that abundantly generates ultraviolet rays,
Mercury lamps, carbon arc lamps, xenon lamps, metal halide lamps, chemical lamps, fluorescent lamps, etc. can be used.

本発明で用いられる支持体は特に限定されず、通常の
水なし平版印刷版で用いられるもの、あるいは提案され
ているものが使用できる。
The support used in the present invention is not particularly limited, and those used in ordinary waterless planographic printing plates or those proposed can be used.

例えば、アルミ、鉄、亜鉛のような金属板およびポリ
エステル、ポリオレフィン、ポリスチレンのような透明
または不透明なプラスチックフイルム、あるいは両者の
複合体などが挙げられる。これらのシート上にハレーシ
ョン防止その他の目的でさらに樹脂層などをコーティン
グして支持体とすることも可能である。
Examples thereof include metal plates such as aluminum, iron and zinc, and polyesters, polyolefins, transparent or opaque plastic films such as polystyrene, and composites of both. It is also possible to further coat a resin layer or the like on these sheets for the purpose of preventing halation or for other purposes to form a support.

本発明にいう感光層とは、公知のキノンジアジド構造
を含む物質から構成されているものであり、キノンジア
ジド構造を含む物質とは、通常ポジ型PS版、ワイポン
版、フオトレジストなどに用いられているキノンジアジ
ド類である。
The photosensitive layer referred to in the present invention is composed of a substance containing a known quinonediazide structure, and the substance containing a quinonediazide structure is usually used for positive PS plates, Wipon plates, photoresists and the like. It is a quinone diazide.

かかるキノンジアジド類としては、例えばベンゾキノ
ン−1,2−ジアジド−4−または−5−スルホン酸とポ
リヒドロキシフェニルとのエステル、ナフトキノン−1,
2−ジアジド−4−または−5−スルホン酸とピロガロ
ールアセトン樹脂とのエステル、ナフトキノン−1,2−
ジアジド−4−または−5−スルホン酸とフェノールホ
ルムアルデヒドノボラック樹脂またはカシュ変性ノボラ
ック樹脂とのエステルが挙げられる。また低分量のキノ
ンジアジド化合物(例えば、ナフトキノン−1,2−ジア
ジド−5−スルホン酸と、フェノール、クレゾール、キ
シレノール、カテコール、ピロガロールおよびビスフェ
ノールAなどとのエステル化物など)または上記のキノ
ンジアジド基を含む樹脂に感光性基を含まないノボラッ
ク樹脂(例えば、フェノール、クレゾール、キシレノー
ル、カテコールおよびピロガロールなどのフェノール類
とホルムアルデヒド類とを酸性触媒存在下に縮合させて
得られる可溶可融性樹脂など)を単に混合してもよい。
さらに特開昭56−80046号公報で提案されているような
キノンジアジド類を多官能化合物で架橋せしめた光剥離
性感光層が挙げられる。
Examples of such quinonediazides include benzoquinone-1,2-diazide-4- or -5-sulfonic acid and polyhydroxyphenyl ester, naphthoquinone-1,
Ester of 2-diazide-4- or -5-sulfonic acid and pyrogallolacetone resin, naphthoquinone-1,2-
Mention may be made of esters of diazide-4- or -5-sulphonic acid with phenol formaldehyde novolac resins or cash-modified novolac resins. Further, a low amount of a quinonediazide compound (for example, an esterified product of naphthoquinone-1,2-diazide-5-sulfonic acid and phenol, cresol, xylenol, catechol, pyrogallol and bisphenol A) or a resin containing the above quinonediazide group A novolac resin containing no photosensitive group (for example, a soluble fusible resin obtained by condensing phenols such as phenol, cresol, xylenol, catechol and pyrogallol with formaldehyde in the presence of an acidic catalyst) You may mix.
Further, a photo-peeling photosensitive layer obtained by crosslinking quinonediazides with a polyfunctional compound as proposed in JP-A-56-80046 can be mentioned.

架橋剤としては、多官能性イソシアナート類、例え
ば、パラフェニレンジイソシアナート、2,4−または2,6
−トリレンジイソシアナート、4,4′−ジフェニルメタ
ンジイソシアナート、ヘキサメチレンジイソシアナー
ト、イソホロンジイソシアナートもしくはこれらのアダ
クト体など、あるいは多官能エポキシ化合物、例えば、
ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル類、ポリ
プロピレングリコールジグリシジルエーテル類、ビスフ
ェノールAジグリシジルエーテル、トリメチロールプロ
パントリグリシジルエーテルなどがある。これらの熱硬
化は感光性物質の感光性を失わせない範囲、通常130℃
以下で行なうことが好ましく、このため通常触媒等が併
用される。
As the cross-linking agent, polyfunctional isocyanates, for example, paraphenylene diisocyanate, 2,4- or 2,6
-Tolylene diisocyanate, 4,4'-diphenylmethane diisocyanate, hexamethylene diisocyanate, isophorone diisocyanate or an adduct thereof, or a polyfunctional epoxy compound, for example,
There are polyethylene glycol diglycidyl ethers, polypropylene glycol diglycidyl ethers, bisphenol A diglycidyl ether, trimethylolpropane triglycidyl ether, and the like. These heat curing is within the range that does not lose the photosensitivity of the photosensitive material, usually 130 ° C.
It is preferable to carry out the following, and therefore, a catalyst or the like is usually used together.

またキノンジアジド類に単官能化合物を反応させて変
性し、現像液に難溶もしくは不溶にする方法としては、
同様に該キノンジアジド類の活性な基を例えばエステル
化、アミド化、ウレタン化することなどが挙げられる。
キノンジアジド類の活性な基と反応させる化合物として
は、低分子であっても比較的高分子であってもよいし、
キノンジアジド類にモノマをグラフト重合させてもよ
い。
In addition, as a method of making a quinonediazide a monofunctional compound and modifying it to make it hardly soluble or insoluble in a developer,
Similarly, the active group of the quinonediazide compound may be esterified, amidated or urethane-modified.
The compound that reacts with the active group of the quinonediazide may be a low molecular weight compound or a relatively high molecular weight compound,
A monomer may be graft-polymerized to the quinonediazide.

本発明で用いられる感光層として特に好ましいもの
は、ナフトキノン−1,2−ジアジド−5−スルホン酸と
フェノールホルムアルデヒドノボラック樹脂の部分エス
テル化物を多官能もしくは単官能イソシアネートで架橋
もしくは変性して得られたものである。
Particularly preferred as the photosensitive layer used in the present invention is obtained by crosslinking or modifying a partial esterified product of naphthoquinone-1,2-diazide-5-sulfonic acid and phenol formaldehyde novolac resin with a polyfunctional or monofunctional isocyanate. It is a thing.

感光層の厚さは約0.1〜100μm、好ましくは約0.5〜1
0μmが適当である。薄すぎると塗工時にピンホール等
の欠陥が生じ易くなり、一方厚すぎると経済的見地から
不利である。
The thickness of the photosensitive layer is about 0.1 to 100 μm, preferably about 0.5 to 1
0 μm is suitable. If it is too thin, defects such as pinholes are likely to occur during coating, while if it is too thick, it is disadvantageous from an economical point of view.

また感光層中には本発明の効果を損わない範囲で塗膜
形成性の向上や支持体との接着性向上などの目的で他の
成分を加えたりすることは可能である。
Further, it is possible to add other components to the photosensitive layer for the purpose of improving the film-forming property and the adhesiveness with the support, within the range that does not impair the effects of the present invention.

なお前述の画像露光または全面露光処理におけるキノ
ンジアジド構造を含む物質のキノンジアジド単位の光分
解量とは、赤外線吸収スペクトル(FT−IR−ATR法)で
感光層中のキノンジアジドのジアジド基に由来する2200
〜2000cm-1領域の吸収強度(吸収スペクトルの面積強
度)の露光による変化量、即ち、ジアジド基の光分解量
を未露光の感光層の値を基準にして求めたものである。
Incidentally, the photolysis amount of the quinonediazide unit of the substance containing a quinonediazide structure in the image exposure or the whole surface exposure treatment is 2200 derived from the diazide group of the quinonediazide in the photosensitive layer in the infrared absorption spectrum (FT-IR-ATR method).
The amount of change in absorption intensity (area intensity of absorption spectrum) in the region of up to 2000 cm −1 due to exposure, that is, the amount of photolysis of diazide groups was determined based on the value of the unexposed photosensitive layer.

またここでいうキノンジアジドの光分解とはキノンジ
アジト類について一般的に言われているもので露光によ
るキノンジアジドからカルボン酸への変化である。たと
えばナフトキノン−1,2−シアジド−5−スルホン酸と
フェノールホルムアルデヒドノボラック樹脂を例にとる
と、インデンカルボン酸である。
The photodecomposition of quinonediazide as used herein is generally referred to for quinonediazites, and is the conversion of quinonediazide to carboxylic acid upon exposure. For example, naphthoquinone-1,2-cyazide-5-sulfonic acid and phenol formaldehyde novolac resin are indenecarboxylic acids.

本発明に用いられるシリコーンゴム層は、次のような
繰り返し単位を有する分子量数千〜数十万の線状有機ポ
リシロキサンを主成分とするものが好ましく使用され
る。
The silicone rubber layer used in the present invention is preferably one containing, as a main component, a linear organic polysiloxane having the following repeating units and having a molecular weight of several thousand to several hundred thousand.

ここでnは2以上の整数、R,R′は炭素数1〜10のア
ルキル基、アルケニル基あるいはフェニル基であり、R,
R′の60%以上がメチル基であるものが好ましい。
Here, n is an integer of 2 or more, R and R'are an alkyl group, an alkenyl group or a phenyl group having 1 to 10 carbon atoms.
It is preferable that 60% or more of R'is a methyl group.

この線状有機ポリシロキサンは通常架橋剤が添加され
る。架橋剤としては、いわゆる室温(低温)硬化型のシ
リコーンゴムに使われるものとして、アセトキシシラ
ン、ケトオキシムシラン、アルコキシシラン、アミノシ
ラン、アミドシランなどがあり、通常線状有機ポリシロ
キサンとして末端が水酸基であるものと組合せて、各々
脱酢酸型、脱オキシム型、脱アルコール型、脱アミン
型、脱アミド型のシリコーンゴムとなる。これらのシリ
コーンゴムには、更に触媒として少量の有機スズ化合物
等を添加してもよい。
A crosslinking agent is usually added to this linear organic polysiloxane. As the cross-linking agent, acetoxysilane, ketoxime silane, alkoxysilane, aminosilane, amidosilane, etc. are used as a so-called room temperature (low temperature) curable silicone rubber, and a linear organic polysiloxane has a terminal hydroxyl group. In combination with these, they become deacetic acid type, deoxime type, dealcohol type, deamine type, and deamidation type silicone rubbers, respectively. A small amount of an organotin compound or the like may be added as a catalyst to these silicone rubbers.

シリコーンゴム層の厚さは、約0.5〜100μ、好ましく
約0.5〜10μが適当であり、薄すぎる場合は耐刷力の点
で問題を生じることがあり、一方厚すぎる場合は経済的
に不利であるばかりでなく現像時シリコーンゴム層を除
去するのが困難となり、画像再現性の低下をもたらす。
The thickness of the silicone rubber layer is appropriately about 0.5 to 100 μ, preferably about 0.5 to 10 μ. If it is too thin, problems may occur in printing durability, while if it is too thick, it is economically disadvantageous. In addition to this, it becomes difficult to remove the silicone rubber layer during development, resulting in deterioration of image reproducibility.

本発明に用いられる印刷版において、支持体と感光
層、感光層とシリコーンゴム層との接着は、画像再現
性、耐刷力などの基本的な版性能にとり非常に重要であ
るので、必要に応じて各層間に接着剤層を設けたり、各
層に接着改良性成分を添加したりすることが可能であ
る。特に感光層とシリコーンゴム層間の接着力のため
に、層間に公知のシリコーンプライマやシランカップリ
ング剤層を設けたり、シリコーンゴム層あるいは感光層
にシリコーンプライマやシランカップリング剤を添加す
ると効果的である。
In the printing plate used in the present invention, the adhesion between the support and the photosensitive layer, and the adhesion between the photosensitive layer and the silicone rubber layer are very important for basic plate performance such as image reproducibility and printing durability. Accordingly, it is possible to provide an adhesive layer between the layers or add an adhesion improving component to each layer. In particular, it is effective to provide a known silicone primer or silane coupling agent layer between the layers or add a silicone primer or silane coupling agent to the silicone rubber layer or the photosensitive layer for the adhesive force between the photosensitive layer and the silicone rubber layer. is there.

以上説明したようにして構成された水なし平版印刷原
版の表面に薄い保護フィルムをラミネートすることもで
きる。
A thin protective film may be laminated on the surface of the waterless lithographic printing plate precursor configured as described above.

本発明で用いられる水なし平版印刷版原版は、例えば
次のようにして製造される。まず支持体上に、リバース
ロールコータ、エアナイフコータ、メーヤバーコータな
どの通常のコータ、あるいはホエラのような回転塗布装
置を用い、感光層を構成すべき組成物溶液を塗布、乾燥
および必要に応じて熱キュア後、必要ならば該感光層の
上に同様な方法で接着層を塗布、乾燥してからシリコー
ンガム溶液を感光層または接着層上に同様の方法で塗布
し、通常50〜130℃の温度で数分間熱処理して、十分に
硬化せしめてシリコーンゴム層を形成する。必要なら
ば、保護フィルムを該シリコーンゴム層上にラミネータ
ー等を用いカバーして使用する。
The waterless planographic printing plate precursor used in the present invention is produced, for example, as follows. First, using a normal coater such as a reverse roll coater, an air knife coater, a Mayer bar coater, or a spin coater such as a hoela on a support, apply a composition solution to form a photosensitive layer, dry it, and if necessary. After heat curing, if necessary, an adhesive layer is applied on the photosensitive layer by a similar method, dried and then a silicone gum solution is applied on the photosensitive layer or the adhesive layer by a similar method, usually 50 to 130 ° C. Heat treatment is carried out at a temperature of several minutes for a sufficient curing to form a silicone rubber layer. If necessary, the protective film is used by covering the silicone rubber layer with a laminator or the like.

本発明において画像露光後の塩基処理に用いられる塩
基としては、アミン化合物(脂肪族鎖式アミン、脂肪族
環式アミン、芳香族アミン、ヘテロ環式アミンの一級、
二級、三級アミンおよびモノアミン、ジアミン、トリア
ミン、テトラアミン、ポリアミンなど)などを挙げるこ
とができる。例えばアンモニア、メチルアミン、エチル
アミン、ジメチルアミン、ジエチルアミン、トリエチル
アミン、トリメチルアミン、プロピルアミン、ブチルア
ミン、アミルアミン、ジプロピルアミン、ジブチルアミ
ン、ジアミルアミン、トリプロピルアミン、トリブチル
アミン、メチルジエチルアミン、エチレンジアミン、ト
リメチレンジアミン、テトラメチレンジアミン、ポリエ
チレンイミン、ベンジルアミン、N,N−ジメチルベンジ
ルアミン、N,N−ジエチルベンジルアミン、N,N−ジプロ
ピルベンジルアミン、o−またはm−またはp−メトキ
シまたはメチルベンジルアミン、N,N−ジ(メトキシベ
ンジル)アミン、、β−フェニルエチルアミン、ε,δ
−フェニルアミルアミン、γ−フェニルプロピルアミ
ン、シクロヘキシルアミン、アニリン、モノメチルアニ
リン、ジメチルアニリン、トルイジン、ベンジジン、α
またはβ−ナフチルアミン、oまたはm−またはp−フ
ェニレジアミン、ピロリジン、ピペリジン、ピペラジ
ン、モルホリン、ウロトロビン、ジアザビシクロウンデ
カン、ピロール、ピリジン、キノリン、ヒドラジン、フ
ェニルヒドラジン、N,N′−ジフェニルヒドラジン、ヒ
ドロキシルアミン、尿素、セミカルバジド、チオ尿素、
水酸化テトラアルキルアンモニウム、モノエタノールア
ミン、N−メチルエタノールアミン、N−エチルエタノ
ールアミン、N−n−ブチルエタノールアミン、ジエタ
ノールアミン、トリエタノールアミン、2−(2−アミ
ノエチル)エタノール、2−アミノ−2−メチル−1,3
−プロパンジオール、2−アミノ−1,3−プロパンジオ
ール、2−アミノ−2−ヒドロキシメチル−1,3−プロ
パンジオール、3−ヒドロキシプロピルメチルアミン、
4−ヒドロキシブチルメチルアミン、3−メトキシプロ
ピルアミン、3−エトキシプロピルアミン、3−プロポ
キシプロピルアミン、3−イソプロポキシプロピルアミ
ン、3−ブトキシプロピルアミン、3−イソブトキシプ
ロピルアミン、2−エチルヘキシロキシプロピルアミ
ン、2−エトキシエチルアミン、2−プロポキシエチル
アミン、2−ブトキシエチルアミン、2−(アミノエト
キシ)エタノールなどが用いられる。
As the base used in the base treatment after image exposure in the present invention, amine compounds (aliphatic chain amine, aliphatic cyclic amine, aromatic amine, heterocyclic amine primary,
Secondary and tertiary amines and monoamines, diamines, triamines, tetraamines, polyamines, etc.) and the like. For example, ammonia, methylamine, ethylamine, dimethylamine, diethylamine, triethylamine, trimethylamine, propylamine, butylamine, amylamine, dipropylamine, dibutylamine, diamylamine, tripropylamine, tributylamine, methyldiethylamine, ethylenediamine, trimethylenediamine, tetramethylamine. Methylenediamine, polyethyleneimine, benzylamine, N, N-dimethylbenzylamine, N, N-diethylbenzylamine, N, N-dipropylbenzylamine, o- or m- or p-methoxy or methylbenzylamine, N, N-di (methoxybenzyl) amine, β-phenylethylamine, ε, δ
-Phenylamylamine, γ-phenylpropylamine, cyclohexylamine, aniline, monomethylaniline, dimethylaniline, toluidine, benzidine, α
Or β-naphthylamine, o or m- or p-phenylenediamine, pyrrolidine, piperidine, piperazine, morpholine, urotrobin, diazabicycloundecane, pyrrole, pyridine, quinoline, hydrazine, phenylhydrazine, N, N′-diphenylhydrazine, Hydroxylamine, urea, semicarbazide, thiourea,
Tetraalkylammonium hydroxide, monoethanolamine, N-methylethanolamine, N-ethylethanolamine, Nn-butylethanolamine, diethanolamine, triethanolamine, 2- (2-aminoethyl) ethanol, 2-amino- 2-methyl-1,3
-Propanediol, 2-amino-1,3-propanediol, 2-amino-2-hydroxymethyl-1,3-propanediol, 3-hydroxypropylmethylamine,
4-hydroxybutylmethylamine, 3-methoxypropylamine, 3-ethoxypropylamine, 3-propoxypropylamine, 3-isopropoxypropylamine, 3-butoxypropylamine, 3-isobutoxypropylamine, 2-ethylhexyloxy Propylamine, 2-ethoxyethylamine, 2-propoxyethylamine, 2-butoxyethylamine, 2- (aminoethoxy) ethanol and the like are used.

これらの塩基は単独あるいは混合して、液状あるいは
気相状で用いられる。液状の場合は例えば塩基そのも
の、あるいは溶液の形で用いられる。溶液として用いる
場合、溶媒は水または有機溶剤または両者の混合溶液の
いずれでもよい。
These bases are used alone or as a mixture, and are used in a liquid or vapor phase. In the case of a liquid, for example, the base itself or a solution is used. When used as a solution, the solvent may be water, an organic solvent, or a mixed solution of both.

処理方法としては、塩基処理液に浸漬するか、あるい
はハケやパッドを用いて処理液で均一に版面をぬらす
か、また自動現像機のようにシヤワー方法で版面を濡ら
せばよい。
As the processing method, the plate surface may be dipped in a base processing solution, or the plate surface may be uniformly wetted with a processing solution using a brush or a pad, or the plate surface may be wet by a shower method like an automatic processor.

処理時間は特に限定されず、使用する塩基の強さと濃
度によって適宜選択できるが、通常処理液にふれると即
時に効果があらわれ、かつ長時間接触させても何ら効果
に変化はない。通常約10秒〜5分程度でよい。
The treatment time is not particularly limited and can be appropriately selected depending on the strength and concentration of the base used, but usually the effect is immediately exhibited when the treatment solution is touched, and there is no change in the effect even if it is left in contact for a long time. Usually, it takes about 10 seconds to 5 minutes.

現像液としては、水なし平版印刷版において通常提案
されているものが使用できる。例えば、水、下記の極性
溶剤、水に下記の極性溶剤を添加したものが好適であ
る。
As the developing solution, those usually proposed for waterless planographic printing plates can be used. For example, water, the following polar solvent, and water to which the following polar solvent is added are suitable.

アルコール類(メタノール、エタノールなど)、 エーテル類(エチルセロソルブ、エチルカルビトー
ル、ブチルカルビトールなど)、 エステル類(セロソルブアセテート、カルビトールア
セテートなど)。
Alcohols (methanol, ethanol, etc.), ethers (ethyl cellosolve, ethyl carbitol, butyl carbitol, etc.), esters (cellosolve acetate, carbitol acetate, etc.).

[実施例] 以下実施例により本発明を具体的に説明する。[Examples] The present invention will be specifically described below with reference to Examples.

実施例1、比較例1 厚さ0.3mmのアルミ板(住友軽金属(株)製)に下記
のプライマ組成物を塗布し、200℃、2分間熱処理して
5μmのプライマ層を設けた。
Example 1 and Comparative Example 1 An aluminum plate having a thickness of 0.3 mm (produced by Sumitomo Light Metal Co., Ltd.) was coated with the following primer composition and heat-treated at 200 ° C. for 2 minutes to form a 5 μm primer layer.

ポリウレタン樹脂(サンプレンLQ−T1331、三洋化成
工業(株)製) 100重量部 ブロックイソシアネート(タケネートB830、武田薬品
(株)製) 20重量部 エポキシ・フェノール・尿素樹脂(SJ9372、関西ペイ
ント(株)製) 8重量部 ジメチルホルムアミド 725重量部 続いてこの上に下記の感光層組成物をバーコータを用
いて塗布し、110℃の熱風中で1分間乾燥して厚さ2μ
mの感光層を設けた。
Polyurethane resin (Sampren LQ-T1331, Sanyo Kasei Co., Ltd.) 100 parts by weight Blocked isocyanate (Takenate B830, Takeda Pharmaceutical Co., Ltd.) 20 parts by weight Epoxy / phenol urea resin (SJ9372, Kansai Paint Co., Ltd.) ) 8 parts by weight Dimethylformamide 725 parts by weight Subsequently, the following photosensitive layer composition was coated on this using a bar coater and dried in hot air at 110 ° C. for 1 minute to give a thickness of 2 μm.
m photosensitive layer was provided.

ナフトキノン−1,2−ジアジド−5−スルホン酸とフ
ェノールホルムアルデヒドノボラック樹脂(住友デュレ
ズ製:スミライトレジンPR50622)の部分エステル(元
素分析法によるエステル化度25%) 100 重量部 4,4′−ジフェニルメタンジイソシアネート 40 重量部 ジブチル錫ジアセテート 0.2重量部 4,4′−ジエチルアミノベンゾフェノン 5 重量部 P−トルエンスルホン酸 0.8重量部 テトラヒドロフラン 800 重量部 ついでこの感光層の上に次の組成を有するシリコーン
ゴム組成物を回転塗布後、115℃、露点30℃、3.5分間湿
熱硬化させて2.3μmのシリコーンゴム層を設けた。
Partial ester of naphthoquinone-1,2-diazide-5-sulfonic acid and phenol formaldehyde novolak resin (Sumitomo Durez: Sumirite resin PR50622) (esterification degree 25% by elemental analysis) 100 parts by weight 4,4'-diphenylmethane Diisocyanate 40 parts by weight Dibutyltin diacetate 0.2 parts by weight 4,4'-Diethylaminobenzophenone 5 parts by weight P-toluenesulfonic acid 0.8 parts by weight Tetrahydrofuran 800 parts by weight Then, a silicone rubber composition having the following composition was formed on the photosensitive layer. After spin coating, it was heat-cured at 115 ° C., dew point 30 ° C. for 3.5 minutes to form a 2.3 μm silicone rubber layer.

ポリジメチルシロキサン(分子量約25,000、末端OH
基) 100 重量部 ビニルトリ(メチルエチルケトオキシム)シラン 8 重量部 ジブチル錫ジアセテート 0.1重量部 γ−アミノプロピルトリメトキシシラン 0.5重量部 “アイソパー"E(エクソン化学(株)製) 1400 重量部 上記のようにして得られた積層板に、厚さ10μmのポ
リプロピレンフィルム“トレファン”(東レ(株)製)
をカレンダーローラーを用いてラミネートし、水なし平
版印刷原版を得た。
Polydimethylsiloxane (Molecular weight about 25,000, terminal OH
100 parts by weight Vinyltri (methylethylketoxime) silane 8 parts by weight Dibutyltin diacetate 0.1 parts by weight γ-aminopropyltrimethoxysilane 0.5 parts by weight "Isopar" E (manufactured by Exxon Chemical Co.) 1400 parts by weight As described above A 10 μm thick polypropylene film “Trefan” (manufactured by Toray Industries, Inc.)
Was laminated using a calendar roller to obtain a waterless planographic printing original plate.

このようにして得られた水なし平版印刷版に、150線
/インチの網点画像を持つポジフィルムを真空密着さ
せ、ケミカル灯(トーコー製、マスタープリンターA3)
を用い、2.5mW/cm2の照度(オーク製作所製UVメータ
ー、ライトメジャータイプUV−402A使用)で30秒間画像
露光した。
The waterless lithographic printing plate thus obtained was vacuum-contacted with a positive film having a halftone dot image of 150 lines / inch, and a chemical lamp (manufactured by Toko, master printer A3)
Image exposure was carried out for 30 seconds under an illuminance of 2.5 mW / cm 2 (UV meter manufactured by Oak Manufacturing Co., Ltd., using light measure type UV-402A).

次いで、この版を“アイソパー"H/ブチルカルビトー
ル/エチルセロソルブ/N−メチルエタノールアミン=87
/5/5/3(重量比)からなる塩基処理液に浸漬する。1分
間すると露光部のみが褐色に着色する。
This plate is then treated with “Isopar” H / butyl carbitol / ethyl cellosolve / N-methyl ethanolamine = 87.
/ 5/5/3 (weight ratio) soak in base treatment liquid. After 1 minute, only the exposed area is colored brown.

次いで版を処理液から取り出し、ゴムスキージで塩基
処理液を除去した後、上記のケミカル灯を用い、2.5mW/
cm2の照度で2分間全面露光を施した。続いてこの版を
水/ブチルカルビトール/2−エチル酪酸/クリスタルル
バイオレット=70/30/2/0.2(重量比)からなる現像液
に1分間浸漬し、現像パッドで軽くこすると、画像露光
されなかった部分のシリコーンゴム層が除去されて感光
層表面が露出し画像部を形成するが、画像露光された部
分のシリコーンゴム層は現像液に侵されずに残り、非画
線部となり、原画フィルムに忠実な画像の印刷版が得ら
れた。
Next, the plate was taken out of the treatment liquid, and after removing the base treatment liquid with a rubber squeegee, 2.5 mW /
The entire surface was exposed for 2 minutes with an illuminance of cm 2 . Then, this plate is immersed in a developer consisting of water / butyl carbitol / 2-ethylbutyric acid / crystall violet = 70/30/2 / 0.2 (weight ratio) for 1 minute and lightly rubbed with a development pad to expose the image. The silicone rubber layer of the unexposed portion is removed to expose the surface of the photosensitive layer to form an image portion, but the silicone rubber layer of the image exposed portion remains without being attacked by the developer and becomes a non-image area portion. A printing plate of an image faithful to the original film was obtained.

この印刷版をオフセット印刷機(ハマダスター500CD
A)に取り付け、東洋インキ(株)製“東洋キングウル
トラTKUアクワレスGアイPL"を用いて印刷を行ない、網
点再現性を評価したところ、150線/インチの網点3〜9
7%が再現された極めて良好な画像を持つ印刷物が得ら
れた。
This printing plate is offset printing machine (Hamaduster 500CD
It was attached to A) and printing was performed using "Toyo King Ultra TKU Aquares G Eye PL" manufactured by Toyo Ink Co., Ltd., and the dot reproducibility was evaluated.
Prints with very good images with 7% reproduction were obtained.

比較例として全面露光のみを行なわないで製版した印
刷板を同様な試験を行なったところ、網点再現性は10〜
85%と悪いものであった。しかも現像性が悪く、現像時
間が5分間と長くかかったため、非画像部シリコーンゴ
ム層に傷が入った。
As a comparative example, the same test was carried out on a printing plate produced without exposing the entire surface, and the dot reproducibility was 10 to 10.
It was as bad as 85%. In addition, the developability was poor, and the development time was as long as 5 minutes, so the non-image area silicone rubber layer was scratched.

実施例2、比較例2 化成処理アルミ板(住友軽金属(株)製)にエステル
化度44%のフェノールホルムアルデヒドノボラック樹脂
(住友ベークライト(株)製:スミライトレジンPR5023
5)のナフトキノン−1,2−ジアジド−5−スルホン酸エ
ステル(エタノール可溶性成分9.7重量%、エステル化
度はIRスペクトルから定量)の4重量%ジオキサン溶液
を塗布後、60℃で3分間乾燥させて厚さ1.8μmの感光
層を得た。この感光層の上に次の組成を有するシリコー
ンガム組成物の7%“アイソパー"E溶液に、シリコーン
組成物に対し4重量%のγ−アミノプロピルトリエトキ
シシラン(UCC製:A1100)を添加し、均一に撹拌後ホエ
ラーで塗布した。乾燥後120℃、露点25℃、4分間加熱
硬化させて厚さ2.2μmのシリコーンゴム層を得た。
Example 2, Comparative Example 2 Phenol formaldehyde novolac resin (Sumitomo Bakelite Co., Ltd .: Sumirite Resin PR5023) with a degree of esterification of 44% on a chemical conversion treated aluminum plate (Sumitomo Light Metal Co., Ltd.).
After applying a 4% by weight dioxane solution of naphthoquinone-1,2-diazide-5-sulfonate (9.7% by weight of ethanol-soluble component, the degree of esterification is determined from the IR spectrum) of 5) in dioxane for 3 minutes. To obtain a photosensitive layer having a thickness of 1.8 μm. On this photosensitive layer, 4% by weight of γ-aminopropyltriethoxysilane (UCC: A1100) based on the silicone composition was added to a 7% “Isoper” E solution of a silicone gum composition having the following composition. After uniform stirring, it was applied with a whaler. After drying, it was heated and cured at 120 ° C. and a dew point of 25 ° C. for 4 minutes to obtain a silicone rubber layer having a thickness of 2.2 μm.

ポリジメチルシロキサン(分子量約80,000、両末端OH
基) 100 重量部 エチルトリアセトキシシラン 5 重量部 ジブチル錫ジアセテート 0.2重量部 上記のようにして得られた水なし平版印刷原版に150
線/インチの網点画像を持つポジフィルムを真空密着
し、実施例1で用いたケミカル灯で、2.5mw/cm2の照度
で60秒間画像露光した。露光された版をプロパノール/
モノエタノールアミン=95/5(重量比)からなる塩基処
理液に浸漬し、画像露光された部分が褐色に変化した
後、塩基処理液を除去し、上記のケミカル灯で2.5mW/cm
2の照度で3分間全面露光を施した。
Polydimethylsiloxane (Molecular weight about 80,000, OH at both ends
100 parts by weight Ethyltriacetoxysilane 5 parts by weight Dibutyltin diacetate 0.2 parts by weight 150 parts by weight of the waterless lithographic printing plate precursor obtained as described above.
A positive film having a halftone dot image of lines / inch was vacuum-contacted, and imagewise exposed to the chemical lamp used in Example 1 at an illuminance of 2.5 mw / cm 2 for 60 seconds. Exposed plate in propanol /
After dipping in a base treatment solution consisting of monoethanolamine = 95/5 (weight ratio) and the image-exposed area turned brown, the base treatment solution was removed and 2.5 mW / cm 2 with the above chemical lamp
The entire surface was exposed at an illuminance of 2 for 3 minutes.

次いで現像パッドに現像液(エタノール)をひたし、
版面を軽くこすると、画像露光されなかった部分のシリ
コーンゴム層と感光層が除去されてアルミ表面が露出し
画像部を形成するが、画像露光された部分のシリコーン
ゴム層は強固に接着して残存し非画線部となった。
Next, soak the developer (ethanol) in the development pad,
When the plate surface is lightly rubbed, the silicone rubber layer and the photosensitive layer in the non-image-exposed areas are removed and the aluminum surface is exposed to form the image area, but the silicone rubber layer in the image-exposed area adheres firmly. It remained and became a non-image area.

この印刷版を実施例1と同一のオフセット印刷機に取
り付け、東洋インキ(株)製“東洋キングウルトラTKU
アクアレスGアイPL"を用いて印刷したところ、150線/
インチの網点5〜95%が再現されて良好な画像をもつ印
刷物が得られた。
This printing plate was attached to the same offset printing machine as in Example 1 and manufactured by Toyo Ink Co., Ltd. “Toyo King Ultra TKU”.
Printed using AQUALES G eye PL ", 150 lines /
Prints having good images were obtained by reproducing 5 to 95% of halftone dots.

比較例として全面露光のみを行なわないで製版した印
刷物を同様な試験を行なったところ、網点再現性は10〜
80%と悪いものであった。しかも現像時間は7分間と長
くかかった。
As a comparative example, the same test was carried out on a printed matter prepared without exposing the entire surface, and the dot reproducibility was 10 to 10.
It was as bad as 80%. Moreover, the development time was as long as 7 minutes.

参考例 本参考例はネガティブワーキングを、実施例1のポジ
ティブワーキングで用いたものと同一の現像液を使用し
て行なうことができるを示すものである。
Reference Example This reference example shows that negative working can be performed using the same developer as that used in the positive working of Example 1.

すなわち、実施例1で得られた水なし平版印刷版に、
実施例1で用いたケミカル灯を用い、2.5mw/cm2の照度
で15秒間全面露光を施した。次いで、150線/インチの
網点画像を持つネガフィルムを真空密着し、ケミカル灯
を用い、2.5mw/cm2の照度で2分間露光した。
That is, in the waterless planographic printing plate obtained in Example 1,
Using the chemical lamp used in Example 1, overall exposure was performed for 15 seconds with an illuminance of 2.5 mw / cm 2 . Then, a negative film having a halftone dot image of 150 lines / inch was vacuum-contacted and exposed for 2 minutes with a chemical lamp at an illuminance of 2.5 mw / cm 2 .

続いて、実施例1で用いた塩基処理液に1分間浸漬し
た後、版を取り出し、ゴムスキージで塩基処理液を除去
した後、実施例1で用いた現像液に浸し現像パッドで軽
くこすると画像状に露光された部分のシリコーンゴム層
が除去されて感光層表面が露出した。一方、画像状に露
光されなかった部分のシリコーンゴム層は強固に残存し
ており、ネガティブワーキングの画像が得られた。
Subsequently, after immersing the plate in the base treatment liquid used in Example 1 for 1 minute, the plate was taken out, the base treatment liquid was removed with a rubber squeegee, and the plate was immersed in the developer used in Example 1 and lightly rubbed with a developing pad. The exposed portion of the silicone rubber layer was removed to expose the surface of the photosensitive layer. On the other hand, the portion of the silicone rubber layer that was not exposed imagewise remained firmly, and a negative working image was obtained.

この印刷版を実施例1と同様な方法で印刷を行ない、
網点再現性を評価したところ、150線/インチの網点2
〜97%が再現された。
This printing plate is printed in the same manner as in Example 1,
When the halftone dot reproducibility was evaluated, halftone dots of 150 lines / inch 2
~ 97% was reproduced.

[発明の効果] 本発明による製版法はポジティブワーキングに適用し
た場合にも現像性が良く、現像ラチチュードが広くなる
利点がある。またポジティブワーキングとネガティブワ
ーキングを同一の現像液で処理できる等の実用効果が期
待できる。
[Effects of the Invention] The plate-making method according to the present invention has the advantages of good developability and wide development latitude even when applied to positive working. Further, practical effects such as positive working and negative working can be processed with the same developer can be expected.

Claims (1)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】支持体上にキノンジアジド構造を含む物質
を構成成分とする感光層およびシリコーンゴム層をこの
順に設けてなる水なし平版印刷版を、画像露光した後、
塩基処理を施し、次いで全面露光を施した後、現像処理
を施すことを特徴とする水なし平版印刷版の製版方法。
1. A waterless lithographic printing plate comprising a support, on which a photosensitive layer having a substance containing a quinonediazide structure as a constituent and a silicone rubber layer are provided in this order.
A plate-making method for a waterless planographic printing plate, which comprises performing a base treatment, then exposing the entire surface, and then performing a developing treatment.
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